灭弧室制造技术

技术编号:18765701 阅读:27 留言:0更新日期:2018-08-25 11:37
本发明专利技术涉及低压电器领域,具体涉及一种灭弧室,其包括上引弧板、下引弧板,以及设置在上引弧板和下引弧板之间的栅片组;所述栅片组的左右两端分别为排气端和进口端,栅片组包括设置在上引弧板下方的第一灭弧栅片,第一灭弧栅片位于进口端的一端设置第一栅片开口,第一栅片开口的最深处与上引弧板的靠近排气端的一端端面的间距为d1,‑10mm<d1<10mm;本发明专利技术的灭弧室,其对进入灭弧室的电弧的切割更加充分,且可以将电弧控制在灭弧室内,提高了灭弧室的容量和包含灭弧室的开关电器的分断性能。

【技术实现步骤摘要】
灭弧室
本专利技术涉及低压电器领域,具体涉及一种灭弧室。
技术介绍
在现有开关电器中,经常用灭弧室来熄灭电弧,灭弧室的灭弧能力直接影响到开关电器的分断能力,决定了其用电的安全性。当前,断路器产品的开断故障电弧都是依靠触头导电回路产生的磁场和高温气流的气动力驱动,将电弧快速拉或推向灭弧室,电弧经动/静触头对应的引弧板进入灭弧室内部,由灭弧室的多片灭弧栅片将电弧切割成数段,从而提高电弧电压,以达到快速熄灭电弧的目的。但是,现有灭弧室多存在,灭弧栅片切割电弧不充分的情况,即电弧进入灭弧室后,灭弧室两端的电弧得到了较充分的切割,而灭弧室中部区域的电弧则切割不充分或未被切割,而且存在电弧进入灭弧栅片之间后又重新逃出灭弧栅片的问题。上述问题直接影响灭弧室的容量和包含灭弧室的开关电器的分断性能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的缺陷,提供一种灭弧室,其对进入灭弧室的电弧的切割更加充分,且可以将电弧控制在灭弧室内,提高了灭弧室的容量和包含灭弧室的开关电器的分断性能。为实现上述目的,本专利技术采用了如下技术方案:一种灭弧室,其包括上引弧板1、下引弧板3,以及设置在上引弧板1和下引弧板3之间本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种灭弧室,其特征在于:其包括上引弧板(1)、下引弧板(3),以及设置在上引弧板(1)和下引弧板(3)之间的栅片组(6);所述栅片组(6)的左右两端分别为排气端(600)和进口端(601),栅片组(6)包括设置在上引弧板(1)下方的第一灭弧栅片(61),第一灭弧栅片(61)位于进口端(601)的一端设置第一栅片开口,第一栅片开口的最深处与上引弧板(1)的靠近排气端(600)的一端端面的间距为d1,‑10mm<d1<10mm。

【技术特征摘要】
1.一种灭弧室,其特征在于:其包括上引弧板(1)、下引弧板(3),以及设置在上引弧板(1)和下引弧板(3)之间的栅片组(6);所述栅片组(6)的左右两端分别为排气端(600)和进口端(601),栅片组(6)包括设置在上引弧板(1)下方的第一灭弧栅片(61),第一灭弧栅片(61)位于进口端(601)的一端设置第一栅片开口,第一栅片开口的最深处与上引弧板(1)的靠近排气端(600)的一端端面的间距为d1,-10mm<d1<10mm。2.根据权利要求1所述的灭弧室,其特征在于:所述栅片组(6)包括设置在下引弧板(3)上方的第四灭弧栅片(64),第四灭弧栅片(64)位于进口端(601)的一端设置第四栅片开口,第四栅片开口的最深处与下引弧板(3)的靠近排气端(600)的一端端面的间距为d1,-10mm<d1<10mm。3.根据权利要求1或2所述的灭弧室,其特征在于:所述第一栅片开口的宽度由其开口向内逐渐减小,包括梯形部分和与梯形部分相通的蹄形部分,梯形部分的两腰是向第一栅片开口中部突起的弧形,梯形部分的长底边与第一栅片开口的开口端重合,短底边位于第一灭弧栅片(61)的中部,蹄形部分的直边与梯形部分的短底边的一端重合,使蹄形部分的最深处偏向上引弧板(1)的轴线的一侧;所述栅片组(6)的第四灭弧栅片(64)设置第四栅片开口,第四栅片开口的结构与第一栅片开口的结构相同。4.根据权利要求1或2所述的灭弧室,其特征在于:所述栅片组(6)包括由上而下依次设置的上部栅片组、中部栅片组和下部栅片组,上部栅片组包括多片依次设置在上引弧板(1)下方的多片上灭弧栅片,上引弧板(1)的靠近排气端(600)的端部和多片上灭弧栅片的位于排气端(600)的端部由上而下成阶梯状排列,下部栅片组包括多片依次设置在下引弧板(3)上方的多片下灭弧栅片,下引弧板(3)的靠近排气端(600)的端部和多片下灭弧栅片的位于排气端(600)的端部由下而上成倒悬的阶梯状排列,使排气端(600)的轴向截面成梯形。5.根据权利要求4所述的灭弧室,...

【专利技术属性】
技术研发人员:周荣伟许文良周英姿韩丹阳宗兆科
申请(专利权)人:上海电科电器科技有限公司
类型:发明
国别省市:上海,31

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