【技术实现步骤摘要】
一种超快速的硅基表面质量检测系统
本专利技术涉及硅基表面质量检测的
，更具体地，涉及一种超快速的硅基表面质量检测系统。
技术介绍
硅半导体材料目前是当今许多工业上的一种非常关键的基础材料。硅半导体对清洁能源和军事工业等产业的发展具有相当重要的作用。世界上目前90%以上的半导体器件都是用硅材料制成的。硅产业在过去的一些年中，以每年大于百分之十的速度在增长。单晶硅抛光片已经广泛应用于制造各种分立元件；硅的制造过程十分复杂，由于工业上工艺流程的不完善以及各种加工中的缺陷很容易在硅表面形成缺陷，从而硅产品的性能产生严重的影响。目前，硅生产厂商通过批次抽检对硅产品加工进行质量控制，在表面质量检测这方面主要检测产品表面的粗糙度、弯曲度、裂纹、刮痕以及油污等缺陷。目前对于硅基表面质量检测的技术有许多种方法，但绝大部分受限于它的成本以及速度，使之应用于工业上大规模硅晶表面质量检测成为障碍。2009年，美国的B.Jalali实验室提出了一种基于时间拉伸的成像手段，这种手段能够极大的提升成像速度，最快能达到数十兆HZ。利用这种成像技术，能够观察到曾经传统CCD所不能探测到的现象...
【技术保护点】
1.一种超快速的硅基表面质量检测系统，其特征在于，包括锁模飞秒脉冲光源（1），中红外光波滤波器（2），色散光纤（3），掺铒光纤放大器（4），衍射光栅（9），基于透镜组成的4f成像系统，物镜（11），数字相干接收机（13），高速采样示波器（14）以及数据处理恢复所需的电脑（15），另外还包括实验中所需用到的一些光纤，环形器（7），耦合器，光纤偏振控制器（6），准直器（8）；还包括相位延迟线（5），透镜（10），硅基样品（12）；所述的锁模飞秒脉冲光源（1）、中红外光波滤波器（2）、色散光纤（3）、掺铒光纤放大器（4）依次连接，掺铒光纤放大器（4）再通过相位延迟线（5）或光纤偏...
【技术特征摘要】
1.一种超快速的硅基表面质量检测系统，其特征在于，包括锁模飞秒脉冲光源（1），中红外光波滤波器（2），色散光纤（3），掺铒光纤放大器（4），衍射光栅（9），基于透镜组成的4f成像系统，物镜（11），数字相干接收机（13），高速采样示波器（14）以及数据处理恢复所需的电脑（15），另外还包括实验中所需用到的一些光纤，环形器（7），耦合器，光纤偏振控制器（6），准直器（8）；还包括相位延迟线（5），透镜（10），硅基样品（12）；所述的锁模飞秒脉冲光源（1）、中红外光波滤波器（2）、色散光纤（3）、掺铒光纤放大器（4）依次连接，掺铒光纤放大器（4...
【专利技术属性】
技术研发人员：李朝晖，王绍祥，冯元华，甄智燊，吴振华，
申请(专利权)人：中山大学，
类型：发明
国别省市：广东,44
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