一种陶瓷制釉工艺制造技术

本发明专利技术涉及陶瓷制备技术领域，具体的说是一种陶瓷制釉工艺，该工艺包括以下步骤：S1，将原料按照一定的配比放入混合设备中进行混合搅拌；S2，将S1中混合搅拌后的釉均匀涂抹在瓷器上；S3，将S2涂覆有釉的瓷器放在阴凉处阴干，然后放入窑炉中进行烧制；S4，将S3中烧制后的瓷器从窑炉中取出。本工艺采用的混合设备可实现对釉原料的充分混合搅拌，从而提高釉的内在质量，使得烧制出的瓷器表面更加的均匀细腻。

A ceramic glazing process

The invention relates to the technical field of ceramic preparation, in particular to a ceramic glazing process, which comprises the following steps: S1, mixing and stirring the raw materials according to a certain proportion in a mixing equipment; S2, smearing the glaze after mixing and stirring in S1 evenly on the porcelain; S3, putting the glazed porcelain coated with S2 in a cool place. Dry and then put into a kiln for firing; S4, remove the porcelain after firing from S3. The mixing equipment adopted in this process can realize the full mixing and stirring of glaze raw materials, thereby improving the internal quality of glaze, making the surface of fired porcelain more uniform and delicate.

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷制釉工艺
本专利技术涉及陶瓷制备
，具体的说是一种陶瓷制釉工艺。
技术介绍
釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层，是用矿物原料原料按一定比例配合经过研磨制成釉浆，施于坯体表面，经一定温度煅烧而成；能增加制品的机械强度、热稳定性和电介强度，还有美化器物、便于拭洗、不被尘土腥秽侵蚀等特点。在釉的制作过程中，需要将多种原料混合在一起，目前的搅拌桶分为底部出液和侧部出液两种；底部出液口在长时间使用后，容易在液体重力作用下导致外漏，密封性不够高，并且操作不方便，占用空间大；侧部出液存在着由于桶体底部为平面状，在排液时会有部分液体残留在桶体底部，排液不彻底。
技术实现思路
针对现有技术中的问题，本专利技术提供了一种陶瓷制釉工艺，本工艺采用的混合设备，通过支撑机构带动密封机构转动，使得密封机构在搅拌时处于水平状态，使得搅拌更均匀，当需要出液时，可通过把手带动密封机构转动至倾斜状态，使得液体能够快速通过排液管流出，从而有效的加快的排液速度，避免液体残留；密封机构处于水平状态时，密封板能够对排液口进行封堵，而当密封机构倾斜时，密封板便会离开排液口，实现排液管的自动封闭和打开；通过波本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种陶瓷制釉工艺，其特征在于，该工艺包括以下步骤：S1，将原料按照一定的配比放入混合设备中进行混合搅拌；S2，将S1中混合搅拌后的釉均匀涂抹在瓷器上；S3，将S2涂覆有釉的瓷器放在阴凉处阴干，然后放入窑炉中进行烧制；S4，将S3中烧制后的瓷器从窑炉中取出；该制釉工艺中采用的混合设备包括外护机构(1)、密封机构(2)、支撑机构(3)、搅拌机构(4)、排液管(5)和切割机构(6)；所述外护机构(1)的内部底部安装有所述密封机构(2)，所述密封机构(2)用以对所述外护机构(1)的底部进行封堵；所述密封机构(2)的底部安装有支撑机构(3)，所述支撑机构(3)用以对所述密封机构(4)进行调节；所述外...

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷制釉工艺，其特征在于，该工艺包括以下步骤：S1，将原料按照一定的配比放入混合设备中进行混合搅拌；S2，将S1中混合搅拌后的釉均匀涂抹在瓷器上；S3，将S2涂覆有釉的瓷器放在阴凉处阴干，然后放入窑炉中进行烧制；S4，将S3中烧制后的瓷器从窑炉中取出；该制釉工艺中采用的混合设备包括外护机构(1)、密封机构(2)、支撑机构(3)、搅拌机构(4)、排液管(5)和切割机构(6)；所述外护机构(1)的内部底部安装有所述密封机构(2)，所述密封机构(2)用以对所述外护机构(1)的底部进行封堵；所述密封机构(2)的底部安装有支撑机构(3)，所述支撑机构(3)用以对所述密封机构(4)进行调节；所述外护机构(1)的内部安装有所述搅拌机构(4)，所述搅拌机构(4)用以对液体进行搅拌混合；所述外护机构(1)的侧壁连接有所述排液管(5)，所述排液管(5)用以将液体从侧面排出；所述切割机构(6)设于所述搅拌机构(4)的内部，所述切割机构(4)用以对颗粒物料进行粉碎。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷制釉工艺，其特征在于：所述外护机构(1)包括底座(11)和箱体(12)，所述箱体(12)的侧壁底部开有排液口(121)，所述箱体(12)的底部设有所述底座(11)，所述排液口(121)的出口处连通有所述排液管(5)，所述排液管(5)倾斜向下设置。3.根据权利要求2所述的一种陶瓷制釉工艺，其特征在于：所述支撑机构(3)包括支撑座(31)、限位管(32)、转柱(33)、支杆(34)、转盘(35)以及把手(36)，所述支撑座(31)设于所述箱体(12)的内部底面，所述支撑座(31)的顶部设有所述限位管(32)，所述限位管(32)的内部转动连接所述转柱(33)，所述转柱(33)的表面两侧垂直设有所述支杆(34)，所述转柱(33)的端部设有所述把手(36)，所述转盘(35)设于所述箱体(12)的外壁与所述转柱(33)相对位置处。4.根据权利要求3所述的一种陶瓷制釉工艺，其特征在于：所述转盘(35)的表面开有45°弧形结构的滑槽(351)，所述滑槽(351)设于...

【专利技术属性】
技术研发人员：何明松，李西，
申请(专利权)人：合肥沃智信息科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34