The invention relates to surface treatment of substrates by coating a coating, in particular to film technology. The aim of the present invention is to provide a simple and reliable optical coating with superior availability and its production technology, which is suitable for large-scale production at a low level. In the composite optical coating, consisting of a multilayer antireflective coating with a high index of refraction index and a low index of refraction and a protective coating, a modified adhesive layer of 5 to 200nm between the anti reflective coating and the protective coating is made to solve the problems. Two variants of the method for producing the composite optical coating are also provided.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】复合光学涂层及其制造方法（变型）本专利技术涉及通过涂覆涂层进行的基板表面处理，即薄膜技术。其能够用于制备抗反射涂层，抵抗影响装置(诸如移动电话、音乐播放器、电子书、平板电脑、计算机、ATM、机场值机设备，等)的显示器表面和各种光学装置镜头表面的污染和外部腐蚀侵蚀。抗反射涂层是光学系统表面上的单层或多层光学结构，由于入射光反射减少而改善光学系统的透射率。该涂层有可能改善图像对比度和清晰度，特别是当装置暴露于直射阳光时。具有抗反射涂层的表面需要谨慎处理，因为它们是容易损坏的。抗反射涂层表面的污染物，诸如油、油脂或灰尘，会干扰涂层功能并显著增加受污染表面的光反射；另外，随着时间的推移，这些污染物会破坏抗反射涂层。为了保持抗反射涂层的光学性质，应当将保护涂层涂覆于其表面以便保护其免受外部腐蚀影响并允许对不可避免的污染物的简单清洁。然而，保护层绝不能干扰抗反射涂层的功能。应用此类涂层的目标市场定位是移动电话、音乐播放器、电子书、平板电脑、笔记本电脑(这些是大规模生产的电子消费品)的触摸屏。因此，高的工艺性能是对研发用于前述装置的触摸屏的涂层制造方法的强制性要求。对于要求保护的...
【技术保护点】
1.一种复合光学涂层，其包括通过交替具有高折射指数和低折射指数的层形成的多层抗反射涂层以及保护涂层，其特征在于，在所述抗反射涂层和所述保护涂层之间形成厚度是5至200nm的无定形物质的改性的粘合层。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种复合光学涂层，其包括通过交替具有高折射指数和低折射指数的层形成的多层抗反射涂层以及保护涂层，其特征在于，在所述抗反射涂层和所述保护涂层之间形成厚度是5至200nm的无定形物质的改性的粘合层。2.根据权利要求1所述的复合光学涂层，其中，所述保护涂层由含硅全氟聚醚制成，以及所述无定形物质是无定形氧化硅。3.根据权利要求2所述的复合光学涂层，其中，所述保护涂层由具有三甲氧基硅烷醇端基的PFPE制成。4.根据权利要求1所述的复合光学涂层，其中，所述抗反射涂层中具有高折射指数的层的材料是氮化硅，以及所述抗反射涂层中具有低折射指数的层的材料是氧化硅。5.根据权利要求1所述的复合光学涂层，其中，所述抗反射涂层的交替层、所述粘合层和所述保护涂层以由1至6层合适材料的单分子层厚度的基础层组成的方式制成。6.根据权利要求1所述的复合光学涂层，其中，所述改性的粘合层的粗糙度满足分布标准偏差小于2nm的条件。7.根据权利要求1所述的复合光学涂层，其中，所述保护涂层的厚度是2至20nm。8.根据权利要求1所述的复合光学涂层，其中，所述保护涂层是在液-气界面形成的单分子膜。9.一种复合光学涂层的制造方法，包括使用单一真空处理中没有排气的气-汽相沉积方法以及在升高温度下的涂层稳定化将多层抗反射涂层和保护涂层涂覆于基板上，其特征在于，使用高密度等离子体增强的气-汽相沉积方法在所述抗反射涂层与所述保护涂层的涂覆操作之间形成无定形物质的粘合层，随后通过在气体放电等离子体中进行蚀刻和/或通过离子抛光来进行改性。10.根据权利要求9所述的复合光学涂层的制造方法，其中，所述抗反射涂层中的每一层和所述粘合层的涂覆过程使用两个等离子体发生系统在两个阶段实现：在第一阶段期间，一个等离子体发生系统用于涂覆基础层，以及在第二阶段期间，另一个等离子体发生系统用于氧化所述基础层，重复所述两个阶段直至达到所形成的层的指定厚度。11.根据权利要求9所述的复合光学涂层的制造方法，其中，所述保护层由含硅全氟聚醚制成，以及无定形氧化硅被选作为所述无定形物质。12.根据权利要求9所述的复合光学涂层的制造方法，其中，通过在气体放电等离子体中蚀刻的粘合层的改性在含氟或含氯等离子体中实施。13.根据权利要求9所述的复合光学涂层的制造方法，其中，在涂覆所述保护涂层期间，含硅全氟聚醚的气-汽相由适当的溶液通过蒸发来制备。14.根据权利要求9所述的复合光学涂层的制造方法，其中，使用...
【专利技术属性】
技术研发人员：海纳茨·康斯坦丁诺维奇·扎夫尼尔克，伊珍妮·艾雷克萨德维奇·柯霍克罗，艾雷克萨德·艾雷克斯维奇·雅苏娜，艾雷克萨德·萨葛维奇·米斯立维特，皮特·艾雷克萨德维奇·罗兹，弗拉基米尔·杰科夫莱维奇·石里波夫，
申请(专利权)人：伊扎维克技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：白俄罗斯,BY
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