纳米光栅透明全息成像膜制造技术

一种纳米光栅透明全息成像膜，其包括透明基材层和透明光栅结构层，透明光栅结构层的一侧表面与透明基材层结合，其另一侧表面上设有大量等宽等间距的平行微槽，在微槽内填充有纳米级别大小的成像材料，该成像材料形成成像光栅结构。本发明专利技术的纳米光栅透明全息成像膜其主体均由透明材料制成，而透明光栅结构层上的微槽结构非常细小，其等宽等间距排列，其内填充有成像用的纳米浅色油墨，该微槽结构所占整个成像膜的比例极为微小，因而人眼观察不出成像材料造成的线条，从而使得整个成像膜十分透明，具有很高的透明度。本发明专利技术通过在成像膜中设置细微的光栅结构来进行光学成像，从而不需通过提高材料雾度来进行投影成像，因而可提高成像膜的透明度，保证投影成像效果。

Transparent holographic imaging film with nanoscale grating

A transparent holographic imaging film of nanoscale grating is composed of transparent substrate and transparent grating structure layer. One side of the transparent grating structure layer is combined with the transparent substrate layer. On the other side, a large number of parallel microgrooves with equal width equal spacing are arranged on the other side, and the nanoscale imaging material is filled in the microgroove. The imaging material is formed. Imaging grating structure. The nano grating transparent holographic imaging film of the invention is made of transparent material, and the micro groove structure on the transparent grating structure layer is very small, and the same width and equal spacing are arranged in the same width. The film is filled with the nano light color ink used for imaging. The micro groove structure occupies the whole imaging film very small, so the human eye can not be observed. The lines created by the imaging material make the entire imaging film transparent and highly transparent. The invention provides optical imaging by setting a fine grating structure in the imaging film, so as to improve the transparency of the imaging film and ensure the effect of the projection imaging without increasing the material fog to carry out the projection imaging.

【技术实现步骤摘要】
纳米光栅透明全息成像膜
本专利技术涉及投影领域，特别涉及一种纳米光栅透明全息成像膜。
技术介绍
全息投影膜是一种透明的投影膜，其在保持清晰显像的同时，能够让观众透过投影膜看见背后景物。目前市面上用于投影成像的全息投影膜基本上都是通过提高膜材料的雾度，或通过涂布加工工艺在粘合胶层内加入微小颗粒物来实现投影成像。由于这种现有的全息投影膜内没有光学成像的物理结构，因而其投影成像效果差，视角小。此外，现有的全息投影膜的透明度基本上在60％～80％之间，膜表面雾度大，人眼观看时，不够通透，影响视觉效果。
技术实现思路
本专利技术旨在解决上述问题，而提供一种透明度高、视角范围大、成像效果好的纳米光栅透明全息成像膜。为解决上述问题，本专利技术提供了一种纳米光栅透明全息成像膜，其特征在于，其包括透明基材层和透明光栅结构层，所述透明光栅结构层的一侧表面与所述透明基材层结合，其另一侧表面上设有若干个等宽等间距的微槽，在所述微槽内填充有纳米成像材料，在所述透明光栅结构层的设有微槽的一侧表面上复合有离型膜。所述成像材料为纳米浅色油墨，所述离型膜通过粘合胶复合于所述透明光栅结构层的设有微槽的一侧表面上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种纳米光栅透明全息成像膜，其特征在于，其包括透明基材层(10)和透明光栅结构层(20)，所述透明光栅结构层(20)的一侧表面与所述透明基材层(10)结合，其另一侧表面上设有若干个等宽等间距的微槽(21)，在所述微槽(21)内填充有纳米成像材料(50)，在所述透明光栅结构层(20)的设有微槽(21)的一侧表面上复合有离型膜(30)。

【技术特征摘要】
1.一种纳米光栅透明全息成像膜，其特征在于，其包括透明基材层(10)和透明光栅结构层(20)，所述透明光栅结构层(20)的一侧表面与所述透明基材层(10)结合，其另一侧表面上设有若干个等宽等间距的微槽(21)，在所述微槽(21)内填充有纳米成像材料(50)，在所述透明光栅结构层(20)的设有微槽(21)的一侧表面上复合有离型膜(30)。2.如权利要求1所述的纳米光栅透明全息成像膜，其特征在于，所述成像材料(50)为纳米浅色油墨，所述离型膜(30)通过粘合胶(40)复合于所述透明光栅结构层(20)的设有微槽(21)的一侧表面上。3.如权利要求1所述的纳米光栅透明全息成像膜，其特征在于，相邻两个微槽(21)之间间隔的距离为0.03MM～0.5MM；各微槽(21)的截面最大处的宽度为0.001MM～0.1MM。4.如权利要求1所述的纳米光栅透明全息成像膜，其特征在于，所述透明光栅结构层(20)与所述透明基材层(10)一体成型或固定结合在一起。5.如权利要求1所述的纳米光栅透明全息成像膜，其特征在于，所述微槽(21)分别包括朝向透明基材层(10)的底面(211)、侧面及开口(...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨大海，
申请(专利权)人：深圳市真屏科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44