彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，以提高彩膜基板的防静电效果。所述彩膜基板，包括具有功能膜层的基板本体，所述基板本体的功能膜层所在面设有位于基板本体的非透光区域的导电层，所述导电层用于与阵列基板的功能膜层所在面设有的静电导出电路电连接。所述显示面板包括上述技术方案所提的彩膜基板，彩膜基板所包括的导电层与阵列基板的静电导出电路电连接。本发明专利技术提供的彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置用于抗静电保护。

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置。
技术介绍
随着人们生活水平的提高，人们对于手机、电视等显示设备的显示品质的要求越来越高，薄膜晶体管液晶显示器凭借高分辨率、高色彩饱和度、反应速度快、高开口率等优点成为新一代显示器件，广泛应用于手机等显示设备中。现有薄膜晶体管显示器的主要部件为薄膜晶体管显示面板，其包括对盒在一起的阵列基板和彩膜基板，阵列基板和彩膜基板之间形成有液晶层。显示时，阵列基板接收数据信号控制液晶层中液晶分子的偏转，使得液晶层对光线进行调制，从而使得薄膜晶体管显示器显示图像。为了避免防止静电对彩膜基板的损害，一般在彩膜基板的边框区域形成隔离槽，以阻止外部静电计进入薄膜晶体管显示面板内，然而薄膜晶体管显示面板内部所产生的静电却无法通过隔离槽导出，导致在彩膜基板的边框区域形成隔离槽的防静电效果并不显著。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置，以提高彩膜基板的防静电效果。为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种彩膜基板，包括具有功能膜层的基板本体，所述基板本体的功能膜层所在面设有位于基板本体的非透光区域的导电层，所述导电层用于与阵列基板的功能膜层所在面设有的静电导出电路电连接。与现有技术相比，本专利技术提供的彩膜基板中，基板本体的功能膜层所在面设有位于基板本体的非透光区域的导电层，而导电层用于与阵列基板的功能膜层所在面设有的静电导出电路电连接，这使得基板本体只要携带静电时，就能够利用导电层将基板本体所携带的静电通过静电导出电路导出，而不管基板本体所携带的静电是从外界引入还是基板本体自身所产生的静电。因此，相对于现有技术，本专利技术提供的彩膜基板的防静电效果比较好。本专利技术还提供了一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板的制作方法包括：提供一基板本体；在所述基板本体的功能膜层所在面的边框区域形成有位于基板本体的非透光区域的导电层，得到彩膜基板；所述导电层用于与阵列基板的功能膜层所在面设有的静电导出电路电连接。与现有技术相比，本专利技术提供的彩膜基板的制作方法的有益效果与上述技术方案提供的彩膜基板的有益效果相同，在此不做赘述。本专利技术还提供了一种显示面板，该显示面板包括阵列基板和上述技术方案所述的彩膜基板，所述阵列基板的非透光区设有静电导出电路，所述静电导出电路与所述彩膜基板所包括的导电层电连接。与现有技术相比，本专利技术提供的显示面板的有益效果与上述技术方案提供的彩膜基板的有益效果相同，在此不做赘述。本专利技术还提供了一种显示面板的制作方法，该显示面板的制作方法包括：提供一阵列基板和一彩膜基板；所述阵列基板的非透光区设有静电导出电路，所述彩膜基板为上述技术方案所述彩膜基板；将所述阵列基板和所述彩膜进行对盒和滴注液晶；将所述静电导出电路与所述彩膜基板所包括的导电层电连接，得到显示面板。与现有技术相比，本专利技术提供的显示面板的制作方法的有益效果与上述技术方案提供的彩膜基板的有益效果相同，在此不做赘述。本专利技术还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述技术方案所述的显示面板。与现有技术相比，本专利技术提供的显示装置的有益效果与上述技术方案提供的彩膜基板的有益效果相同，在此不做赘述。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本专利技术的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1为本专利技术实施例提供的彩膜基板的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法流程框图；图3为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作流程结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的显示面板的结构示意图；图5为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法流程图；图6为本专利技术实施例提供的显示装置的结构示意图。附图标记：1-基板本体，11-基板本体的边框区域；110-平坦层，111-导电层；112-隔离槽，12-基板本体的显示区域；2-阵列基板，20-接线焊盘；3-导电连接件，4-柔性电路板。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅1、图3和图4，本专利技术实施例提供的彩膜基板包括具有功能膜层的基板本体1，该功能膜层为彩膜层。基板本体1的功能膜层所在面设有位于基板本体1的非透光区域的导电层111，导电层111用于与阵列基板2的功能膜层所在面设有的静电导出电路电连接；其中，静电导出电路可以为阵列基板2现有的静电导出电路，也可以为增设的静电导出电路。当本专利技术实施例提供的彩膜基板应用于显示面板中，在显示面板使用的过程中，外界静电将要进入彩膜基板，或者彩膜基板内部出现静电释放现象，导电层111能够将这些静电及时导入静电导出电路，以防止静电对彩膜基板的损害。由上可见，本专利技术实施例提供的彩膜基板中，基板本体1的功能膜层所在面设有位于基板本体1的非透光区域的导电层111，而导电层111用于与阵列基板2的功能膜层所在面设有的静电导出电路电连接，这使得基板本体1只要携带静电时，就能够利用导电层111将基板本体1所携带的静电通过静电导出电路导出，而不管基板本体1所携带的静电是从外界引入还是基板本体1自身所产生的静电。因此，相对于现有技术，本专利技术提供的彩膜基板的防静电效果比较好。需要说明的是，本专利技术实施例中导电层111的材料多种多样，如常见的铝、铜、氧化铟锡等均可。其中，由于铝广泛用于制作薄膜晶体管显示器中，因此，可采用铝制作导电层111，以降低原料采购种类，并减少原料采购成本。如图1、图3和图4所示，考虑到静电导出电路一般会延伸至阵列基板2的功能膜层所在面的边框区域并接到接线焊盘20上；为了便于导电层111与静电导出电路电连接，本专利技术实施例中基板本体1的非透光区域为基板本体1的功能膜层所在面的边框区域(基板本体的边框区域11)，导电层111的侧面与基本本体的侧边平齐。此时可通过导电连接件3将接线焊盘20与基板本体1的侧边连接，使得基板本体1的导电层111的侧边通过导电连接件3与静电导出电路连通。而考虑到操作便利性，一般选择导电银胶等含有导电颗粒的胶体作为导通导电层111与静电导出电路的导电连接件3。而鉴于基板本体1的功能膜层所在面的边框区域平坦化略差，如图1和图3所示，本专利技术实施例提供的彩膜基板中基板本体1的功能膜层所在面的边框区域还形成有具有遮光功能的平坦层110，使得导电层111位于平坦层110背离基板本体1的功能膜层所在面的边框区域的表面，平坦层110背离基板本体1的功能膜层所在面的边框区域的表面还开设有隔离槽112，隔离槽112位于导电层111朝向基板本体1的边框区域的一侧，导电层111背离隔离槽112的一侧用于与静电导出电路电连接。此时，平坦层110不仅能够使得所形成的导电层111的表面平整，而且还能够利用平坦层110所具有的遮光功能，对基板本体1的功能膜层所在面的边框区域进行遮光保护，防止漏光问题的发生。另外，由于平坦层110背离基板本体1的功能本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板，包括具有功能膜层的基板本体，其特征在于，所述基板本体的功能膜层所在面设有位于基板本体的非透光区域的导电层，所述导电层用于与阵列基板的功能膜层所在面设有的静电导出电路电连接。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，包括具有功能膜层的基板本体，其特征在于，所述基板本体的功能膜层所在面设有位于基板本体的非透光区域的导电层，所述导电层用于与阵列基板的功能膜层所在面设有的静电导出电路电连接。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述基板本体的非透光区域为基板本体的功能膜层所在面的边框区域；所述导电层的侧面与所述基板本体的侧边平齐。3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述基板本体的功能膜层所在面的边框区域还形成有具有遮光功能的平坦层，所述导电层位于所述平坦层背离基板本体的功能膜层所在面的边框区域的表面，所述平坦层背离基板本体的功能膜层所在面的边框区域的表面还开设有隔离槽，所述隔离槽位于所述导电层朝向基板本体的边框区域的一侧，所述导电层背离隔离槽的一侧用于与所述静电导出电路电连接。4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔离槽为U型隔离槽，所述U型隔离槽围成透光开口；所述基板本体的显示区域位于所述透光开口在基板本体的正投影内；所述导电层包括框式导电层，所述框式导电层具有框内开口；所述基板本体的显示区域位于所述框内开口在基板本体的正投影内。5.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：提供一基板本体；在所述基板本体的功能膜层所在面的边框区域形成有位于基板本体的非透光区域的导电层，得到彩膜基板；所述导电层用于与阵列基板的功能膜层所在面设有的静电导出电路电连接。6.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：郝延顺，庞鲁，麻清琳，成志飞，刘阳，付帅，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11