一种电极组件和蚀刻设备制造技术

本申请属于蚀刻技术领域，提供一种电极组件和蚀刻设备，蚀刻设备包括腔体、第一电极板和第二电极板；第一电极板设置在腔体内靠近腔体的顶部，包括第一中心区域和环绕第一中心区域的第一边缘区域，第一中心区域贯通开设有第一进气孔，第一边缘区域贯通开设有第二进气孔，第二进气孔环绕设置在第一进气孔的外围，第一进气孔的横截面积小于第二进气孔的横截面积；第二电极板设置在腔体内靠近腔体的底部，包括放置区和围绕放置区的第二边缘区域；待加工基板设于放置区上，第一电极板的位置与待加工基板的位置相对应；腔体上还开设有与抽气装置连接的出气口，出气口设置在腔体内的下方且出气口的位置低于第二电极板的位置。

【技术实现步骤摘要】
一种电极组件和蚀刻设备
本申请属于蚀刻
，更具体地说，是涉及一种电极组件和蚀刻设备。
技术介绍
随着科学技术的发展，电子设备(例如智能手机、笔记本电脑、数码相机等)越来越普及，使得作为电子设备的重要部件的液晶显示器的需求量也大大提升，从而推动了液晶显示面板行业的快速发展。液晶显示面板制造过程中的一个重要步骤就是蚀刻工艺，其中干蚀刻工艺是目前最常用的蚀刻方式，其利用蚀刻气体进行蚀刻。在利用干蚀刻工艺进行阵列基板制造的过程中，蚀刻气体(ProcessGas)在进气系统的吹力、抽气系统的吸力、电极板之间的电压等因素的作用下吹向待加工基板面。在蚀刻工艺中，通常使用制程均一性来描述在某一制程下工件整体的蚀刻程度；同一工件加工面上不同位置的蚀刻程度越接近，则其制程均一性越高。为了保证待加工基板面各部分能够同时完成蚀刻加工，保证加工良品率以及工件品质，需要对待加工基板面各部分的蚀刻程度进行控制，尽量保证待加工基板面各部分以相同的速率被蚀刻。然而，现有技术中由于腔体内部设计结构以及排气系统设计等因素，导致在实际操作中蚀刻气体会向腔体内部的角落流动，四角落与其他位置蚀刻程度有落差，使得待加工基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电极组件，其特征在于,包括：第一电极板，包括第一中心区域和环绕所述第一中心区域的第一边缘区域；第一进气孔，与进气装置连接，贯通开设在所述第一中心区域；第二进气孔，与所述进气装置连接，贯通开设在所述第一边缘区域，且环绕设置在多个所述第一进气孔的外围，所述第一进气孔的横截面积小于所述第二进气孔的横截面积。

【技术特征摘要】
1.一种电极组件，其特征在于,包括：第一电极板，包括第一中心区域和环绕所述第一中心区域的第一边缘区域；第一进气孔，与进气装置连接，贯通开设在所述第一中心区域；第二进气孔，与所述进气装置连接，贯通开设在所述第一边缘区域，且环绕设置在多个所述第一进气孔的外围，所述第一进气孔的横截面积小于所述第二进气孔的横截面积。2.如权利要求1所述的电极组件，其特征在于，多个所述第一进气孔以均匀、不均匀或局部均匀的方式贯通开设在所述第一中心区域；多个所述第二进气孔以均匀、不均匀或局部均匀的方式贯通开设在所述第一边缘区域。3.如权利要求1所述的电极组件，其特征在于，多个所述第一进气孔的形状与大小相同、局部相同或不同；多个所述第二进气孔的形状与大小相同、局部相同或不同。4.一种蚀刻设备，其特征在于，包括：腔体；第一电极板，设置在所述腔体内的上方，包括第一中心区域和环绕所述第一中心区域的第一边缘区域；第二电极板，设置在所述腔体内的下方，并与所述第一电极板相对设立，包括放置区和围绕所述放置区的第二边缘区域，待加工基板设置在所述放置区；第一进气孔，与进气装置连接，贯通开设在所述第一中心区域，多个所述第一进气孔正对所述待加工基板；第二进气孔，与所述进气装置连接，贯通开设在所述第一边缘区域，且环绕设置在多个所述第一进气孔的外围，所述第一进气孔的横截面积小于所述第二进...

【专利技术属性】
技术研发人员：何怀亮，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44