一种触摸屏及其制作方法、触控显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种触摸屏及其制作方法、触控显示装置，涉及显示技术领域。本发明专利技术通过在衬底基板的第一表面形成第一增反层，在衬底基板的第二表面形成第二增反层，在第二增反层上形成触控功能层，基于第一增反层和第二增反层的高反射率，可提高触摸屏的反射率，使得后续贴合形成的触控显示装置的反射率可达到30％‑50％，触控显示装置在熄屏时具有镜面显示功能，同时使得触控显示装置在亮屏时的显示效果不受较大的影响，丰富触摸屏的功能。

【技术实现步骤摘要】
一种触摸屏及其制作方法、触控显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种触摸屏及其制作方法、触控显示装置。
技术介绍
OGS(OneGlassSolution，一体化触控)触摸屏是一种在玻璃基板上直接形成触控电极的电容式触摸屏，使得一块玻璃基板同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用，能够节约玻璃基板的数量，降低触控显示装置的生产成本。但是，触控显示装置在熄屏时，由于一体化触控触摸屏的反射率较低，导致触控显示装置无法实现镜面显示。
技术实现思路
本专利技术提供一种触摸屏及其制作方法、触控显示装置，以解决现有一体化触控触摸屏反射率低，使得触控显示装置在熄屏时无法实现镜面显示的问题。为了解决上述问题，本专利技术公开了一种触摸屏，包括：衬底基板、形成在所述衬底基板第一表面的第一增反层，形成在所述衬底基板第二表面的第二增反层，以及形成在所述第二增反层上的触控功能层；其中，所述第一表面和所述第二表面相对。可选地，所述第一增反层的材料为氧化铌。可选地，所述第一增反层的厚度为可选地，所述第二增反层包括氧化铌层，所述氧化铌层的厚度为可选地，所述第二增反层还包括位于所述氧化铌层背离所述衬底基板一侧的氧化硅层，所述氧化硅层的厚度为可选地，所述触摸屏还包括消影层，所述消影层位于所述触控功能层背离所述第二增反层的一侧。可选地，所述触摸屏还包括防指纹层，所述防指纹层位于所述第一增反层上背离所述衬底基板的一侧。为了解决上述问题，本专利技术还公开了一种触摸屏的制作方法，包括：在衬底基板的第一表面形成第一增反层；在所述衬底基板的第二表面形成第二增反层；所述第一表面和所述第二表面相对；在所述第二增反层上形成触控功能层。可选地，所述第一增反层和所述第二增反层均采用溅射工艺形成。为了解决上述问题，本专利技术还公开了一种触控显示装置，包括显示屏及上述的触摸屏。可选地，所述显示屏和所述触摸屏之间通过光学透明胶贴合。可选地，所述显示屏为LCD(LiquidCrystalDisplay，液晶显示器)显示屏或OLED(OrganicLightEmittingDiode，有机发光二极管)显示屏。与现有技术相比，本专利技术包括以下优点：通过在衬底基板的第一表面形成第一增反层，在衬底基板的第二表面形成第二增反层，在第二增反层上形成触控功能层，基于第一增反层和第二增反层的高反射率，可提高触摸屏的反射率，使得后续贴合形成的触控显示装置的反射率可达到30％-50％，触控显示装置在熄屏时具有镜面显示功能，同时使得触控显示装置在亮屏时的显示效果不受较大的影响，丰富触摸屏的功能。附图说明图1示出了本专利技术实施例的一种触摸屏的结构示意图；图2示出了本专利技术实施例的另一种触摸屏的结构示意图；图3示出了本专利技术实施例的再一种触摸屏的结构示意图；图4示出了本专利技术实施例的一种触摸屏的制作方法的流程图；图5示出了本专利技术实施例的一种触控显示装置的结构示意图；图6示出了本专利技术实施例的触控显示装置和现有的触控显示装置的反射率的对比曲线图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明。将一体化触控触摸屏与显示屏贴合后可以形成TLCM(TouchLiquidCrystalModule，触控显示装置)，通常一体化触控触摸屏的透过率为80％-90％，因此，贴合后形成的触控显示装置的反射率为5％-10％，触控显示装置在亮屏时有很好的显示效果，但是在熄屏时无法实现镜面显示。实施例一参照图1，示出了本专利技术实施例的一种触摸屏的结构示意图。本专利技术实施例提供了一种触摸屏，包括：衬底基板11、形成在衬底基板11第一表面的第一增反层12，形成在衬底基板11第二表面的第二增反层13，以及形成在第二增反层13上的触控功能层14；其中，第一表面和第二表面相对。第一增反层12的材料为氧化铌Nb2O5，当然，也可采用其他材料，如氧化锆ZrO2等；第一增反层12的厚度为第一增反层12的厚度优选为本专利技术实施例中的触摸屏可以为一体化触控触摸屏；衬底基板11可以采用玻璃基板，当然，也可采用其他材料的基板，如石英基板、树脂基板等，本专利技术实施例对此不做限制。其中，必须在衬底基板11第一表面形成第一增反层12，在衬底基板11第二表面形成第二增反层13，使得触摸屏的反射率大大提高，使得后续贴合形成的触控显示装置的反射率可达到30％-50％，若只在衬底基板11第一表面形成第一增反层12，或者只在衬底基板11第二表面形成第二增反层13，可在一定程度上提高触摸屏的反射率，但是后续贴合形成的触控显示装置的反射率无法达到30％，因此，只在衬底基板11上形成第一增反层12或第二增反层13，后续贴合形成的触控显示装置在熄屏时无法实现镜面显示功能。参照图2，示出了本专利技术实施例的另一种触摸屏的结构示意图。图2所示的触摸屏与图1所示的触摸屏的区别在于，第二增反层13的结构不同。如图1所示，第二增反层13包括氧化铌层，氧化铌层的厚度为氧化铌层的厚度优选为如图2所示，在图1的基础上，第二增反层13还包括位于氧化铌层131背离衬底基板11一侧的氧化硅层132，氧化硅层132的厚度为氧化硅层132的厚度优选为基于光学匹配设计，如图2所示，通过在氧化铌层131上增加一层氧化硅层132，进一步提高触摸屏的反射率。当然，第二增反层13中的氧化铌层也可用氧化锆层代替。参照图3，示出了本专利技术实施例的再一种触摸屏的结构示意图。在图2的基础上，触摸屏还包括消影层15，消影层15位于触控功能层14背离第二增反层13的一侧。该消影层15的材料为氮氧化硅SiOxNy，用于改善触控功能层14图案明显的问题，实现触控功能层14的消影。在本专利技术实施例中，触摸屏还包括防指纹层16，防指纹层16位于第一增反层12上背离衬底基板11的一侧。通过在第一增反层12上增加防指纹层16，防止手指直接触摸第一增反层12导致指纹残留，该防指纹层16也可称为ASF(AntiFingerFilm，防指纹层)，该防指纹层16的材料为有机高分子聚合物。当然，也可以在图1所示的触摸屏上形成消影层15和防指纹层16，消影层15和防指纹层16的具体位置与图3所示的位置相同，在此不再赘述。在本专利技术实施例中，通过在衬底基板的第一表面形成第一增反层，在衬底基板的第二表面形成第二增反层，在第二增反层上形成触控功能层，基于第一增反层和第二增反层的高反射率，可提高触摸屏的反射率，，通过仅在第二增反层增加氮氧化硅层，通过层级配合，使得后续贴合形成的触控显示装置的反射率可达到30％-50％，触控显示装置在熄屏时具有镜面显示功能，同时使得触控显示装置在亮屏时的显示效果不受较大的影响，丰富触摸屏的功能。实施例二参照图4，示出了本专利技术实施例的一种触摸屏的制作方法的流程图，具体可以包括如下步骤：步骤401，在衬底基板的第一表面形成第一增反层。在本专利技术实施例中，可采用溅射工艺在衬底基板11的第一表面形成第一增反层12。其中，衬底基板11可以采用玻璃基板、石英基板、树脂基板等；第一增反层12的材料可以为氧化铌Nb2O5或氧化锆ZrO2等，第一增反层12的厚度为步骤402，在所述衬底基板的第二表面形成第二增反层；所述第一表面和所述第二表面相对。在本专利技术实施例中，可采用溅射工艺在衬底基板11的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触摸屏，其特征在于，包括：衬底基板，形成在所述衬底基板第一表面的第一增反层，形成在所述衬底基板第二表面的第二增反层，以及形成在所述第二增反层上的触控功能层；其中，所述第一表面和所述第二表面相对。

【技术特征摘要】
1.一种触摸屏，其特征在于，包括：衬底基板，形成在所述衬底基板第一表面的第一增反层，形成在所述衬底基板第二表面的第二增反层，以及形成在所述第二增反层上的触控功能层；其中，所述第一表面和所述第二表面相对。2.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述第一增反层的材料为氧化铌。3.根据权利要求2所述的触摸屏，其特征在于，所述第一增反层的厚度为4.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述第二增反层包括氧化铌层，所述氧化铌层的厚度为5.根据权利要求4所述的触摸屏，其特征在于，所述第二增反层还包括位于所述氧化铌层背离所述衬底基板一侧的氧化硅层，所述氧化硅层的厚度为6.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述触摸屏还包括消影层，所述消影层位于所述触控功能层背离所述第二增反层的一侧。7.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨忠正，张明，陈启程，马伟杰，都智，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11