The invention provides a base feed micro pressure pendulum polishing machine, including a support seat and a pendulum frame. The support seat includes a shelf and a vertical plate perpendicular to the two ends of the shelf. The support seat is a whole forming structure; the pendulum is located under the support seat and between the two vertical plates. The top surface of the pendulum is equipped with a plate; the top surface of the shelf is on the top. A positioning plate is provided with a guide hole at both ends of the positioning plate, a base is provided at the top of the positioning plate, a guide rod is provided at the bottom of the base of the base, a shaft sleeve is fixed in the middle of the base, the shaft sleeve runs through the positioning plate and the frame plate, and the axle sleeve is vertical to the base seat, the pressure axis is provided in the shaft sleeve, and the pressure shaft is far away from the end of the pendulum frame. The outside wall of the shaft sleeve is also provided with a locking device for fastening the shaft sleeve and the pressure shaft. The structure is simple, it can reduce the working stroke, reduce the machining difficulty and improve the grinding precision, and at the same time, it can strengthen the coordination precision among the parts, reduce the wear and improve the service life of the equipment.
【技术实现步骤摘要】
一种基座进给微程加压下摆式精磨抛光机及其控制方法
本专利技术涉及光学球面透镜加工设备领域,更具体的,涉及一种基座进给微程加压下摆式精磨抛光机及其控制方法。
技术介绍
随着光学冷加工的飞速发展,加工镜片的机台种类日渐丰富。一般加工凸镜机台使用下摆机加工,传统的下摆机基本都是在一定压力下,一个皿的旋转运动及工件与皿的相对摆动,从而对工件进行精磨抛光,其中现有技术中的压力系统是一根较长的压力轴沿轴套作长距离的上下直线运动,固定轴套的基座和机架以平面接合方式用螺丝固定而原位不动,该种结构在工作中需要移动较长的压力轴,导致受力臂过长,刚性及稳定性均不够理想,从而影响加工精度;并且进行批量生产时,压力轴长距离的运动造成压力轴与轴套之间的磨损过大,导致压力轴与轴套之间存在间隙,影响加工精度、甚至出现加工事故。
技术实现思路
本专利技术提供了一种基座进给微程加压下摆式精磨抛光机,包括支撑座及摆架,所述支撑座包括架板及垂直设于所述架板两端的竖板,所述支撑座为一体成型结构;所述摆架位于所述支撑座下方、且与两所述竖板的内侧相枢接,所述摆架在外界驱动下于两所述竖板之间摆动,所述摆架上设有由电机驱动的转轴,所述转轴的末端设有用于夹持工件的研磨皿;所述架板顶面设有定位板,所述定位板的两端设有导向孔,所述导向孔贯穿所述定位板及所述架板;所述定位板的上方设有基座,所述基座的底部两端设有导向杆,所述导向杆与所述导向孔位置相对应、且所述基座通过所述导向杆沿所述导向孔竖向活动;所述基座的中部固定设有轴套,所述轴套贯穿所述定位板及所述架板、且所述轴套随所述基座竖向活动,所述轴套内设有压力轴,所述压力 ...
【技术保护点】
1.一种基座进给微程加压下摆式精磨抛光机,其特征在于:包括支撑座(100)及摆架(200),所述支撑座(100)包括架板(110)及垂直设于所述架板(110)两端的竖板(120),所述支撑座(100)为一体成型结构;所述摆架(200)位于所述支撑座(100)下方、且与两所述竖板(120)内侧相枢接,所述摆架(200)在外界驱动下于两所述竖板(120)之间摆动,所述摆架(200)上设有由电机驱动的转轴,所述转轴的末端设有用于夹持工件的研磨皿(210);所述架板(110)顶面设有定位板(300),所述定位板(300)的两端设有导向孔(310),所述导向孔(310)贯穿所述定位板(300)及所述架板(110);所述定位板(300)的上方设有基座(400),所述基座(400)的底部两端设有导向杆(410),所述导向杆(410)与所述导向孔(310)位置相对应、且所述基座(400)通过所述导向杆(410)沿所述导向孔(310)竖向活动;所述基座(400)的中部固定设有轴套(500),所述轴套(500)贯穿所述定位板(300)及所述架板(110)、且所述轴套(500)随所述基座(400)竖向活动, ...
【技术特征摘要】
1.一种基座进给微程加压下摆式精磨抛光机,其特征在于:包括支撑座(100)及摆架(200),所述支撑座(100)包括架板(110)及垂直设于所述架板(110)两端的竖板(120),所述支撑座(100)为一体成型结构;所述摆架(200)位于所述支撑座(100)下方、且与两所述竖板(120)内侧相枢接,所述摆架(200)在外界驱动下于两所述竖板(120)之间摆动,所述摆架(200)上设有由电机驱动的转轴,所述转轴的末端设有用于夹持工件的研磨皿(210);所述架板(110)顶面设有定位板(300),所述定位板(300)的两端设有导向孔(310),所述导向孔(310)贯穿所述定位板(300)及所述架板(110);所述定位板(300)的上方设有基座(400),所述基座(400)的底部两端设有导向杆(410),所述导向杆(410)与所述导向孔(310)位置相对应、且所述基座(400)通过所述导向杆(410)沿所述导向孔(310)竖向活动;所述基座(400)的中部固定设有轴套(500),所述轴套(500)贯穿所述定位板(300)及所述架板(110)、且所述轴套(500)随所述基座(400)竖向活动,所述轴套(500)内设有压力轴(600),所述压力轴(600)的轴线与所述轴套(500)的轴线重合、且所述压力轴(600)沿所述轴套(500)竖向活动,所述压力轴(600)内设有压杆(800),所述压杆(800)的轴线与所述压力轴(600)的轴线重合、且所述压杆(800)沿所述压力轴(600)竖向活动,所述压力轴(600)远离所述摆架(200)的一端设有用于调节所述压杆(800)压力的压力调节头(610),所述压力轴(600)的另一端设有与所述压杆(800)相连接的治具(620),所述治具(620)位于所述研磨皿(210)的上方、且位置相对应;所述轴套(500)外侧壁还设有用于紧固所述轴套(500)与所述压力轴(600)的锁紧装置(700)。2.根据权利要求1所述的一种基座进给微程加压下摆式精磨抛光机,...
【专利技术属性】
技术研发人员:邱忠杰,邱家铖,沈树全,
申请(专利权)人:江西吉铖光电有限公司,
类型:发明
国别省市:江西,36
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