一种具有除尘功能的晶体加工工作台制造技术

本实用新型专利技术涉及一种具有除尘功能的晶体加工工作台，包括作业台和设于作业台上方的吹风部，所述作业台和吹风部上下相对的台面和顶面分别设有均匀分布的抽风孔和吹风孔；使用时，在所述台面和顶面之间形成向下对流风的除尘作业区。这样，在除尘作业区加工晶片的同时，即可对晶片表面进行除尘处理，有效提高晶片加工质量，产品优良率高，而且该承放架结构简单、巧妙，生产加工容易，有利于普及广泛使用。

A crystal working table with dedusting function

The utility model relates to a crystal working table with dedusting function, which includes a working table and a blowing part on the top of the work table. The operating table and the upper and lower surface and top face of the blower are provided with a uniformly distributed suction hole and a blowing hole, and a downward convection wind is formed between the table and the top surface in use. The dust removal operation area. In this way, the chip surface can be dedusted at the same time in the dedusting operation area, and the wafer surface can be dedusted, the quality of the wafer processing is improved, the quality of the product is high, and the structure is simple and ingenious, and the production and processing are easy, which is beneficial to the widespread use.

【技术实现步骤摘要】
一种具有除尘功能的晶体加工工作台
本技术属于晶体加工设备
，尤其涉及一种具有除尘功能的晶体加工工作台。
技术介绍
目前，石英晶体在生产加工过程对环境温度、湿度和洁净度要求非常高，但有的工序必须在加工工作台上由人工操作完成，而且由于生产环境中都或多或少存在一定的灰尘，附着在晶体内部晶片表面的灰尘不易被发现、及时处理，继续进行后续加工，最终导致产品出现性能下降或不符合标准等质量问题，产品优良率无法保障。
技术实现思路
为解决现有技术中存在的上述问题，本技术提供了一种在除尘作业区加工晶体的同时，可对晶体内部晶片表面进行除尘处理，有效提高晶体加工质量，且结构简单、巧妙，生产加工容易的晶体加工工作台。为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：一种具有除尘功能的晶体加工工作台，包括作业台和设于作业台上方的吹风部，所述作业台和吹风部上下相对的台面和顶面分别设有均匀分布的抽风孔和吹风孔；使用时，在所述台面和顶面之间形成向下对流风的除尘作业区。进一步地，所述作业台的内部设有上端开口的吸尘罩，所述吸尘罩的上端罩口与台面紧密连接，下端通过抽风管与抽风机连接。进一步地，所述吹风部吹风腔，所述吹风腔的下端与顶面紧密连接，上端设有均匀分布、并与吹风机连接的吹风管。进一步地，所述吹风腔内设有用于净化吹出风的过滤网。进一步地，所述作业台的抽风管和吹风部的吹风管分别连接在同一抽风机的进风口和出风口上，形成循环风路。进一步地，所述晶体加工工作台还包括有支架，所述作业台和吹风部分别设于支架的上下两端，且台面和顶面之间的间距为50cm～100cm。本技术的有益效果是：本技术通过上述技术方案，即可在除尘作业区加工晶体的同时，对晶体内部晶片表面进行除尘处理，有效提高晶体加工质量，产品优良率高，而且该承放架结构简单、巧妙，生产加工容易，有利于普及广泛使用。附图说明图1是本技术所述一种具有除尘功能的晶体加工工作台实施例的结构示意图；图中：1—作业台，11—台面，12—抽风孔，13—吸尘罩，14—抽风管，2—吹风部，21—顶面，22—吹风孔，23—吹风腔，24—吹风管，3—除尘作业区，4—支架。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。如图1中所示：本技术实施例所述的一种具有除尘功能的晶体加工工作台，包括作业台1和设于作业台1上方的吹风部2，所述作业台1和吹风部2上下相对的台面11和顶面21分别设有均匀分布的抽风孔12和吹风孔22，使用时，在台面11和顶面21之间形成向下对流风的除尘作业区3。具体结构可以为：所述晶体加工工作台包括有作业台1、吹风部2和支架4，所述作业台1和吹风部2分别设于支架4的上下两端，且台面11和顶面21之间的间距可以为50cm～100cm，其上分别设有均匀分布的抽风孔12和吹风孔22；其中，所述作业台1的内部设有上端开口的吸尘罩13，所述吸尘罩13的上端罩口与台面11紧密连接，下端通过抽风管14与抽风机(图中未表示出来)连接；所述吹风部2内设有吹风腔23，所述吹风腔23的下端与顶面21紧密连接，上端设有均匀分布、并与吹风机(图中未表示出来)连接的吹风管24。当晶体加工工作台使用时，连接抽风管14和吹风管24的抽风机和吹风机同时启动，顶面21的吹风孔22向下吹出风，同时台面11的抽风孔12向内抽风，此时顶面21和台面11之间产生向下对流的风，形成所述除尘作业区3，所述除尘作业区3是左右两侧和背面围闭的区域。这样，在本加工工作台的除尘作业区3加工晶体时，顶面21吹出的风即可将晶体内部晶片表面上的灰尘吹掉，然后灰尘就会随着对流风从台面11的抽风孔12被吸进到吸尘罩13内、并沿抽风管14收集到抽风机上，即达到除尘的功能，有效提高晶体加工质量，产品优良率高，而且该承放架结构简单、巧妙，生产加工容易，有利于普及广泛使用。另外，所述吹风腔23内还可以设有过滤网(图中未表示出来)，即可有效净化吹出风，除尘效果更好、更理想，而且作业台1的抽风管14和吹风部2的风管分别连接在同一抽风机的进风口和出风口上，形成循环风路，这样可进一步简化晶体加工工作台的结构和降低生产成本。以上所述是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有除尘功能的晶体加工工作台，其特征在于：包括作业台(1)和设于作业台(1)上方的吹风部(2)，所述作业台(1)和吹风部(2)上下相对的台面(11)和顶面(21)分别设有均匀分布的抽风孔(12)和吹风孔(22)；使用时，在所述台面(11)和顶面(21)之间形成向下对流风的除尘作业区(3)。

【技术特征摘要】
1.一种具有除尘功能的晶体加工工作台，其特征在于：包括作业台(1)和设于作业台(1)上方的吹风部(2)，所述作业台(1)和吹风部(2)上下相对的台面(11)和顶面(21)分别设有均匀分布的抽风孔(12)和吹风孔(22)；使用时，在所述台面(11)和顶面(21)之间形成向下对流风的除尘作业区(3)。2.根据权利要求1所述的具有除尘功能的晶体加工工作台，其特征在于：所述作业台(1)的内部设有漏斗形的吸尘罩(13)，所述吸尘罩(13)的上端罩口与台面(11)紧密连接，下端通过抽风管(14)与抽风机连接。3.根据权利要求2所述的具有除尘功能的晶体加工工作台，其特征在于：所述吹风部(2)内设有吹风腔(23)，所述吹...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘铭，
申请(专利权)人：珠海鑫汇电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44