图形处理方法和系统技术方案

提供了图形处理方法和图形处理系统。图形处理方法包括：对通过划分帧而生成的瓦片的深度复杂性进行估计；基于瓦片的估计出的深度复杂性而针对包括在瓦片中的至少一个图元来选择性地执行可见性计算；对瓦片执行渲染。图形处理设备包括：确定输入到当前瓦片的图元的深度复杂性并且确定是否存在半透明图元的一个或更多个处理器。所述图形处理设备可以根据对深度复杂性和对半透明图元的存在的确定而在基于瓦片渲染(TBR)模式或基于瓦片的延迟渲染(TBDR)模式下适应性地进行操作。

【技术实现步骤摘要】
图形处理方法和系统本申请要求于2017年1月4日在韩国知识产权局提交的第10-2017-0001314号韩国专利申请的权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用包含于此。
本公开涉及图形处理方法和设备。
技术介绍
伴随移动装置市场的最近发展，正在开发图形处理技术以满足移动装置的规格。图形处理技术可以分成即时模式渲染(或纹理渲染，IMR)和基于瓦片(tile-based)渲染(或贴图渲染，TBR)，在IMR中，每当在几何阶段生成物体数据的图元时立即执行渲染，在TBR中，将帧划分成虚拟的瓦片(tile，或称为“区块”)以对每个瓦片执行渲染。在这些模式中，TBR使存储带宽减小并可以降低功耗。因此，TBR被频繁用于将功耗作为主要设计考虑之一的移动装置中。TBR可以通过基于瓦片的延迟渲染(TBDR)来增强渲染性能，TBDR使对被覆盖的片元(fragment)进行渲染的过度绘制的量最小化，并且仅渲染可见的片元。例如，可通过隐藏面消除(HSR)减少过度绘制。然而，存在某些操作条件，在这些操作条件下无法使用或实现TBDR。因此，在某些条件下，确定图形处理的模式的方法可以带来功耗的降低。
技术实现思路
专利技本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图形处理方法，所述图形处理方法包括以下步骤：将帧划分成多个瓦片；对所述多个瓦片中的瓦片的深度复杂性进行估计以确定所述帧中的物体之间的重叠；基于所述瓦片的估计出的深度复杂性而针对包括在所述瓦片中的至少一个图元选择性地进行可见性计算；以及对所述瓦片执行渲染。

【技术特征摘要】
2017.01.04 KR 10-2017-00013141.一种图形处理方法，所述图形处理方法包括以下步骤：将帧划分成多个瓦片；对所述多个瓦片中的瓦片的深度复杂性进行估计以确定所述帧中的物体之间的重叠；基于所述瓦片的估计出的深度复杂性而针对包括在所述瓦片中的至少一个图元选择性地进行可见性计算；以及对所述瓦片执行渲染。2.根据权利要求1所述的图形处理方法，其中，对所述瓦片的深度复杂性进行估计的步骤包括：对所述瓦片与包括在所述瓦片中的所述至少一个图元之间的重叠的量进行计算；以及基于重叠的量来估计所述瓦片的深度复杂性。3.根据权利要求2所述的图形处理方法，其中，对所述瓦片与包括在所述瓦片中的所述至少一个图元之间的重叠的量进行计算的步骤包括：将所述瓦片划分成多个子瓦片；以及基于每个子瓦片与包括在每个子瓦片中的所述至少一个图元彼此重叠的次数来确定重叠的量。4.根据权利要求3所述的图形处理方法，其中，基于每个子瓦片与包括在每个子瓦片中的所述至少一个图元彼此重叠的次数来确定重叠的量的步骤包括：计算所述多个子瓦片中的每个子瓦片与包括在每个子瓦片中的所述至少一个图元彼此重叠的次数的总和或平均值。5.根据权利要求2所述的图形处理方法，其中，对所述瓦片与包括在所述瓦片中的所述至少一个图元之间的重叠的量进行计算的步骤包括：计算所述瓦片与所述至少一个图元彼此重叠的相对面积；以及基于相对面积来确定重叠的量。6.根据权利要求5所述的图形处理方法，其中，计算所述瓦片与所述至少一个图元彼此重叠的相对面积的步骤包括：生成包围所述至少一个图元的基本矩形的限界框；以及计算所述瓦片与基本矩形的限界框之间的重叠面积。7.根据权利要求6所述的图形处理方法，其中，计算所述瓦片与所述至少一个图元彼此重叠的相对面积的步骤包括：通过将所述瓦片与基本矩形的限界框之间的重叠面积除以2来计算所述瓦片与所述至少一个图元之间的重叠面积。8.根据权利要求1所述的图形处理方法，其中，将帧划分成多个瓦片的步骤包括当前帧，对所述瓦片的深度复杂性进行估计的步骤包括：将来自具有当前帧的所述瓦片的前一帧的另一个瓦片的深度复杂性估计为所述瓦片在当前帧中的深度复杂性。9.根据权利要求8所述的图形处理方法，所述图形处理方法还包括：如果当前帧与前一帧之间不具有相似性，则在对所述瓦片执行渲染之后，计算并存储所述瓦片的深度复杂性。10.根据权利要求1所述的图形处理方法，所述图形处理方法还包括：确定是否在预设的时间点出现之前对包括在所述瓦片中的所述至少一个图元当中的具有半透明性质的图元进行处理，其中，如果在预设的时间点出现之前，对包括在所述瓦片中的所述至少一个图元当中的具有半透明性质的所述图元进行处理，则在不对所述瓦片的深度复杂性进行估计或者不针对包括在所述瓦片中的所述至少一个图元进行可见性计算的情况下，对所述瓦片执行渲染。11.根据权利要求10所述的图形处理方法，所述图形处理方法还包括：当在预设的时间点之后对具有半透明性质的所述图元进行处理时，对直至处理具有半透明性质的所述图元的点的所述瓦片的深度复杂性进行估计，以及针对包括在所述瓦片中的所述至少一个图元选择性地进行可见性计算。12.根据权利要求1所述的图形处理方法，其中，基于估计出的深度复杂性而针对包括在所述瓦片中的所述至少一个图元选择性地进行可见性计算的步骤包括：将估计出的深度复杂性与预设阈值进行比较；以及当估计出的深度复杂性大于预设阈值时，针对包括在所述瓦片中的所述至少一个图元进行可见性计算，其中，对所述瓦片执行渲染的步骤包括：基于所述至少一个图元的可见性来对所述瓦片执行渲染。13.根据权利要求12所述的图形处理方法，其中，基于估计出的深度复杂性而针对包括在所述瓦片中的所述至少一个图元选择性地进行可见性计算的步骤包括：如果估计出的深度复杂性小于预设阈值，则省略针对包括在所述瓦片中的所述至少一个图元进行可见性计算。14.一种图形处理系统，所述图形处理系统包括：分箱单元，被...

【专利技术属性】
技术研发人员：李源宗，禹相玉，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR