基板载台和曝光机制造技术

本发明专利技术公开了一种基板载台和曝光机。基板载台包括：本体，包括相对设置的第一表面和第二表面，第一表面用于承载基板，且第一表面设置有至少一个离子通道；至少一个第一静电消除器，每个第一静电消除器对应至少一个离子通道，第一静电消除器与其所对应的离子通道连接，以向离子通道内提供静电消除离子。通过所设置的离子通道以及与离子通道对应的第一静电消除器的作用，可以消除基板与基板载台相接触的表面所产生的静电，从而可以消除基板与基板载台之间的静电吸附力，进而可以使得基板与基板载台容易剥离。因此，在基板与基板载台剥离的过程中，能够有效保护基板，有效避免基板剥离时出现碎片的风险，提高基板的制作良率，降低制作成本。

Baseboard and exposure machine

The invention discloses a substrate carrier and an exposure machine. The baseboard platform includes: the body, including the first surface and the second surface of the relative setting, the first surface for carrying the substrate, and at least one ion channel on the first surface; at least one first electrostatic eliminator, each first electrostatic eliminator corresponding to at least one ion channel, and the first electrostatic eliminator corresponding to it. The ion channels are connected to provide electrostatic elimination ions to the ion channels. Through the ion channel set and the function of the first electrostatic eliminator corresponding to the ion channel, the static electricity generated by the surface of the substrate and the substrate carrier can be eliminated, thus the electrostatic adsorption between the substrate and the base board can be eliminated, and the substrate and the substrate platform can be easily stripped off. Therefore, in the process of stripping the substrate and substrate, it can effectively protect the substrate, effectively avoid the risk of fragmentation when the substrate is stripped, improve the production rate of the substrate and reduce the production cost.

【技术实现步骤摘要】
基板载台和曝光机
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种基板载台和一种包括该基板载台的曝光机。
技术介绍
近年来，随着半导体显示技术的高速发展，半导体制造中的光刻制程也显得越来越重要。而光刻制造中的曝光机也就成为半导体制造不可或缺的设备。然而，现有的曝光机的基板载台常常在基板与基板载台剥离的瞬间，因为基板与基板载台之间存在吸附静电的原因，导致基板与基板载台之间存在一个吸附力，因此常常造成基板碎片，造成生产损失。为了消除基板与基板载台剥离时产生的静电，如图1所示，在基板载台100的本体110的的一侧的上方位置处，设置有X-Ray静电消除器160。这样，当基板200被顶起时，X-Ray静电消除器160所发出的X射线在基板200的上、下表面电离空气，产生正负离子，从而可以分别中和基板200上的正负电荷，进而消除静电。但是，如图2所示，在基板200与基板载台100剥离的瞬间，也就是说，此时，基板200仍然与基板载台100贴合，正准备被支撑件140顶起，以实现基板200与基板载台100的剥离。此时的基板200与基板载台100之间存在吸附静电，具有较大的吸附力，而此时的X-Ray静电消除器16本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板载台，其特征在于，包括：本体，包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面用于承载基板，且所述第一表面设置有至少一个离子通道；至少一个第一静电消除器，每个所述第一静电消除器对应至少一个所述离子通道，所述第一静电消除器与其所对应的所述离子通道连接，以向所述离子通道内提供静电消除离子。

【技术特征摘要】
1.一种基板载台，其特征在于，包括：本体，包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面用于承载基板，且所述第一表面设置有至少一个离子通道；至少一个第一静电消除器，每个所述第一静电消除器对应至少一个所述离子通道，所述第一静电消除器与其所对应的所述离子通道连接，以向所述离子通道内提供静电消除离子。2.根据权利要求1所述的基板载台，其特征在于，所述第一静电消除器与所述离子通道一一对应设置。3.根据权利要求2所述的基板载台，其特征在于，所述第一静电消除器安装在与其所对应的所述离子通道中。4.根据权利要求2所述的基板载台，其特征在于，所述离子通道贯穿所述第一表面和所述第二表面，所述第一静电消除器位于所述第二表面。5.根据权利要求1所述的基板载台，其特征在于，所述第一表面还设置有至少一个进气通道，所述基板载台还包括：至少一个进气管，每个所述进气管对应至少一个所述进...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹中林，高山，李挺，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11