基板载台和曝光机制造技术

本发明专利技术公开了一种基板载台和曝光机。基板载台包括：本体，包括相对设置的第一表面和第二表面，第一表面用于承载基板，且第一表面设置有至少一个离子通道；至少一个第一静电消除器，每个第一静电消除器对应至少一个离子通道，第一静电消除器与其所对应的离子通道连接，以向离子通道内提供静电消除离子。通过所设置的离子通道以及与离子通道对应的第一静电消除器的作用，可以消除基板与基板载台相接触的表面所产生的静电，从而可以消除基板与基板载台之间的静电吸附力，进而可以使得基板与基板载台容易剥离。因此，在基板与基板载台剥离的过程中，能够有效保护基板，有效避免基板剥离时出现碎片的风险，提高基板的制作良率，降低制作成本。

Baseboard and exposure machine

The invention discloses a substrate carrier and an exposure machine. The baseboard platform includes: the body, including the first surface and the second surface of the relative setting, the first surface for carrying the substrate, and at least one ion channel on the first surface; at least one first electrostatic eliminator, each first electrostatic eliminator corresponding to at least one ion channel, and the first electrostatic eliminator corresponding to it. The ion channels are connected to provide electrostatic elimination ions to the ion channels. Through the ion channel set and the function of the first electrostatic eliminator corresponding to the ion channel, the static electricity generated by the surface of the substrate and the substrate carrier can be eliminated, thus the electrostatic adsorption between the substrate and the base board can be eliminated, and the substrate and the substrate platform can be easily stripped off. Therefore, in the process of stripping the substrate and substrate, it can effectively protect the substrate, effectively avoid the risk of fragmentation when the substrate is stripped, improve the production rate of the substrate and reduce the production cost.

【技术实现步骤摘要】
基板载台和曝光机
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种基板载台和一种包括该基板载台的曝光机。
技术介绍
近年来，随着半导体显示技术的高速发展，半导体制造中的光刻制程也显得越来越重要。而光刻制造中的曝光机也就成为半导体制造不可或缺的设备。然而，现有的曝光机的基板载台常常在基板与基板载台剥离的瞬间，因为基板与基板载台之间存在吸附静电的原因，导致基板与基板载台之间存在一个吸附力，因此常常造成基板碎片，造成生产损失。为了消除基板与基板载台剥离时产生的静电，如图1所示，在基板载台100的本体110的的一侧的上方位置处，设置有X-Ray静电消除器160。这样，当基板200被顶起时，X-Ray静电消除器160所发出的X射线在基板200的上、下表面电离空气，产生正负离子，从而可以分别中和基板200上的正负电荷，进而消除静电。但是，如图2所示，在基板200与基板载台100剥离的瞬间，也就是说，此时，基板200仍然与基板载台100贴合，正准备被支撑件140顶起，以实现基板200与基板载台100的剥离。此时的基板200与基板载台100之间存在吸附静电，具有较大的吸附力，而此时的X-Ray静电消除器160位于基板200的上方，其对基板200下方的静电消除作用非常微弱，因此常常导致基板200发生应力碎片，造成生产损失。因此，如何设计一种能够有效消除基板与基板载台剥离产生的静电的基板载台结构成为本领域亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种基板载台和一种包括该基板载台的曝光机。为了实现上述目的，本专利技术的第一方面，提供了一种基板载台，包括：本体，包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面用于承载基板，且所述第一表面设置有至少一个离子通道；至少一个第一静电消除器，每个所述第一静电消除器对应至少一个所述离子通道，所述第一静电消除器与其所对应的所述离子通道连接，以向所述离子通道内提供静电消除离子。优选地，所述第一静电消除器与所述离子通道一一对应设置。优选地，所述第一静电消除器安装在与其所对应的所述离子通道中。优选地，所述离子通道贯穿所述第一表面和所述第二表面，所述第一静电消除器位于所述第二表面。优选地，所述第一表面还设置有至少一个进气通道，所述基板载台还包括：至少一个进气管，每个所述进气管对应至少一个所述进气通道，且所述进气管与其所对应的所述进气通道连通，以向所述进气通道内提供气体；至少一个支撑件，可伸缩地设置于所述第一表面，以在气体的带动下顶起基板或放下基板。优选地，所述离子通道复用为所述进气通道。优选地，所述离子通道贯穿所述第一表面和所述第二表面，所述第一静电消除器位于所述第二表面，且所述第一静电消除器与其所对应的所述离子通道密闭连接。优选地，还包括：第二静电消除器，位于所述第一表面的一侧的外部，且与所述第一表面之间具有预定距离。优选地，所述第一静电消除器包括离子流式静电消除器和/或放射线式静电消除器。本专利技术的第二方面，提供了一种曝光机，包括前文记载的所述的基板载台。本专利技术的基板载台，通过在承载基板的第一表面设置离子通道以及与离子通道对应的第一静电消除器的作用，可以消除基板与基板载台相接触的表面所产生的静电，从而可以消除基板与基板载台之间的静电吸附力，进而可以使得基板与基板载台容易剥离。因此，本专利技术的基板载台，在基板与基板载台剥离的过程中，能够有效保护基板，有效避免基板剥离时出现碎片的风险，提高基板的制作良率，降低制作成本。本专利技术的曝光机，具有前文记载的基板载台的结构，其通过在承载基板的第一表面设置离子通道以及与离子通道对应的第一静电消除器的作用，可以消除基板与基板载台相接触的表面所产生的静电，从而可以消除基板与基板载台之间的静电吸附力，进而可以使得基板与基板载台容易剥离。因此，本专利技术的曝光机，在基板与基板载台剥离的过程中，能够有效保护基板，有效避免基板剥离时出现碎片的风险，提高基板的制作良率，降低制作成本。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术，但并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1为现有技术中基板载台的结构示意图；图2为图1中所示基板将要被支撑件顶起的结构示意图；图3为本专利技术第一实施例中基板载台的结构示意图；图4为本专利技术第二实施例中基板载台的结构示意图。附图标记说明100：基板载台；110：本体；111：第一表面；112：第二表面；113：离子通道；114：进气通道；120：第一静电消除器；130：进气管；140：支撑件；150：第二静电消除器；160：X-ray静电消除器；200：基板。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限制本专利技术。参考图3，本专利技术的第一方面，涉及一种基板载台100，该基板载台100包括本体110和至少一个第一静电消除器120。其中，本体110包括相对设置的第一表面111和第二表面112，其第一表面111用于承载基板200，并且，该第一表面111还设置有至少一个离子通道113。每个第一静电消除器120对应至少一个离子通道113，并且，第一静电消除器120与其所对应的离子通道113连接，以向离子通道113内提供静电消除离子。也就是说，如图3所示，上述基板载台100可以包括多个第一静电消除器120和多个设置在第一表面111的离子通道113，每个第一静电消除器120可以对应一个离子通道113。当然，根据实际需要，每个第一静电消除器120还可以对应两个或多个离子通道113等等。这样，当从基板载台100上剥离基板200时，可以控制第一静电消除器120处于打开状态，以便可以向离子通道113内输送静电消除离子，位于离子通道113内的静电消除离子可以移动至基板200与基板载台100相接触的表面处，即图3中基板200的下表面。这样，利用静电消除离子可以中和基板200和基板载台100之间所产生的静电，也就是说，静电消除离子为正离子和负离子，中和基板200和基板载台100上的正负电荷，使得基板200和基板载台100之间不存在静电吸附作用，从而可以方便地从基板载台100上取下基板200。本实施例结构的基板载台100，通过在承载基板200的第一表面111设置离子通道113以及与离子通道对应的第一静电消除器120的作用，可以消除基板200与基板载台100相接触的表面所产生的静电，从而可以消除基板200与基板载台100之间的静电吸附力，进而可以使得基板200与基板载台100容易剥离。因此，本实施例结构的基板载台100，在基板200与基板载台100剥离的过程中，能够有效保护基板200，有效避免基板200剥离时出现碎片的风险，提高基板200的制作良率，降低制作成本。需要说明的是，对于第一静电消除器120的具体结构并没有作出限定，其只要满足能够向离子通道113内提供静电消除离子即可。例如，第一静电消除器120可以独立产生并输出静电消除离子，如离子流式静电消除器，其可以输出正离子或负离子，以中和基板200与基板载台100之间产生的静电。再例如，第一静电消除器120还可以发出某一类电激光，其可以电离气体产生正离子或负离子本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板载台，其特征在于，包括：本体，包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面用于承载基板，且所述第一表面设置有至少一个离子通道；至少一个第一静电消除器，每个所述第一静电消除器对应至少一个所述离子通道，所述第一静电消除器与其所对应的所述离子通道连接，以向所述离子通道内提供静电消除离子。

【技术特征摘要】
1.一种基板载台，其特征在于，包括：本体，包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面用于承载基板，且所述第一表面设置有至少一个离子通道；至少一个第一静电消除器，每个所述第一静电消除器对应至少一个所述离子通道，所述第一静电消除器与其所对应的所述离子通道连接，以向所述离子通道内提供静电消除离子。2.根据权利要求1所述的基板载台，其特征在于，所述第一静电消除器与所述离子通道一一对应设置。3.根据权利要求2所述的基板载台，其特征在于，所述第一静电消除器安装在与其所对应的所述离子通道中。4.根据权利要求2所述的基板载台，其特征在于，所述离子通道贯穿所述第一表面和所述第二表面，所述第一静电消除器位于所述第二表面。5.根据权利要求1所述的基板载台，其特征在于，所述第一表面还设置有至少一个进气通道，所述基板载台还包括：至少一个进气管，每个所述进气管对应至少一个所述进...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹中林，高山，李挺，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11