The invention discloses a method of maintaining the pressure stability of the process switching process, first obtaining the difference between the time required for the conversion of the reference valve and the adjustment valves, and then controlling the switching state of the reference valve after the first time, and controlling the state of the post conversion switch between the adjustment valves at the corresponding second time. For any one of the globe valves, the rest of the globe valves are adjusting valves. The difference between the second time and the first time is the corresponding value of each adjustment valve. The method adjusts the start time of each cut-off valve to offset the difference of the conversion time caused by the self structure of the cut-off valve, so that the shut-off valves can be switched on and closed synchronously, and then the stability of the pressure of the process platform is ensured. The invention also discloses a device for maintaining the pressure stability of the process process switching process. The device has stable pressure in the reaction chamber and high quality of the product during the process of switching process.
【技术实现步骤摘要】
一种保持工艺制程切换过程压力稳定的方法及装置
本专利技术涉及光纤、半导体制造设备
,更具体地说,涉及一种保持工艺制程切换过程压力稳定的方法和装置。
技术介绍
在光纤、半导体制造的工艺设备中,为工艺机台提供原料气体的气体箱或气柜对最终产品的品质有着非常重要的影响。气体箱或气柜为包括质量流量控制器(MFC)、阀门等部件的气体流量供给装置。气体箱或气柜通常设有若干个支路,每个支路均与工艺机台连通,对处于工艺机台的产品进行加工。气体箱的每个支路均设有MFC,MFC用于控制该支路在标准大气压下的工艺气体可流通的最大质量流量。对光纤的芯、包界面、半导体制程的沉积、刻蚀等不同阶段的工艺产品进行加工时,气体箱或气柜需要控制不同气体流量的及切换供应不同种类的气体。切换工艺制程时需要关闭旧通道的截止阀并打开新通道的截止阀,其中新通道和旧通道均可以包括若干个截止阀。例如参考图1,图1为现有技术中的设计方案示意图,S1、S2、S3、S4为四种不同的气体源,L1、L2、L3、L4、L5、L6为气体箱的六个不同的工艺气体供给支路。进行一个工艺制程时支路L1、L2、L4为工艺机台供给工艺气体,在进行另一个工艺制程时支路L2、L3、L5供给工艺气体。因此切换过程中需要关闭旧通道的支路L1、L4同时打开新通道的支路L3、L5。现有技术通常直接对原通道和新通道的截止阀进行控制实现切换,然而由于各个截止阀自身的结构差异,各个截止阀可能出现不同步的情况,即工艺制程在两个通道进行切换时会在短时间内出现2个通道同时开启或关闭的情况。例如对于上述工艺制程的切换,可能出现L1、L4的截止阀已经关闭 ...
【技术保护点】
1.一种保持工艺制程切换过程压力稳定的方法,其特征在于,包括:S1、确定若干个截止阀中的任意一个为基准阀,其余均为调整阀,并获取所述基准阀与各个所述调整阀转换开闭状态所需时间的差值;S2、启动计时,控制所述基准阀在第一时间截止时转换开闭状态,控制各所述调整阀在其对应的第二时间后转换开闭状态,其中所述第二时间和所述第一时间的时间差为所述差值。
【技术特征摘要】
1.一种保持工艺制程切换过程压力稳定的方法,其特征在于,包括:S1、确定若干个截止阀中的任意一个为基准阀,其余均为调整阀,并获取所述基准阀与各个所述调整阀转换开闭状态所需时间的差值;S2、启动计时,控制所述基准阀在第一时间截止时转换开闭状态,控制各所述调整阀在其对应的第二时间后转换开闭状态,其中所述第二时间和所述第一时间的时间差为所述差值。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,S2之前还包括:对新通道的所述截止阀的上游进行预设泄放时间的泄放。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述预设泄放时间的范围为1秒至30秒。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第一时间的范围为100ms至1000ms。5.根据权利要求1-4所述的方法,其特征在于,当所述基准阀为转换用时最长的所述截止阀时,所述S2为:首先控制所述基准阀转换开闭状态,然后控制各所述调整阀在对应的所述第二时间后转换开关状态。6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,当所述基准阀和所述调整阀均为一个时,所述S1包括:S101、设置第一预设时间和第二预设时间,其中所述第一预设时间为新通道截止阀预估的延迟控制的时间,所述第二预设时间为旧通道截止阀预估的延迟控制的时间;S102、启动计时,在所述第一预设时间截止时,控制所述新通道截止阀打开,在所述第二预设时间截止时,控制所述旧通道截止阀关闭;S103、获得反应室的压力并将获得的所述压力与预设压力进行比较得到压力波动值,所述反应室为与所述新通道截止阀和所述旧通道截止阀连通的腔体结构;若所述压力波动值小于压差阈值,则确定当前的所述第二预设时间和所述第一预设时间差为所述差值;若所述压力波动值大于或等于压差阈值,且所述反应室的压力大于所述预设压力,则控制所述第一预设时间增加一个延时步长,或所述第二预设时间减少一个延时步长,并控制所述新通道截止阀和所述旧通道截止阀转换开闭状态,返回S102;若所述压力波动值大于或等于压差阈值,且所述反应室的压力小于所述预设压力,则控制所...
【专利技术属性】
技术研发人员:连海洲,孙效义,薛元,
申请(专利权)人:上海至纯洁净系统科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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