多相电抗器制造技术

一种多相电抗器，包括：上铁轭；下铁轭；至少2个上下分布的铁芯柱，位于所述上铁轭与所述下铁轭之间；多个绕组，分别绕设于对应的铁芯柱；至少一个共铁轭，所述共铁轭位于2个上下分布的铁芯柱之间。采用上述方案，能够降低多相电抗器的成本及体积。

【技术实现步骤摘要】
多相电抗器
本技术涉及电抗器
，尤其涉及一种多相电抗器。
技术介绍
目前，多相电抗器通常由多个单相电抗器并排放置。每个单相电抗器主要由上铁轭，下铁轭，设置于上铁轭与下铁轭之间的铁芯柱，以及绕设于铁芯柱的绕组组成。然而，这种多相电抗器体积较大，且成本较高。
技术实现思路
本技术解决的技术问题是如何减小多相电抗器的成本及体积。为解决上述技术问题，本技术实施例提供一种多相电抗器，包括：上铁轭；下铁轭；至少2个上下分布的铁芯柱，位于所述上铁轭与所述下铁轭之间；多个绕组，分别绕设于对应的铁芯柱；至少一个共铁轭，所述共铁轭位于2个上下分布的铁芯柱之间。可选的，所述上铁轭与所述共铁轭之间，2个共铁轭之间，或者所述共铁轭与所述下铁轭之间分别并排设置2个铁芯柱。可选的，并排设置的2个铁芯柱分别设有对应的绕组，且2个绕组串联。可选的，所述上铁轭与所述铁芯柱之间，所述共铁轭与所述铁芯柱之间，或者所述下铁轭与所述铁芯柱之间通过绝缘材料粘合连接。可选的，所述多相电抗器为三相电抗器，所述三相电抗器包括：第一共铁轭；第二共铁轭；第一铁芯柱，位于所述上铁轭与所述第一共铁轭之间；第一绕组，绕设于所述第一铁芯柱；第二铁芯本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多相电抗器，其特征在于，包括：上铁轭；下铁轭；至少2个上下分布的铁芯柱，位于所述上铁轭与所述下铁轭之间；多个绕组，分别绕设于对应的铁芯柱；至少一个共铁轭，所述共铁轭位于2个上下分布的铁芯柱之间。

【技术特征摘要】
1.一种多相电抗器，其特征在于，包括：上铁轭；下铁轭；至少2个上下分布的铁芯柱，位于所述上铁轭与所述下铁轭之间；多个绕组，分别绕设于对应的铁芯柱；至少一个共铁轭，所述共铁轭位于2个上下分布的铁芯柱之间。2.根据权利要求1所述的多相电抗器，其特征在于，所述上铁轭与所述共铁轭之间，2个共铁轭之间，或者所述共铁轭与所述下铁轭之间分别并排设置2个铁芯柱。3.根据权利要求2所述的多相电抗器，其特征在于，并排设置的2个铁芯柱分别设有对应的绕组，且2个绕组串联。4.根据权利要求1所述的多相电抗器，其特征在于，所述上铁轭与所述铁芯柱之间，所述共铁轭与所述铁芯柱之间，或者所述下铁轭与所述铁芯柱之间通过绝缘材料粘合连接。5.根据权利要求1所述的多相电抗器，其特征在于，所述多相电抗器为三相电抗器，所述三相电抗器包括：第一共铁轭；第二共铁轭；第一铁芯柱，位于所述上铁轭与所述第一共铁轭之间；第一绕组，绕设于所述第一铁芯柱；第二铁芯柱，位于所述第一共铁轭与所述第二共铁轭之间；第二绕组，绕设于所述第二铁芯柱；第三铁芯柱，位于所述第二共铁轭与所述下铁轭之间；第三绕组，绕设于所述第三铁芯柱。6.根据权利要求5所述的多相电抗器，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈全光，杨志辉，
申请(专利权)人：夏弗纳电磁兼容上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31