光学装置、曝光装置以及物品的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光学装置、曝光装置以及物品的制造方法。本发明专利技术提供对于降低致动器的线圈的热所引起的反射镜的变形而有利的光学装置。使反射镜变形的光学装置包括对所述反射镜施加力的多个致动器，所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，所述部件包括如下部分，该部分的和与所述反射镜的接触面平行的剖面的面积比与所述接触面平行的所述磁铁的剖面的面积小。

【技术实现步骤摘要】
光学装置、曝光装置以及物品的制造方法
本专利技术涉及使反射镜变形的光学装置、使用了该光学装置的曝光装置以及物品的制造方法。
技术介绍
在被用于半导体器件等的制造的曝光装置中，为了提高分辨率，优选使设置于投影光学系统的反射镜变形来校正投影光学系统的光学像差。另外，在望远镜中，也产生大气的波动等所引起的光学像差，所以优选使设置于望远镜的反射镜变形来校正光学像差。在专利文献1中，提出了使用致动器来使反射镜变形的光学装置。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2010-107658号公报
技术实现思路
在光学装置中，优选使用具有相互对置的线圈和磁铁的音圈马达(VCM)等致动器。在这样的致动器中不易产生磁滞，所以将磁铁与反射镜接合，控制线圈的电流，从而能够根据线圈的电流值容易地控制反射镜的形状。然而，线圈因电流的供给而放热，所以当该热传递到磁铁时，磁铁发生变形，在安装有磁铁的反射镜的部位有可能产生局部的变形。因而，本专利技术的目的在于提供对于降低致动器的线圈的热所引起的反射镜的变形而有利的光学装置。为了达到上述目的，作为本专利技术的一个方面的光学装置是使反射镜变形的光学装置，所述光学装置的特征在于，包括对所述反射镜施加力的多个致动器，所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，所述部件包括如下部分，该部分的和与所述反射镜的接触面平行的剖面的面积比与所述接触面平行的所述磁铁的剖面的面积小。作为本专利技术的一个方面的曝光装置是对基板进行曝光的曝光装置，所述曝光装置的特征在于，包括将掩模的图案投影到所述基板的投影光学系统，所述投影光学系统包括使反射镜变形的光学装置，所述光学装置包括对所述反射镜施加力的多个致动器，所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，所述部件包括如下部分，该部分的和与所述反射镜的接触面平行的剖面的面积比与所述接触面平行的所述磁铁的剖面的面积小。作为本专利技术的一个方面的物品的制造方法的特征在于，具有：使用曝光装置对基板进行曝光的工序；以及使在所述工序中被曝光的所述基板显影的工序，所述曝光装置包括将掩模的图案投影到所述基板的投影光学系统，所述投影光学系统包括使反射镜变形的光学装置，所述光学装置包括对所述反射镜施加力的多个致动器，所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，所述部件包括如下部分，该部分的和与所述反射镜的接触面平行的剖面的面积比与所述接触面平行的所述磁铁的剖面的面积小。本专利技术的进一步的目的或者其它方面能通过以下参照附图来说明的优选的实施方式变清楚。根据本专利技术，例如能够提供对于降低致动器的线圈的热所引起的反射镜的变形而有利的光学装置。附图说明图1是示出第1实施方式的光学装置的结构的概略图。图2是用于说明磁铁的变形所致的反射镜的局部的变形的图。图3是示出实施例1的部件的结构的图。图4是示出实施例2的部件的结构的图。图5是示出实施例3的部件的结构的图。图6是示出实施例4的部件的结构的图。图7是示出第2实施方式的光学装置的结构的概略图。图8是示出光学装置的变形例的图。图9是示出曝光装置的图。附图标记说明1：反射镜；2：基座平台；3：支承部件；4：致动器；4a：磁铁；4b：线圈；5：控制部；10(20)：光学装置。具体实施方式以下，参照附图，说明本专利技术的优选的实施方式。此外，在各图中，对相同的部件及要素标注相同的参照编号，省略重复的说明。<第1实施方式>参照图1，说明本专利技术的第1实施方式的光学装置10。图1是示出第1实施方式的光学装置10的结构的概略图。光学装置10是使反射镜1变形的装置，例如可包括基座平台2、支承反射镜1的支承部件3、对反射镜1施加力的多个致动器4以及控制部5。控制部5例如包括具有CPU、存储器等的计算机，控制多个致动器4的各个致动器。在此，本实施方式的光学装置10例如能够用于使曝光装置的投影光学系统所包含的反射镜变形，校正投影光学系统的光学像差、投影图像的倍率、失真、聚焦等。然而，并不限于此，例如也可以用于使望远镜所包含的反射镜变形，校正该望远镜的光学像差。另外，本实施方式的光学装置10例如能够构成为使杨氏模量为50MPa左右的反射镜1变形。反射镜1具有使光反射的反射面1a以及作为反射面1a的相反侧的面的背面1b，由固定于基座平台2的支承部件3支承。即，反射镜1还能够说成是经由支承部件3由基座平台2支承。在此，在本实施方式(图1)中，包括反射镜1的中心的反射镜1的一部分(以下，中心部)由支承部件3支承。然而，并不限于此，也可以由支承部件3支承反射镜1的中心部以外的部分。另外，本实施方式的反射镜1具有平行平板的形状，但并不限定于该形状，也可以具有凹形状或者凸形状。多个致动器4配置于反射镜1与基座平台2之间，对反射镜1的背面1b施加力来使反射镜1变形。多个致动器4分别具有相互对置地配置的磁铁4a(可动件)和线圈4b(定子)，通过对线圈4b供给电流而使磁铁4a与线圈4b之间产生洛仑兹力、电磁力，从而对反射镜1的背面1b施加力。磁铁4a以及线圈4b能够以在磁铁4a与线圈4b之间例如形成0.1mm左右的间隙的方式在对反射镜1的背面1b施加力的方向(Z方向)上隔离地配置。作为各致动器4，例如能够使用音圈马达(以下，VCM)。在这样具有磁铁4a和线圈4b的VCM等致动器中不易产生磁滞，所以通过控制致动器4中的线圈4b的电流值，能够根据该电流值容易地控制反射镜1的形状。在此，在本实施方式的光学装置10中，磁铁4a由反射镜1支承，线圈4b由基座平台2支承。也可以是磁铁4a由基座平台2支承，线圈4b由反射镜1支承，但在线圈4b由反射镜1支承的结构中，需要将用于使电流流过线圈4b的布线形成于反射镜1，结构可能变复杂。因此，如图1所示，优选线圈4b由基座平台2支承。另外，在致动器4中，为了尽可能减小线圈4b的电流值，优选使用具有尽可能大的磁通密度的磁铁4a。作为致动器4的磁铁4a，例如能够使用钕磁铁。控制部5控制致动器4的线圈4b的电流值，以使反射镜1的形状成为目标形状。例如，控制部5具有调整线圈4b的电流(使电流增减)的电流放大器5a，利用电流放大器5a控制线圈4b的电流值，以使致动器4产生推力而使反射镜1的形状成为目标形状。在此，在本实施方式的光学装置10中，构成为控制致动器4的线圈4b的电流值，但并不限于此。例如，也可以构成为设置测量反射镜1的形状(或者反射镜1与基座平台2之间的距离)的测量部，根据测量部的测量结果对线圈4b的电流值进行反馈控制。另外，在图1中，仅两个线圈4b连接于电流放大器5a(控制部5)，但这只是简化了示图，实际上，所有的线圈4b能够连接于电流放大器5a。在这样的光学装置中，致动器4的线圈4b由于电流的供给而放热，所以当该热传递到磁铁4a时，磁铁4a发生变形，可能在反射镜1产生(不想要的)局部的变形。例如，当将光学装置10用于曝光装置的情况下，为了减少由于曝光的光的照射而反射镜1热变形这一情况，反射镜1优选由线膨胀系数小的材质(例如1ppm/℃以下)来构成。另一方面，作为致动器4的磁铁4a，如前所述优选使用钕磁铁本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学装置，使反射镜变形，所述光学装置的特征在于，包括对所述反射镜施加力的多个致动器，所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，所述部件包括如下部分，该部分的和与所述反射镜的接触面平行的剖面的面积比与所述接触面平行的所述磁铁的剖面的面积小。

【技术特征摘要】
2016.12.21 JP 2016-2483951.一种光学装置，使反射镜变形，所述光学装置的特征在于，包括对所述反射镜施加力的多个致动器，所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，所述部件包括如下部分，该部分的和与所述反射镜的接触面平行的剖面的面积比与所述接触面平行的所述磁铁的剖面的面积小。2.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，所述部件由与构成所述反射镜的材质相同的材质构成。3.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，所述部分的剖面的面积为所述磁铁的剖面的面积的1/4以下。4.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，所述部件与所述反射镜的线膨胀系数之差比所述磁铁与所述反射镜的线膨胀系数之差小。5.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，在所述反射镜与所述部件之间还包括将所述反射镜与所述部件结合的结合部件。6.根据权利要求5所述的光学装置，其特征在于，所述结合部件的厚度比所述部件的厚度薄。7.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，所述光学装置还包括支承所述反射镜的支承部件，所述多个致动器包括第1致动器以及比所述第1致动器更靠近所述支承部件的第2致动器，对所述第2致动器的磁铁设置的所述部件比对所述第1致动器的磁铁设置的所述部件厚。8.根据权利要求7所述的光学装置，其特征在于，所述光学装置还包括基座平台，该基座平台支承所述多个致动器的各个致动器中的线圈，所述第2致动器的线圈配置于设置于所述基座平台的凹部的内侧。9.根据权利要求1所述的光学装置，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：春见和之，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP