一种高反射率耐腐蚀的PVDF薄膜及其制备方法、应用技术

本发明专利技术一种高反射率耐腐蚀的PVDF薄膜及其制备方法、应用属于太阳能光伏背板应用领域，具体涉及一种高反射率耐腐蚀的PVDF薄膜及应用的光伏背板及其制备方法。PVDF薄膜具有三层结构，基底层为PVDF层，与基底层直接相连的是镀铝层，镀铝层的上方覆盖一层保护层。其制备过程包括制备PVDF层、制备镀铝层和制备保护层。常规的PVDF薄膜的反射率一般在50%‑60%左右，通过在其表面镀铝后，可以提高PVDF薄膜的反射率至90%以上，同时硅氧化物作为镀铝层的保护层，可有效避免水汽和氧气对镀铝反光层的腐蚀作用，保证反光效率，极大提高了光伏组件对太阳光的利用率，提高光伏电站的发电量，保证光伏电站25年使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种高反射率耐腐蚀的PVDF薄膜及其制备方法、应用
本专利技术一种高反射率耐腐蚀的PVDF薄膜及其制备方法、应用属于太阳能光伏背板应用领域，具体涉及一种高反射率耐腐蚀的PVDF薄膜及应用的光伏背板及其制备方法。
技术介绍
光伏背板位于组件背面的最外层，用于抵挡户外恶劣环境保护光伏电池组件不受水汽、氧气的侵蚀，同时要求光伏背板具有耐高低温、良好的绝缘性、耐老化和耐腐蚀性能。光伏背板外层保护层材料一般为含氟材料，PVF和PVDF为最常见的两种含氟材料，由于PVDF在分子结构上多一个氟原子，所以其比PVF更致密、更耐候、阻隔性更好。由于光伏组件的光利用率低，因此提供一种高反射率光伏背板用PVDF薄膜是非常有必要的。中国专利申请号201610353453.1公开了单面磨砂高反射太阳能背板用PVDF薄膜及其制备方法。该PVDF薄膜包括四层熔融共挤形成的依次复合的外层、中间层、内层和反光层，且其外层和内层的材料均为PVDF，而反光层的材料为丙烯酸接枝聚偏氟乙烯，接枝率低，且其实际反射率不高，工艺复杂，成本高。目前用的比较广泛的另一种提高PVDF薄膜的反射率的方法就是在薄膜制备配方中多添加钛白粉，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高反射率耐腐蚀PVDF薄膜，其特征在于，所述的PVDF薄膜具有三层结构，基底层为PVDF层，与基底层直接相连的是镀铝层，镀铝层的上方覆盖一层保护层。

【技术特征摘要】
1.一种高反射率耐腐蚀PVDF薄膜，其特征在于，所述的PVDF薄膜具有三层结构，基底层为PVDF层，与基底层直接相连的是镀铝层，镀铝层的上方覆盖一层保护层。2.根据权利要求1所述的一种高反射率耐腐蚀的PVDF薄膜，其特征在于，所述的PVDF层的厚度为10-60微米，所述的镀铝层的厚度为30-60纳米，所述的保护层的厚度为10-50纳米。3.根据权利要求1所述的一种高反射率耐腐蚀的PVDF薄膜，其特征在于，所述的保护层为过渡金属氧化物、金属卤化物或SiO2中的任一种。4.根据权利要求3所述的一种高反射率耐腐蚀的PVDF薄膜，其特征在于，所述的过渡金属氧化物为Ta2O5、HfO2、Nb2O5中的任一种；所述的金属卤化物为MgF2或YF3中的任一种。5.权利要求1所述的一种高反射率耐腐蚀的PVDF薄膜制备方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）制备PVDF层，其中PVDF层包括50-80重量份PVDF、5-20重量份钛白粉、1-10重量份PMMA、0.05-2重量份抗氧剂和0.05-2重量份抗紫外剂；将以上原料进行高速混合后，采用双螺杆挤出机进行造粒，再用吹膜法或流延法制备薄膜半成品，最后通过分切机分切后制得光伏背板用PVDF薄膜；（2）制备镀铝层，在步骤（1）得到的PVDF薄膜表面进行电晕处理，使得薄膜表面张力达到38×10-5N-40×10-5N，再将其收卷后置于真空室内，关闭真空室抽真空，直至真空度的范围控制在10-6-10-2pa，将蒸发源升温至1400℃-1500℃，再把纯度为99.9%的铝金属丝连续送至蒸发源高温区，控制铝气相分子数蒸发速率为1.0×1017g/cm*s-2.0×1017g/cm*s，PVDF薄膜的移动速度为铝气相分子数蒸发速率的1/2倍，开通冷却源，使铝丝在高温区内连续的熔化、蒸发，从而在移动的PVDF薄膜表面形成一层光亮的铝层，经冷却后即成成品，成品按规格分切后即可得镀铝PVDF薄膜；（3）制备保护层，通过物理气相沉积PVD或化学气相沉积CVD的方法在步骤（2）得到的镀铝层薄膜上沉积厚度为10~100nm的硅氧化物SiO2保护层，即可得到一种高反射率耐腐蚀的PVDF薄膜。6.根据权利要求5所述的一种高反射率耐腐蚀的PVDF薄膜制备方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：王同心，许先华，薛群山，沈一春，
申请(专利权)人：中天科技精密材料有限公司，江苏中天科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32