一种扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩制造技术

本发明专利技术公开了一种扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩。该天线罩由两个或多个超表面级联而成，根据角度偏转要求和平行光线的要求计算出每层超表面的空间相位分布。本发明专利技术通过对超表面相位的补偿与优化，得到级联式的超表面，其可以将相位阵列天线从‑60～60度扩展到‑90～90度的范围，不会降低天线的方向性。由于材料是二维的超表面结构，因此本发明专利技术天线罩比较轻巧而且节省材料和空间。

【技术实现步骤摘要】
一种扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩
本专利技术属于光学领域，更具体地涉及到一种级联式(包括曲面)的超表面结构组成的天线罩，用于扩展相位阵列天线的偏转角度。
技术介绍
相位阵列天线由于其方向性好，偏转角度迅速可调的优点被广泛应用于雷达系统、无线通讯和卫星广播中。然而相位阵列天线的偏转角度一般限制在-60～60度范围内，因此进一步提高其偏转角度到-90～90度非常重要。目前有几种方法可以用来进一步提高其扩展角度，总结如下：(I)机械方法，即通过机械转动辅助角度调节。该方法由于使用机械加速减速过程，减小了角度扫描的速度，进而降低了整体相位阵列天线系统的响应速度。(II)负折射率材料天线罩方法。该方法的优点是可以大幅度增大扫描角度的范围，可以满足-90～90的要求。缺点是设计复杂，需要耗时的优化过程，且材料需要负折射率材料，损耗大且加工制作不方便，这些都限制了其实际应用。(III)变换光学方法。该方法的优点是可以精确设计偏转的角度和材料参数的关系，缺点是材料参数复杂(非均匀且各向异性)，不易加工制作。(IV)光学表面变换方法。这是变换光学方法的改进版，用两种各向同性的自然材料组成预先设定的层状结构来满足变换后高各向异性的材料参数需求，优点是材料参数大大简化，使得加工制作变得容易。但是上面所有的方法都是“基于位置”的思想，用几何光学来说，也就是说偏角只依赖于光线打在天线罩上的位置，当一宽波束打在天线罩上的时候，不同的位置将会使波束有不同的偏折角度，这样波束经过天线罩就回发散。因此这种基于位置的方法会降低天线的方向性。上面的方法还有一个缺点就是他们都是三维的体结构，这导致天线罩比较厚重、而且耗费材料。本专利技术使用一种“基于方向”的天线罩，波束经过天线罩后的偏转角度只依赖于入射时候的角度，而和入射位置无关。该方法不会降低天线的方向性。而且本专利技术使用了级联的超表面结构，由于是二维的面结构，使得天线罩轻巧而且节省材料。
技术实现思路
1、专利技术目的。本专利技术在不降低天线方向性的基础上扩展扫描角度，提供了一种优化空间相位的扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩。2、本专利技术所采用的技术方案。本专利技术提出了一种扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩，总用两个或多个超表面级联而成，通过计算得到每个超表面的相位分布，然后进一步通过数值优化得到更好的相位分布。下面以两个超表面(第一个为平面，第二个为曲面)级联来具体阐述步骤，目标是将-60～60度的角度扩展到-90～90度：本专利技术提出一种扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩，由两个或多个超表面级联而成，根据角度偏转要求和平行光线的要求计算出每层超表面的空间相位分布。更进一步，还包括以最小偏转角度偏差为目标函数进行全局优化，得到相位最优分布。更进一步，所述的超表面结构为平面型或曲面形。更进一步，相位阵列天线的偏转角度扩展到90度。更进一步，采用前一级超表面中心光线的轨迹来计算第二个超表面(曲面结构)的相位补偿分布。本专利技术一种扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩，计算曲面结构的超表面的相位分布：通过中心光线的轨迹来计算第二个超表面曲面结构的相位分布，即其中R为天线罩的半径，λ为波长，θ为入射角，φ2(θ)为入射角度为θ的时候，中心光线对应的入射位置的相位；更进一步，还包括优化平面结构的超表面的相位分布步骤，得到第一个超表面的相位分布：其中ρ为超表面长度的一半，x对应入射位置，λ为波长，n为优化系数的个数，an为需要优化的系数；目标函数为设计的出射角度与实际的出射角度的差值：f(x,θ入射)＝|θ目标-θ实际|其中θ目标为预先设定的扩展后的角度，θ实际可以由上述两个公式推算得到，通过优化算法进行优化后得到系数分布an。本专利技术提出一种扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩，包括3个平面型的超表面级联形成的天线罩，第一个超表面将平行光聚焦于焦平面即第二个超表面位置，第二个超表面对波束起到偏转作用，使中心波束垂直入射到第三个超表面上，使得能量更为集中，第三个超表面焦平面也在第二个超表面上，使得发散光线变为平行光，3个超表面的相位分布图，相应的公式为：其中f1为第一个超表面和第二个超表面的焦距，f2为第三个超表面的焦距，φ0为任意值。本专利技术提出一种扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩，两个平面型超表面构成的天线罩，第一块超表面为一凸透镜，第二块超表面为一凹透镜，两块超表面的相位分布图：其中f1和f2分别为第一块超表面和第二块超表面的焦距。3、本专利技术所产生的技术效果。(1)本专利技术有效的解决了增大相位阵列天线偏转角度的同时又不降低其方向性这一矛盾。本专利技术之所以能解决该矛盾是因为用了多层的超表面，最终的波束出射方向不仅和第一个入射的位置有关，而且和之后的入射位置也有关，通过合理设计使得这些相关的量加起来互相抵消，最终变为对位置不相关的量。(2)本专利技术的天线罩工艺制作简单、材料质量小、厚度薄，节省空间和材料。制作工艺是目前成熟的电路板刻蚀技术，可以批量生产制造。超表面之间的空间完全可以放一些其他的东西，节省了空间，只要不影响波束的传播即可。(3)本专利技术用了两层或多层的二维结构，可以贴于结构的表面，方便集成，应用范围广。使用柔性的电路板制作的天线罩完全可以贴于天线的表面，与整个天线或雷达系统完美集成。附图说明图1为专利技术的方法原理图。图2为实施例的原理图。图3为实施例的超表面相位分布图。图4为实施例的仿真图。图5为实施例2的方向图。图6为实施例3的原理图。图7为实施例3的超表面相位分布图。图8为实施例3的仿真图。图9为实施例3的方向图。图10为实施例4的原理图。图11为实施例4的超表面相位分布图。图12为实施例4的仿真图。图13为实施例4的方向图。具体实施方式为了使专利局的审查员尤其是公众能够更加清楚地理解本专利技术的技术实质和有益效果，申请人将在下面以实施例的方式作详细说明，但是对实施例的描述均不是对本专利技术方案的限制，任何依据本专利技术构思所作出的仅仅为形式上的而非实质性的等效变换都应视为本专利技术的技术方案范畴。如图1所示，a和b为传统的“基于位置”的天线罩设计，也就是只有一层结构S0；c和d为“基于方向”的天线罩设计，是多层结构S1～SN。可以看出传统的方法会使平行光束发散，而本专利技术的方法可以使出射光束仍旧为平行的。下面以附图的形式说明3个具体的实施方式。实施例1：本专利技术提出了一种扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩，用两个或多个超表面级联而成，通过计算得到每个超表面的相位分布，然后进一步通过数值优化得到更好的相位分布。下面以两个超表面(第一个为平面，第二个为曲面)级联来具体阐述，目标是将-60～60度的角度扩展到-90～90度：步骤1、计算曲面结构的超表面的相位分布：我们可以通过中心光线的轨迹来计算第二个超表面(曲面结构)的相位分布，即其中R为天线罩的半径，λ为波长，θ为入射角，φ2(θ)为入射角度为θ的时候，中心光线对应的入射位置的相位；步骤2、优化平面结构的超表面的相位分布：我们可以得出第一个超表面的相位分布：其中ρ为超表面长度的一半，x对应入射位置，λ为波长，n为优化系数的个数，an为需要优化的系数。我们的目标函数为设计的出射角度与实际的出射角度的差值：f(x,θ入射)＝|θ目标-θ实际|(3)其中θ目标为我们预先设定的扩展后的角度，比如本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩，其特征在于:由两个或多个超表面级联而成相位阵列天线，根据角度偏转要求和平行光线的要求计算出每层超表面的空间相位分布。

【技术特征摘要】
1.一种扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩，其特征在于:由两个或多个超表面级联而成相位阵列天线，根据角度偏转要求和平行光线的要求计算出每层超表面的空间相位分布。2.根据权利要求1所述的扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩，其特征在于:还包括以最小偏转角度偏差为目标函数进行全局优化，得到相位最优分布。3.根据权利要求1所述的扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩，其特征在于:所述的超表面结构为平面型或曲面形。4.根据权利要求1所述的天线罩，其特征在于：相位阵列天线的偏转角度扩展到90度。5.根据权利要求1所述的天线罩，其特征在于：超表面材料和结构通过印刷电路板刻蚀微结构获得。6.根据权利要求1所述的天线罩，其特征在于：采用前一级超表面中心光线的轨迹来计算第二个超表面的相位补偿分布。7.一种扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩，其特征在于:计算曲面结构的超表面的相位分布：通过中心光线的轨迹来计算第二个超表面曲面结构的相位分布，即其中R为天线罩的半径，λ为波长，θ为入射角，φ2(θ)为入射角度为θ的时候，中心光线对应的入射位置的相位。8.根据权利要求7所述的扩展相位阵列天线偏转角度的天线罩，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：何赛灵，刘一超，
申请(专利权)人：常熟市浙大紫金光电技术研究中心，
类型：发明
国别省市：江苏,32