一种牙种植体表面抛光的方法技术

本发明专利技术涉及一种牙种植体表面抛光的方法，属于抛光领域。本发明专利技术所述牙种植体表面抛光的方法为：将化学镀溶液、纳米抛光颗粒加到机械抛光后的牙种植体表面上进行抛光；所述化学镀溶液为主盐硝酸银溶液与还原剂葡萄糖溶液；抛光布的转速为5‑10r/min；所述牙种植体的转速为50‑100r/min。本发明专利技术所述方法可以快速得到高光洁的牙种植体表面。 1

A method of polishing the surface of dental implants

The invention relates to a method for polishing dental implant surfaces, belonging to the polishing field. The method of polishing the surface of the dental implant is to polish the electroless plating solution and nano polished particles on the surface of the dental implant after the mechanical polishing; the electroless plating solution is mainly a salt nitrate solution and a reducing agent glucose solution; the speed of the polishing cloth is 5 10r/min; the rotational speed of the dental implant is 50 00r/min. The method of the invention can quickly obtain the surface of a highly polished dental implant. One

【技术实现步骤摘要】
一种牙种植体表面抛光的方法
本专利技术涉及一种牙种植体表面抛光的方法，属于抛光领域。
技术介绍
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的，有时也用以消除光泽(消光)。通常以抛光轮作为抛光工具。抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成，两侧用金属圆板夹紧，其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。抛光时，高速旋转的抛光轮(圆周速度在20米/秒以上)压向工件，使磨料对工件表面产生滚压和微量切削，从而获得光亮的加工表面，当采用非油脂性的消光抛光剂时，可对光亮表面消光以改善外观。大批量生产轴承钢球时，常采用滚筒抛光的方法。粗抛时将大量钢球、石灰和磨料放在倾斜的罐状滚筒中，滚筒转动时，使钢球与磨料等在筒内随机地滚动碰撞以达到去除表面凸锋而减小表面粗糙度的目的，可去除0.01毫米左右的余量。精抛时在木桶中装入钢球和毛皮碎块，连续转动数小时可得到耀眼光亮的表面。精密线纹尺的抛光是将加工表面浸在抛光液中进行的，抛光液由粒度为W5-W0.5的氧化铬微粉和乳化液混合而成。抛光轮采用材质匀细经脱脂处理的木材或特制的细毛毡制成，其运动轨迹为均匀稠密的网状。
技术实现思路
本专利技术通过化学镀与机械抛光的协同作用，使抛光后的牙种植体表面粗糙度Ra为≤0.001μm，解决了现有抛光方法无法快速得到高光洁牙种植体表面的问题。本专利技术提供了一种牙种植体表面抛光的方法，所述牙种植体表面抛光的方法为：将化学镀溶液、纳米抛光颗粒加到机械抛光后的牙种植体表面上进行抛光；所述化学镀溶液为主盐硝酸银溶液与还原剂葡萄糖溶液；抛光布的转速为5-10r/min；所述牙种植体的转速为50-100r/min。本专利技术所述纳米抛光颗粒优选为纳米三氧化二铝。本专利技术所述纳米三氧化二铝的粒度优选为≤2nm。本专利技术所述化学镀溶液与纳米抛光颗粒的重量比优选为1：0.005-0.01。本专利技术所述抛光布与牙种植体抛光面的接触压力优选为100-150g/cm2。本专利技术所述方法优选为包括粗抛光的步骤、精抛光的步骤、化学镀复合抛光的步骤；其中，所述粗抛光的步骤为：采用粒度为300-350nm的金刚石塑胶磨轮将牙种植体表面抛光；所述牙种植体的转速为500-800r/min。本专利技术所述粗抛光的步骤中金刚石塑胶磨轮与牙种植体抛光面的接触压力优选为250-350g/cm2。本专利技术所述精抛光的步骤优选为：将粒度250-280nm的胶体金刚石抛光液加到粗抛光后的牙种植体表面上，采用聚氨酯抛光布进行第一次精抛光；所述第一次精抛光中聚氨酯抛光布的转速为350-400r/min；将粒度200-220nm的胶体金刚石抛光液加到第一次精抛光后的牙种植体表面上，采用聚氨酯抛光布进行第二次精抛光；所述第二次精抛光中聚氨酯抛光布的转速为250-300r/min；将粒度150-180nm的胶体金刚石抛光液加到第二次精抛光后的牙种植体表面上，采用聚氨酯抛光布进行第三次精抛光；所述第三次精抛光中聚氨酯抛光布的转速为150-200r/min。本专利技术所述第一次精抛光中聚氨酯抛光布与牙种植体抛光面的接触压力优选为150-250g/cm2。本专利技术所述第二次精抛光中聚氨酯抛光布与牙种植体抛光面的接触压力优选为100-200g/cm2。本专利技术所述第三次精抛光中聚氨酯抛光布与牙种植体抛光面的接触压力优选为50-100g/cm2。本专利技术通过将化学镀溶液、纳米抛光颗粒加到机械抛光后的牙种植体表面上进行抛光；所述化学镀溶液为主盐硝酸银溶液与还原剂葡萄糖溶液；抛光布的转速为5-10r/min；所述牙种植体的转速为50-100r/min。本专利技术所述方法可以快速得到高光洁的牙种植体表面。解决了现有抛光方法无法快速得到高光洁牙种植体表面的问题。具体实施方式下述非限制性实施例可以使本领域的普通技术人员更全面地理解本专利技术，但不以任何方式限制本专利技术。下述化学镀主盐硝酸银溶液的制备方法为：将主盐AgNO3溶于去离子水中，搅拌中第一次加入氨水至溶液澄清，再加入NaOH固体，混匀后第二次加入氨水至溶液澄清，得到化学镀主盐硝酸银溶液；所述主盐AgNO3、去离子水与NaOH固体的重量比为1：17：0.5。下述化学镀还原剂葡萄糖溶液的制备方法为：将还原剂葡萄糖溶于去离子水中，加入无水乙醇溶解后，再加入浓硝酸，沸煮15min；所述还原剂葡萄糖、去离子水、无水乙醇与浓硝酸的重量比为1：22：2：0.1。下述化学镀溶液的制备方法为：将化学镀主盐硝酸银溶液与化学镀还原剂葡萄糖溶液按体积比1：1混匀。实施例1一种牙种植体表面抛光的方法，所述方法包括如下步骤：粗抛光步骤：采用粒度为350nm的金刚石塑胶磨轮将牙种植体表面抛光10min，抛光时向接触面持续滴加去离子水；所述金刚石塑胶磨轮与牙种植体抛光面的接触压力为320g/cm2，所述牙种植体的转速为750r/min。精抛光步骤：将粒度250nm的胶体金刚石抛光液加到粗抛光后的牙种植体表面上，采用聚氨酯抛光布进行第一次精抛光20min，其聚氨酯抛光布与牙种植体抛光面的接触压力为200g/cm2，聚氨酯抛光布的回转速度为380r/min；将粒度200nm的胶体金刚石抛光液加到第一次精抛光后的牙种植体表面上，采用聚氨酯抛光布进行第二次精抛光15min，其聚氨酯抛光布与牙种植体抛光面的接触压力为150g/cm2，聚氨酯抛光布的回转速度为280r/min；将粒度150nm的胶体金刚石抛光液加在第二次精抛光后的牙种植体表面上，采用聚氨酯抛光布进行第三次精抛光10min，其聚氨酯抛光布与牙种植体抛光面的接触压力为100g/cm2，聚氨酯抛光布的回转速度为200r/min。化学镀复合抛光步骤：将重量比为1：0.005的化学镀溶液与粒度≤2nm的纳米三氧化二铝混合液加到第三次精抛光后的牙种植体表面上，采用聚氨酯抛光布进行抛光10min，其聚氨酯抛光布与牙种植体抛光面的接触压力为100g/cm2，聚氨酯抛光布的回转速度为5r/min，牙种植体的转速为80r/min。抛光前，牙种植体表面粗糙度Ra为0.10μm，抛光后，牙种植体表面粗糙度Ra为0.001μm。实施例2一种牙种植体表面抛光的方法，所述方法包括如下步骤：粗抛光步骤：采用粒度为300nm的金刚石塑胶磨轮将牙种植体表面抛光10min，抛光时向接触面持续滴加去离子水；所述金刚石塑胶磨轮与牙种植体抛光面的接触压力为300g/cm2，所述牙种植体的转速为550r/min。精抛光步骤：将粒度270nm的胶体金刚石抛光液加到粗抛光后的牙种植体表面上，采用聚氨酯抛光布进行第一次精抛光20min，其聚氨酯抛光布与牙种植体抛光面的接触压力为220g/cm2，聚氨酯抛光布的回转速度为350r/min；将粒度205nm的胶体金刚石抛光液加到第一次精抛光后的牙种植体表面上，采用聚氨酯抛光布进行第二次精抛光15min，其聚氨酯抛光布与牙种植体抛光面的接触压力为120g/cm2，聚氨酯抛光布的回转速度为250r/min；将粒度155nm的胶体金刚石抛光液加到第二次精抛光后的牙种植体表面上，采用聚氨酯抛光布进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种牙种植体表面抛光的方法，其特征在于：所述牙种植体表面抛光的方法为：将化

【技术特征摘要】
1.一种牙种植体表面抛光的方法，其特征在于：所述牙种植体表面抛光的方法为：将化学镀溶液、纳米抛光颗粒加到机械抛光后的牙种植体表面上进行抛光；所述化学镀溶液为主盐硝酸银溶液与还原剂葡萄糖溶液；抛光布的转速为5-10r/min；所述牙种植体的转速为50-100r/min。2.根据权利要求1所述牙种植体表面抛光的方法，其特征在于：所述纳米抛光颗粒为纳米三氧化二铝。3.根据权利要求2所述牙种植体表面抛光的方法，其特征在于：所述化学镀溶液与纳米抛光颗粒的重量比为1：0.005-0.01。4.根据权利要求3所述牙种植体表面抛光的方法，其特征在于：所述抛光布与牙种植体抛光面的接触压力为100-150g/cm2。5.根据权利要求4所述牙种植体表面抛光的方法，其特征在于：所述方法包括粗抛光的步骤、精抛光的步骤、化学镀复合抛光的步骤；其中，所述粗抛光的步骤为：采用粒度为300-350nm的金刚石塑胶磨轮将牙种植体表面抛光；所述牙种植体的转速为500-800r/min。6.根据权利要求5所述牙种植体表面抛光的方法，其特征在于：所述粗抛光的步骤中金刚石塑胶磨轮与牙种植体抛光面的接触压力为250-350g/cm2。7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡俊江，张久文，
申请(专利权)人：大连三生科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁,21