蒸镀装置及蒸镀方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种蒸镀装置及蒸镀方法。该蒸镀装置包括材料放置腔、设于材料放置腔外侧的涡流加热腔、设于材料放置腔与涡流加热腔之间的冷却控制层、设于涡流加热腔外侧的隔热层及设于隔热层外侧的线圈，涡流加热腔内填充有导电材料，进行蒸镀时，在材料放置腔内放入待蒸镀材料，并向线圈通入交变电流，在涡流加热腔内的导电材料上形成涡电流，使导电材料被加热熔化成液体并向材料放置腔辐射热量，而冷却控制层通入冷却液，通过调节通入冷却液的流量控制熔化成液体的导电材料辐射至材料放置腔的热量，使材料放置腔内的待蒸镀材料均匀升温，能够消除蒸镀时的纵向温差，提高蒸镀制得的OLED器件的发光效率及OLED面板的显示效果。

Evaporation device and method of evaporation

The invention provides an evaporation device and a evaporation method. The evaporation device includes the material placement cavity, the eddy heating chamber located on the outside of the material placement cavity, the cooling control layer located between the material placing cavity and the eddy current heating chamber, the heat insulation layer on the outside of the eddy current heating chamber, and the coils on the outside of the heat insulation layer. The deposited material is placed in the cavity, and the alternating current is inserted into the coil, and the eddy current is formed on the conductive material in the cavity of the eddy current heating, so that the conductive material is heated to melt into liquid and the heat is placed in the cavity to the material, and the cooling control layer is poured into the cooling fluid and melted into liquid by regulating the flow of the flow into the cooling fluid. The heat of the conductive material is radiated to the cavity of the material, so that the material to be steamed in the cavity is heated evenly. It can eliminate the longitudinal temperature difference of the evaporation and improve the luminous efficiency of the OLED device and the display effect of the OLED panel.

【技术实现步骤摘要】
蒸镀装置及蒸镀方法
本专利技术涉及显示装置制造领域，尤其涉及一种蒸镀装置及蒸镀方法。
技术介绍
有机发光二极管(OLED)是一种极具发展前景的平板显示技术，它具有十分优异的显示性能，特别是自发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、宽视角、低功耗及可实现柔性显示等特性，被誉为“梦幻显示器”，再加上其生产设备投资远小于液晶显示器(TFT-LCD)，得到了各大显示器厂家的青睐，已成为显示
中第三代显示器件的主力军。目前OLED已处于大规模量产的前夜，随着研究的进一步深入，新技术的不断涌现，OLED显示器件必将有一个突破性的发展。OLED器件通常包括：基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的空穴注入层、设于空穴注入层上的空穴传输层、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层、设于电子传输层上的电子注入层及设于电子注入层上的阴极。OLED器件的发光原理为半导体材料和有机发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光。具体的，OLED器件通常采用ITO像素电极和金属电极分别作为器件的阳极和阴极，在一定电压驱动下，电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层和空穴传输层，电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层，并在发光层中相遇，形成激子并使发光分子激发，后者经过辐射弛豫而发出可见光。OLED器件中的有机材料层的主流制备技术和方法是蒸镀法，具体为在真空腔体内加热有机小分子材料，使其升华或者熔融气化成材料蒸汽，通过金属光罩的开孔沉积在玻璃基板上，蒸镀技术中常见加热方式包括热传导式电阻加热、交频涡流加热及辐射加热，其中，热传道式的电阻加热速度较慢，交频涡流加热的加热速度快，而辐射加热具有加热均匀的特点。现有的OLED坩埚蒸发系统中，受制于加热方式，大坩埚在受热过程中，坩埚存在上下段温差，而温差的存在会导致蒸镀的有机材料裂解，从而影响蒸镀制得的OLED器件的发光效率，进而影响OLED面板的显示效果。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种蒸镀装置，能够消除蒸镀时的纵向温差，使蒸镀材料快速均匀升温，提高蒸镀制得的OLED器件的发光效率及OLED面板的显示效果。本专利技术的另一目的在于提供一种蒸镀方法，能够消除蒸镀时的纵向温差，使蒸镀材料快速均匀升温，提高蒸镀制得的OLED器件的发光效率及OLED面板的显示效果。为实现上述目的，本专利技术首先提供一种蒸镀装置，包括材料放置腔、设于材料放置腔外侧的涡流加热腔、设于材料放置腔与涡流加热腔之间的冷却控制层、设于涡流加热腔外侧的隔热层及设于隔热层外侧的线圈；所述涡流加热腔内填充有导电材料；所述线圈用于通入交变电流，在涡流加热腔内的导电材料上形成涡电流，使导电材料被加热熔化成液体；所述冷却控制层用于通入冷却液，通过调节通入冷却液的流量控制熔化成液体的导电材料辐射至材料放置腔的热量。所述冷却控制层内设有冷却液管道，所述冷却液通入冷却液管道中，通过调节通入冷却液管道的冷却液的流量控制熔化成液体的导电材料辐射至材料放置腔的热量。还包括设于隔热层靠近涡流加热腔一侧的热反射层。所述交变电流的频率为5Hz-500000Hz。所述导电材料的熔点为100℃-1000℃。所述导电材料为锡、铝、银或氧化铟锡；所述隔热层的材料包括石棉及隔热陶瓷中的至少一种；所述冷却液为水或油。本专利技术还提供一种蒸镀方法，包括如下步骤：步骤S1、提供蒸镀装置；所述蒸镀装置包括材料放置腔、设于材料放置腔外侧的涡流加热腔、设于材料放置腔与涡流加热腔之间的冷却控制层、设于涡流加热腔外侧的隔热层及设于隔热层外侧的线圈；所述涡流加热腔内填充有导电材料；步骤S2、在材料放置腔内放入待蒸镀材料；步骤S3、向冷却控制层内通入冷却液；步骤S4、向线圈通入交变电流，在涡流加热腔内的导电材料上形成涡电流，使导电材料被加热熔化成液体，向材料放置腔辐射热量；步骤S5、调整通入冷却控制层的冷却液的流量控制熔化成液体的导电材料辐射至材料放置腔的热量，使材料放置腔内的待蒸镀材料均匀升温。所述冷却控制层内设有冷却液管道；所述步骤S3中，向所述冷却液管道中通入冷却液；所述步骤S5中，调整通入冷却液管道的冷却液的流量控制熔化成液体的导电材料辐射至材料放置腔的热量。所述蒸镀装置还包括设于隔热层靠近涡流加热腔一侧的热反射层。所述步骤S4中，所述交变电流的频率为5Hz-500000Hz。本专利技术的有益效果：本专利技术提供的一种蒸镀装置，包括材料放置腔、设于材料放置腔外侧的涡流加热腔、设于材料放置腔与涡流加热腔之间的冷却控制层、设于涡流加热腔外侧的隔热层及设于隔热层外侧的线圈，涡流加热腔内填充有导电材料，进行蒸镀时，在材料放置腔内放入待蒸镀材料，并向线圈通入交变电流，在涡流加热腔内的导电材料上形成涡电流，使导电材料被加热熔化成液体并向材料放置腔辐射热量，而冷却控制层通入冷却液，通过调节通入冷却液的流量控制熔化成液体的导电材料辐射至材料放置腔的热量，使材料放置腔内的待蒸镀材料均匀升温，能够消除蒸镀时的纵向温差，提高蒸镀制得的OLED器件的发光效率及OLED面板的显示效果。本专利技术提供的一种蒸镀方法，能够消除蒸镀时的纵向温差，使蒸镀材料快速均匀升温，提高蒸镀制得的OLED器件的发光效率及OLED面板的显示效果。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为本专利技术的蒸镀装置的结构示意图；图2为沿图1中的A-A’线的剖视示意图；图3为本专利技术的蒸镀方法的流程图；图4为本专利技术的蒸镀方法的步骤S2的示意图；图5为本专利技术的蒸镀方法的步骤S3的示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图1及图2，并结合图4及图5，本专利技术提供一种蒸镀装置，包括材料放置腔10、设于材料放置腔10外侧的涡流加热腔30、设于材料放置腔10与涡流加热腔30之间的冷却控制层20、设于涡流加热腔30外侧的隔热层40及设于隔热层40外侧的线圈50；所述涡流加热腔30内填充有导电材料31；所述线圈50用于通入交变电流，在涡流加热腔30内的导电材料31上形成涡电流，使导电材料31被加热熔化成液体；所述冷却控制层20用于通入冷却液201，通过调节通入冷却液201的流量控制熔化成液体的导电材料31辐射至材料放置腔10的热量。具体地，所述材料放置腔10可为一坩埚。具体地，所述坩埚的材料为氧化铝(Al2O3)陶瓷。具体地，所述涡流加热腔30内的导电材料31采用低熔点导电材料，如低熔点金属等。进一步地，所述导电材料31的熔点优选为100℃-1000℃；所述导电材料31可选择锡(Sn)、铝(Al)、银(Ag)、氧化铟锡(ITO)等材料。具体地，请参阅图1、图2及图5，所述冷却控制层20内设有冷却液管道21，所述冷却液201通入冷却液管道21中，通过调节通入冷却液管道21的冷却液201的流量控制熔化成液体的导电材料31辐射至材料放置腔10的热量。进一步地，所述冷却液管道21的材料为陶瓷。具体地，所述交变电流的频率为5Hz-500000Hz。具体地，所述隔热层40的材料采用石棉、隔热陶瓷等绝热、隔热的不良导体。具体地，所述冷却液201为沸点稳定本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀装置，其特征在于，包括材料放置腔(10)、设于材料放置腔(10)外侧的涡流加热腔(30)、设于材料放置腔(10)与涡流加热腔(30)之间的冷却控制层(20)、设于涡流加热腔(30)外侧的隔热层(40)及设于隔热层(40)外侧的线圈(50)；所述涡流加热腔(30)内填充有导电材料(31)；所述线圈(50)用于通入交变电流，在涡流加热腔(30)内的导电材料(31)上形成涡电流，使导电材料(31)被加热熔化成液体；所述冷却控制层(20)用于通入冷却液(201)，通过调节通入冷却液(201)的流量控制熔化成液体的导电材料(31)辐射至材料放置腔(10)的热量。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀装置，其特征在于，包括材料放置腔(10)、设于材料放置腔(10)外侧的涡流加热腔(30)、设于材料放置腔(10)与涡流加热腔(30)之间的冷却控制层(20)、设于涡流加热腔(30)外侧的隔热层(40)及设于隔热层(40)外侧的线圈(50)；所述涡流加热腔(30)内填充有导电材料(31)；所述线圈(50)用于通入交变电流，在涡流加热腔(30)内的导电材料(31)上形成涡电流，使导电材料(31)被加热熔化成液体；所述冷却控制层(20)用于通入冷却液(201)，通过调节通入冷却液(201)的流量控制熔化成液体的导电材料(31)辐射至材料放置腔(10)的热量。2.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述冷却控制层(20)内设有冷却液管道(21)，所述冷却液(201)通入冷却液管道(21)中，通过调节通入冷却液管道(21)的冷却液(201)的流量控制熔化成液体的导电材料(31)辐射至材料放置腔(10)的热量。3.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括设于隔热层(40)靠近涡流加热腔(30)一侧的热反射层(60)。4.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述交变电流的频率为5Hz-500000Hz。5.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述导电材料(31)的熔点为100℃-1000℃。6.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述导电材料(31)为锡、铝、银或氧化铟锡；所述隔热层(40)的材料包括石棉及隔热陶瓷中的至少一种；所述冷却液(201)为水或油。7.一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：匡友元，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44