金属栅偏光片及其制作方法、液晶显示器技术

本发明专利技术公开了一种金属栅偏光片，其包括：基片、多个第一金属栅条和多个第二金属栅条，所述多个第一金属栅条彼此间隔设置在所述基片上，所述第二金属栅条与所述第一金属栅条一一对应，并且每个第二金属栅条设置于其对应的一个第一金属栅条上，所述第一金属栅条和所述第二金属栅条采用不同的金属材料制成。本发明专利技术还公开一种金属栅偏光片的制作方法和液晶显示器。本发明专利技术在形成第一金属栅条时利用已经制作好的第一金属栅条作为阻挡，可以避免第一金属栅条的线宽被减小，从而能够保证产品的精度。

Metal grating polarizer and manufacturing method thereof and liquid crystal display

The present invention discloses a metal grating polarizer, which comprises a substrate, a plurality of first metal bars and a plurality of second metal bars. The plurality of first metal gate bars are arranged on the base sheet each other, and the second metal bar bars correspond to the first metal bar strip, and each second metal bar bar is set to the same. Corresponding to a first metal grating, the first metal bar and the second metal bar are made of different metal materials. The invention also discloses a manufacturing method of the metal gate polarizer and a liquid crystal display. In the formation of the first metal bar, the first metal gate strip is used as a barrier to prevent the line width of the first metal bar strip to be reduced, so that the precision of the product can be ensured.

【技术实现步骤摘要】
金属栅偏光片及其制作方法、液晶显示器
本专利技术属于偏光片制作
，具体地讲，涉及一种金属栅偏光片及其制作方法、液晶显示器。
技术介绍
随着光电与半导体技术的演进，也带动了平板显示器(FlatPanelDisplay)的蓬勃发展，而在诸多平板显示器中，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)因具有高空间利用效率、低消耗功率、无辐射以及低电磁干扰等诸多优越特性，已成为市场的主流。目前，液晶显示器中使用的偏光片一般采用吸收模式，背光模块出射的背光通过第一道传统的吸收型偏光片后，背光的透过率只有43％左右，这将导致液晶显示器整体穿透率较低。亚波长金属栅(Nanowire-gridpolarizer)偏光片能够选择性透过TM偏振光分量(偏振方向垂直于线栅方向，即p光)，而反射掉TE偏振光分量(偏振方向平行于线栅方向，即s光)，基于这样的工作原理，通过多次反射光循环利用，可大幅提升背光的利用率，从而能大幅度提升LCD的穿透率，并保持较高对比度。然而，现在大部分的金属栅偏振片采用单一金属材料制成栅线，但是在制程中的纳米压印后会存在残留的光阻，需要灰化后才能去除，灰化过程中会刻蚀部分光阻，以使光阻的线宽减小，这样将使得后续的刻蚀单一金属材料的过程中形成的金属栅线的线宽减小，从而不能保证产品的精度。
技术实现思路
为了解决上述现有技术存在的问题，本专利技术的目的在于提供一种避免金属栅线的线宽减小的金属栅偏光片及其制作方法、液晶显示器。根据本专利技术的一方面，提供了一种金属栅偏光片，其包括：基片、多个第一金属栅条和多个第二金属栅条，所述多个第一金属栅条彼此间隔设置在所述基片上，所述第二金属栅条与所述第一金属栅条一一对应，并且每个第二金属栅条设置于其对应的一个第一金属栅条上，所述第一金属栅条和所述第二金属栅条采用不同的金属材料制成。进一步地，所述第一金属栅条由铝制成，所述第二金属栅条由铜制成。根据本专利技术的另一方面，还提供了一种金属栅偏光片的制作方法，其包括步骤：在基片上依序形成层叠的第一金属膜层、第二金属膜层和待压印膜层；对所述待压印膜层进行压印处理以形成多个压印条，所述压印条彼此间隔；将位于所述压印条之间的所述第一金属膜层和所述第二金属膜层去除；将所述压印条去除，以形成多个第一金属栅条和位于每个第一金属栅条上的一个第二金属栅条。进一步地，对所述待压印膜层进行压印处理以形成多个压印条的方法包括：采用纳米压印模板对所述待压印膜层进行纳米压印处理，以形成多个压印条和位于每相邻两个压印条之间的压印层；利用干法灰化的方法将每相邻两个压印条之间的压印层去除。进一步地，将位于所述压印条之间的所述第一金属膜层和所述第二金属膜层去除的方法包括：利用高功率干法刻蚀的方法将位于所述压印条之间的所述第二金属膜层刻蚀去除；利用低功率干法刻蚀的方法将将位于所述压印条之间的所述第一金属膜层刻蚀去除。进一步地，所述第一金属膜层由铝制成，所述第二金属膜层由铜制成。根据本专利技术的又一方面，又提供了一种液晶显示器，其包括：液晶盒；背光模块，与所述液晶盒相对设置；第一偏光片，设置于所述液晶盒的背向所述背光模块的一侧；第二偏光片，设置于所述液晶盒的朝向所述背光模块的一侧；其中，所述第一偏光片和/或所述第二偏光片为上述的金属栅偏光片；或者所述第一偏光片和/或所述第二偏光片为利用上述的制作方法制成的偏光片。进一步地，所述液晶盒包括：彩色滤光片基板，与所述背光模块相对设置，所述第一偏光片设置于所述彩色滤光片基板的背向所述背光模块的一侧；阵列基板，设置于所述彩色滤光片基板和所述背光模块之间，所述阵列基板与所述彩色滤光片基板对盒设置，所述第二偏光片设置于所述阵列基板和所述背光模块之间；液晶层，设置于所述彩色滤光片基板和所述阵列基板之间。进一步地，所述背光模块为侧入式背光模块或者直下式背光模块。本专利技术的有益效果：本专利技术在形成第一金属栅条时利用已经制作好的第一金属栅条作为阻挡，可以避免第一金属栅条的线宽被减小，从而能够保证产品的精度。附图说明通过结合附图进行的以下描述，本专利技术的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：图1是根据本专利技术的实施例的金属栅偏光片的立体示意图；图2A至图2D是根据本专利技术的实施例的金属栅偏光片的制程图；图3A和图3B是根据本专利技术的实施例的对待压印膜层进行压印处理以形成多个压印条的制程图；图4A和图4B是根据本专利技术的实施例的将位于压印条之间的第一金属膜层和第二金属膜层去除的制程图；图5是根据本专利技术的实施例的液晶显示器的结构示意图。具体实施方式以下，将参照附图来详细描述本专利技术的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本专利技术，并且本专利技术不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本专利技术的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本专利技术的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。在附图中，为了清楚起见，夸大了层和区域的厚度。相同的标号在说明书和附图中始终表示相同的元件。图1是根据本专利技术的实施例的金属栅偏光片的立体示意图。参照图1，根据本专利技术的实施例的金属栅偏光片100包括：基片110、多个第一金属栅条120、多个第二金属栅条130。具体地，多个第一金属栅条120等间隔设置于基片110上，并且多个第一金属栅条120彼此平行设置。第二金属栅条130与第一金属栅条120一一对应，并且每个第二金属栅条130设置于对应的一个第一金属栅条120上。第一金属栅条120和第二金属栅条130分别由不同的金属材料制成。在本实施例中，优选地，第一金属栅条120由铝制作而成，而第二金属栅条130由铜制作而成，但本专利技术并不限制于此。如此，由第一金属栅条120和第二金属栅条130构成的栅条与空气(或者其他介质)周期交替设置在基片110上形成了根据本专利技术的实施例的偏光片，其中由第一金属栅条120和第二金属栅条130构成的栅条存在较大的折射率虚部，其可透过TM偏振的光分量(偏振方向垂直于线栅方向，即p光)而反射TE偏振的光分量(偏振方向平行于线栅方向，即s光)。以下对根据本专利技术的实施例的金属栅偏光片100的制作方法进行详细描述。图2A至图2D是根据本专利技术的实施例的金属栅偏光片的制程图。根据本专利技术的实施例的金属栅偏光片的制作方法包括步骤一至步骤四。步骤一：参照图2A，在基片110上依序形成层叠的第一金属膜层120A、第二金属膜层130A和待压印膜层140。进一步地，可以使用溅射或蒸镀沉积的方法在基片110上依序叠层沉积第一金属膜层120A、第二金属膜层130A和待压印膜层140。其中，第一金属膜层120A可以由铝制作，第二金属膜层130A可以由铜制成，而待压印膜层140可以由亚克力系列有机材料、硅氧烷系列材料等制作但本专利技术并不限制于此。步骤二：参照图2B，对待压印膜层140进行压印处理以形成多个压印条141，该压印条141彼此间隔。图3A和图3B是根据本专利技术的实施例的对待压印膜层进行压印处理以形成多个压印条的制程图。首先，参照图3A，采用纳米压印模板对待压印膜层140进行纳米压印处理，以形成多个压印条141和位于每相邻两个压印条141之间的压印层142。其次，参照图3B，利用干法灰化的方法将每相邻两个压印条141本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属栅偏光片，其特征在于，包括：基片、多个第一金属栅条和多个第二金属栅条，所述多个第一金属栅条彼此间隔设置在所述基片上，所述第二金属栅条与所述第一金属栅条一一对应，并且每个第二金属栅条设置于其对应的一个第一金属栅条上，所述第一金属栅条和所述第二金属栅条采用不同的金属材料制成。

【技术特征摘要】
1.一种金属栅偏光片，其特征在于，包括：基片、多个第一金属栅条和多个第二金属栅条，所述多个第一金属栅条彼此间隔设置在所述基片上，所述第二金属栅条与所述第一金属栅条一一对应，并且每个第二金属栅条设置于其对应的一个第一金属栅条上，所述第一金属栅条和所述第二金属栅条采用不同的金属材料制成。2.根据权利要求1所述的金属栅偏光片，其特征在于，所述第一金属栅条由铝制成，所述第二金属栅条由铜制成。3.一种金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，包括步骤：在基片上依序形成层叠的第一金属膜层、第二金属膜层和待压印膜层；对所述待压印膜层进行压印处理以形成多个压印条，所述压印条彼此间隔；将位于所述压印条之间的所述第一金属膜层和所述第二金属膜层去除；将所述压印条去除，以形成多个第一金属栅条和位于每个第一金属栅条上的一个第二金属栅条。4.根据权利要求3所述的金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，对所述待压印膜层进行压印处理以形成多个压印条的方法包括：采用纳米压印模板对所述待压印膜层进行纳米压印处理，以形成多个压印条和位于每相邻两个压印条之间的压印层；利用干法灰化的方法将每相邻两个压印条之间的压印层去除。5.根据权利要求3所述的金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，将位于所述压印条之间的所述第一金属膜层和所述第二金属...

【专利技术属性】
技术研发人员：李子然，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44