一种面板检测中表面灰尘快速过滤方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种面板检测中表面灰尘快速过滤方法及装置，获取面板上表面灰尘为亮点或亮斑的第一检测画面；判断该面板上表面灰尘覆盖量，若灰尘覆盖量为少量则将灰尘直接过滤，若灰尘覆盖量为大量则过滤大颗粒的灰尘，并利用灰尘为暗点或暗斑的第二检测画面检出的缺陷再到第一检测画面下进行灰尘复判。该方法无需对当前的光学自动检测算法进行根本性修改，只需要增加灰尘量覆盖程度的预判功能和缺陷的复判机制。同时该方法简单有效且更为合理优化，不会影响检测结果的准确性，而且能够起到减少检测的节拍时间的作用，具有容易实现、节省时间、实用性高的特点。

【技术实现步骤摘要】
一种面板检测中表面灰尘快速过滤方法及装置
本专利技术涉及图像缺陷领域，具体地涉及一种面板检测中表面灰尘快速过滤方法及装置。
技术介绍
在使用AOI对LCD的面板缺陷检测中，面板表面的灰尘过滤是检测方法中很重要的一个环节，直接影响到缺陷检测结果的准确性。LCD面板在生产过程中，其表面不可避免地会沾上灰尘，但是其表面覆盖灰尘量的程度差异较大，附图1为两种不同灰尘覆盖程度情况。对于LCD面板表面覆盖少量灰尘的情况，通过AOI检测方法可以较快将所有的灰尘检测并过滤掉；而对于LCD面板表面覆盖大量灰尘的情况，检测出所有灰尘需要耗费更多的TT。但是面板厂商为了保证生产线的正常运行对AOI缺陷检测的TT有严格要求，且要尽可能地减少不必要的TT。
技术实现思路
本专利技术就是针对现有技术的不足，提供了一种节约计算所有灰尘计算耗时、同时也避免了阈值参数的选择带来漏检的面板检测中表面灰尘快速过滤方法及装置。为了实现上述目的，本专利技术所设计的一种面板检测中表面灰尘快速过滤方法，其特殊之处在于，包括以下步骤：S1获取面板上表面灰尘为亮点或亮斑的第一检测画面；S2判断该面板上表面灰尘覆盖量，若灰尘覆盖量为少量则进行步骤s3的操作，若灰尘覆盖量为大量则进行步骤s4操作；S3将灰尘直接过滤掉；S4过滤大颗粒的灰尘，并利用灰尘为暗点或暗斑的第二检测画面检出的缺陷再到第一检测画面下进行灰尘复判。进一步地，所述步骤S2中采用阈值分割法对第一检测画面上表面灰尘的覆盖量进行判断。进一步地，所述步骤S3的具体过程如下：先将图像采用均值滤波进行纹理抑制；再将原图像减滤波后的图像，并按设定的低灰度阈值分割出图中的全部亮斑，并将结果标记为灰尘。进一步地，所述步骤S4中过滤大颗粒的灰尘采用设置高灰度阈值进行分割。进一步地，所述步骤S4中过滤大颗粒的灰尘具体过程如下：先将图像采用均值滤波进行纹理抑制；再将原图像减滤波后的图像，分割出图中的明显亮斑。进一步地，所述步骤S4的具体过程如下：S41过滤大颗粒的灰尘，则是将检出缺陷位置标记为灰尘；S42在第二检测画面下，首先判断当前缺陷的被检出结果是否为暗点或暗斑，如果是，则进行步骤S43，否则直接结束；S43在第一检测画面下判定该缺陷所在位置处是否有亮点或亮斑，如果是则将其标记为灰尘，否则直接结束。进一步地，还包括获取面板下表面灰尘光学检测图片，并采用自动光学检测方法对灰尘进行过滤。另一方面，本专利技术还设计了一种面板检测中表面灰尘快速过滤装置，其特殊之处在于：所述装置包括：面板缺陷检测单元，用于获取面板缺陷信息，包括用于获取面板上表面灰尘为亮点或亮斑的第一检测画面；面板灰尘过滤单元，用于过滤面板灰尘，包括用于判断面板上表面灰尘覆盖量，若灰尘覆盖量为少量则直接将灰尘过滤掉；若灰尘覆盖量为大量则过滤大颗粒的灰尘，并利用灰尘为暗点或暗斑的第二检测画面检出的缺陷再到第一检测画面下进行灰尘复判。进一步地，所述面板灰尘过滤单元用于过滤大颗粒的灰尘，并利用灰尘为暗点或暗斑的第二检测画面检出的缺陷再到第一检测画面下进行灰尘复判具体操作为：过滤大颗粒的灰尘，则是将检出缺陷位置标记为灰尘；在其他画面下，首先判断当前缺陷的被检出结果是否为暗点或暗斑，如果是，则在第一检测画面判定该缺陷所在位置处是否有亮点或亮斑，如果是则将其标记为灰尘，否则直接结束；如果不是则直接结束。进一步地，所述面板灰尘过滤单元还用于采用自动光学检测方法对面板下表面灰尘进行过滤。本专利技术的优点在于：对不同灰尘覆盖程度的面板表面图像分别采用不同的灰尘过滤方法，为阈值的合理选取问题提供一个新途径。增加了第一检测画面的灰尘覆盖程度的预判，将灰尘过滤处理的过程进行了精细合理的划分。1、在不影响检测结果准确性前提下，提高了自动光学检测算法的效率。2、将面板表面灰尘覆盖程度进行分类处理，增强了自动光学检测算法的检测环境自适应性。3、优化阈值设置，消除单一阈值设置可能带来的漏检问题。4、能够降低整个检测过程的节拍时间，为产线节省了一定工时。附图说明图1为Particle画面下面板表面覆盖的少量灰尘图样和大量灰尘图样的对比。图2为LCD面板上下表面灰尘图像拍摄的示意图。图3为本专利技术面板检测中表面灰尘快速过滤总体流程图。图4为基于灰尘的覆盖量预判的上表面灰尘过滤流程图。图5为两种不同灰尘覆盖量的Particle画面进行上表面灰尘过滤处理过程对比。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步的详细描述：本专利技术使用到的术语如下表：现有技术中，由于LCD面板表面灰尘包含了上表面的灰尘和下表面的灰尘，一般都会单独拍摄两张图像，Particle画面图和ParticleDown画面图，面板上下表面灰尘图像拍摄的示意如图2所示。首先在ParticleDown画面，拍摄下表面灰尘图像，由于透光差的位置一般是下表面所在的位置，故而在下表面灰尘过滤图像中进行暗点的检测，该暗点或者暗斑即为背后灰尘，该侧灰尘采用现有技术实现过滤，具体可以采用根据缺陷历史轨迹信息的过滤技术实现过滤，该技术参考专利号为20170343204.9的中国专利“一种面板灰尘过滤方法及装置”。然后在Particle画面，拍摄上表面过滤图像时开启了上下侧光灯和左右侧光灯，上表面的灰尘能够被均匀的照亮，在上表面过滤图像中进行亮点或亮斑的检测即可得到表面灰尘所在的位置，检测该侧灰尘不区分面板表面覆盖灰尘量的程度，现有技术采用较低灰度阈值将拍摄到的图像中所有灰尘都检出并过滤掉。现有的针对上表面灰尘过滤的技术方案存在以下问题：1、并不是所有的LCD面板上表面覆盖的灰尘中都会在其他画面拍摄图像中显现出来，其他画面包含且不限于R255、G255、B255、L255、L48等。一些极微小的灰尘颗粒可能不会影响其他画面成像，采用把所有灰尘都检测提取出来的方式显然不是最优方案，本专利技术的灰尘主要包括颗粒、异物斑，对于面板表面的凹坑或者凸起是属于面板外观检测范畴，不在本专利技术所属缺陷的检测范围，即使检出并过滤掉也不影响检测结果。术语R255、G255、B255、L255、L48的解释如下：R255：单色红，且红色的值为255，RGB(255,0,0)画面；G255：单色绿，且绿色的值为255，RGB(0,255,0)画面；B255：单色蓝，且蓝色的值为255，RGB(0,0,255)画面；L48：48灰阶画面，RGB的值均为48，RGB(48,48,48)画面；L255类似L48，L255为RGB(255,255,255)画面。2、采用低阈值的缺陷检测方式，会给检测方法的计算量带来负担，进而增加整个AOI缺陷检测的TT。本专利技术的目的在于针对LCD面板表面覆盖灰尘量的程度不同，提出一种面板检测中上表面灰尘快速过滤的方法。该方法将LCD面板上表面覆盖灰尘量的程度区分为少量灰尘和大量灰尘情况，对少量灰尘情况采取低阈值的缺陷检测策略全部检出并过滤，而对大量灰尘情况采用较高阈值部分检出并过滤掉，并利用其他画面检出的缺陷再到Particle画面下进行复判确认是否为灰尘过检。该方法无需对当前的AOI检测算法进行根本性修改，只需要增加Particle画面的灰尘量覆盖程度的预判功能和缺陷的复判机制。同时该方法简单有效且更为合理优化，不会影响检测结果的准确性，而且能够起到本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种面板检测中表面灰尘快速过滤方法，其特征在于，包括以下步骤：S1获取面板上表面灰尘为亮点或亮斑的第一检测画面；S2判断该面板上表面灰尘覆盖量，若灰尘覆盖量为少量则进行步骤s3的操作，若灰尘覆盖量为大量则进行步骤s4操作；S3将灰尘直接过滤掉；S4过滤大颗粒的灰尘，并利用灰尘为暗点或暗斑的第二检测画面检出的缺陷再到第一检测画面下进行灰尘复判。

【技术特征摘要】
1.一种面板检测中表面灰尘快速过滤方法，其特征在于，包括以下步骤：S1获取面板上表面灰尘为亮点或亮斑的第一检测画面；S2判断该面板上表面灰尘覆盖量，若灰尘覆盖量为少量则进行步骤s3的操作，若灰尘覆盖量为大量则进行步骤s4操作；S3将灰尘直接过滤掉；S4过滤大颗粒的灰尘，并利用灰尘为暗点或暗斑的第二检测画面检出的缺陷再到第一检测画面下进行灰尘复判。2.根据权利要求1所述的面板检测中表面灰尘快速过滤方法，其特征在于：所述步骤S2中采用阈值分割法对第一检测画面上表面灰尘的覆盖量进行判断。3.根据权利要求1所述的面板检测中表面灰尘快速过滤方法，其特征在于：所述步骤S3的具体过程如下：先将图像采用均值滤波进行纹理抑制；再将原图像减滤波后的图像，并按设定的低灰度阈值分割出图中的全部亮斑，并将结果标记为灰尘。4.根据权利要求1所述的面板检测中表面灰尘快速过滤方法，其特征在于：所述步骤S4中过滤大颗粒的灰尘采用设置高灰度阈值进行分割。5.根据权利要求4所述的面板检测中表面灰尘快速过滤方法，其特征在于：所述步骤S4中过滤大颗粒的灰尘具体过程如下：先将图像采用均值滤波进行纹理抑制；再将原图像减滤波后的图像，分割出图中的明显亮斑。6.根据权利要求1所述的面板检测中表面灰尘快速过滤方法，其特征在于：所述步骤S4的具体过程如下：S41过滤大颗粒的灰尘，则是将检出缺陷位置标记为灰尘；S42在第二检测画面下，首先判断当前缺陷的被检出...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁捷宇，张胜森，郑增强，邓标华，吕东东，
申请(专利权)人：武汉精测电子集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42