【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种淀积碳的方法包括：—将一种包括有一种气态碳化物的反应气体引入一个反应室；—将一种电磁辐射能输入到所述反应室中；—用所述电磁辐射能激发所述碳化物，并用一种化学汽相反应在所要涂敷的表面上淀积碳，所述方法特征在于所述反应气体包 括有氮气或气态氮化物。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：山崎舜平，
申请(专利权)人：株式会社半导体能源研究所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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