一种天馈式紧缩场装置制造方法及图纸

技术编号:18049407 阅读:218 留言:0更新日期:2018-05-26 07:41
本实用新型专利技术公开了一种天馈式紧缩场装置,该装置主要由紧缩场反射面、自适应定位馈源、激光跟踪仪及微波暗室组成。紧缩场反射面为二次曲面,反射面尺寸增加导致反射面二维弯曲偏置量会累加且成二次方增加,将加剧自重引起的结构变形和长期蠕变,会降低反射面系统的结构稳定性和型面精度。本实用新型专利技术公布的天馈式紧缩场装置,反射面采用后躺式结构,馈源采用天馈式布局,有利于提升超大规模紧缩场反射面系统的结构稳定性和型面精度,提升紧缩场静区的平面波质量。

【技术实现步骤摘要】
一种天馈式紧缩场装置
本技术涉及紧缩场的
,特别涉及一种高稳定性的天馈式紧缩场装置,总体结构上采用天馈式布局,主要目的是提升紧缩场结构系统的稳定性,降低超大规模紧缩场结构设计和制造难度,提升超大规模紧缩场静区的平面波质量和长期稳定性,特别适用于反射面规模超过30m的超大型紧缩场。
技术介绍
随着大规模、批量化大型电子装备,如全尺寸实装飞机和大型舰载相控阵雷达等的列装和维护的需求,精密测量全尺寸雷达目标散射和大口径天线的需求日益迫切。传统的单反射面紧缩场,通常采用地馈式偏馈布局,反射面为前倾或侧躺式结构。静区尺寸超过30m的超大规模反射面弯曲偏置悬臂长度将近达8m,地馈布局反射面的前倾力矩将降低结构系统的稳定性,不利于克服自重引起的背架结构短时变形和长期蠕变,不利于保证反射面系统的型面机械精度和静区平面波性能。此外,超大规模紧缩场将增加反射面和馈源整体定位基础的工程实现难度和制造成本,难以应对混凝土基础因非均匀承载引起的非均匀沉降,从而进一步导致馈源偏焦照射紧缩场反射面引起静区质量恶化。
技术实现思路
本技术的目的在于:提出一种天馈式紧缩场装置,馈源采用天馈式布局照射反射面,紧缩场为后躺式降低了反射面自重对结构稳定性和型面精度的影响,激光跟踪仪实时监控馈源和反射面之间相对位置的漂移,来自适应定位馈源调整至反射面的焦点。本技术为了达到上述目的采用如下技术方案:一种天馈式紧缩场装置,包括单反射面紧缩场的反射面、天馈式紧缩场的馈源自适应定位装置、紧缩场的馈源、桁架式紧缩场背架结构、测量馈源和反射面相对位置的激光跟踪仪、微波暗室地面、紧缩场静区内待测设备、微波暗室后墙、安装天馈式馈源的微波暗室天花板和微波暗室前墙,其中,所述的单反射面的紧缩场的反射面通过桁架式紧缩场背架结构固定于微波暗室前墙不远处,用以校正激励源波前转换为所期望的平面波波前,反射面采用后躺式固定,其焦点位于安装天馈式馈源的微波暗室天花板,所述的紧缩场的馈源,安装于暗室天花板的反射面焦点处,用于装置最终在等效静区内形成平面波时提供初始波源;所述的测量馈源和反射面相对位置的激光跟踪仪,固定于暗室地面,激光跟踪仪用于实时监控反射面与馈源系统相对位置漂移变化,并通过馈源自适应定位装置实时调整馈源于反射面的焦点,提升紧缩场静区性能的稳定性;所述的紧缩场静区内待测设备位于紧缩场系统的静区,该区域的电磁波具有平面波的特性,可用于天线/RCS测试。其中,所述的天馈式紧缩场反射面采用后躺式结构,将地馈式偏馈紧缩场反射面的前倾偏置所致的背架悬臂设计改善为下支撑,通过下移反射面系统的重心克服自重引起的前倾力矩,从而改善其结构稳定性。其中,激光跟踪仪实时监控反射面与馈源系统相对位置漂移变化,自适应定位馈源实现最佳匹配照射反射面,有利于提升紧缩场结构系统的稳定性。所述的天馈式紧缩场的馈源与反射面安装基础难以整体化,相互位置存在非均匀漂移的因素,采用激光跟踪仪实时监控几何位置动态变化,自适应定位馈源至反射面的焦点。其中,所述的紧缩场反射面口面设计的边缘,不局限于反射面某特定的边缘形式,包括锯齿或卷曲处理。以抑制边缘绕射对静区的干扰。其中,所述的天馈式紧缩场系统安装于微波暗室内,各面墙壁的吸波材料经选型与布局的优化,实现最佳的低背景电平。其中,所述的天馈式紧缩场系统核心功能是形成超大规模平面波静区,不局限于特定用途的电磁辐射、散射或其它仿真测量的具体应用。本技术的原理如下:本技术的天馈式紧缩场装置是基于反射面结构的低重心设计,提升超大规模紧缩场结构系统的稳定性,改善精密反射面系统的型面精度,提升静区平面波质量。低重心设计的原理是将超大规模偏馈反射面的弯曲偏置,采用后躺式布局,背架主承力由前倾悬臂式优化调整为下支撑结构,减少了自重产生的前倾倾覆力矩,提升了结构系统的稳定性。天馈式馈源与反射面之间的精密匹配定位,由激光跟踪实时监控,并与馈源自适应定位装置形成闭环系统,实现天馈式馈源的最佳匹配照射,形成超大规模的等幅等相平面波静区。本技术与现有技术相比的优点在于:(1)本技术提升了紧缩场系统的结构稳定性,尤其适合于大型或超大型紧缩场暗室系统。本技术克服了传统的地馈偏馈式紧缩场布局,超大规模的反射面将过度前倾引起较大的倾覆力矩。因为超大规模反射面偏馈非对称布局增大的反射面弯曲偏置会超过8m,自重和偏置形成的极大的倾覆力矩,极大程度地降低结构系统的稳定性,抵消其影响需补偿设计也会增加工程难度和制造成本。(2)本技术的自适应馈源定位系统,通过激光跟踪实时监控反射面和天馈馈源的相对位置变化,自适应匹配定位于反射面的焦点,解决反射面和馈源安装结构基础难以一体化引起的非均匀沉降漂移。附图说明图1是天馈式紧缩场装置侧视示意图;图2是紧缩场装置口径面正前视图;图3是紧缩场装置口径面与前中后静区侧视图;图4是紧缩场装置中静区水平线幅相分布图(300MHz);图5是紧缩场装置中静区竖直线幅相分布图(300MHz);图中附图标记含义为:图1中:1为单反射面紧缩场的反射面,2为天馈式紧缩场的馈源自适应定位装置,3为紧缩场的馈源,4为桁架式紧缩场背架结构,5为测量馈源和反射面相对位置的激光跟踪仪,6为微波暗室地面,7为紧缩场静区内待测设备,8为微波暗室后墙,9为安装天馈式馈源的微波暗室天花板,10为微波暗室前墙。图3中:101为后躺式紧缩场反射面,301为天馈式紧缩场的馈源,11为紧缩场的静区。图4和图5中:Phase为静区场的相位(deg.)分布,Magnitude为静区场的归一化幅度(dB)分布,工作频率为300MHz,截线分别位于中心静区的水平线(xposition[m])和竖直线(yposition[m])。具体实施方式下面结合附图以及具体实施例进一步说明本技术。本技术的一个优选实施例:如图1所示的天馈式紧缩场装置,包括单反射面紧缩场的反射面1、天馈式紧缩场的馈源自适应定位装置2、紧缩场的馈源3、桁架式紧缩场背架结构4、测量馈源和反射面相对位置的激光跟踪仪5、微波暗室地面6、紧缩场静区内待测设备7、微波暗室后墙8、安装天馈式馈源的微波暗室天花板9和微波暗室前墙10,其中,所述的单反射面的紧缩场的反射面1通过桁架式紧缩场背架结构4固定于微波暗室前墙10不远处,用以校正激励源波前转换为所期望的平面波波前,反射面采用后躺式固定,其焦点位于安装天馈式馈源的微波暗室天花板9。所述的紧缩场的馈源3,安装于暗室天花板9的反射面焦点处,用于系统最终在等效静区内形成平面波时提供初始波源。单反射面紧缩场系统采用天馈式布局,主要目的是提升紧缩场结构系统的稳定性,降低超大规模紧缩场结构设计和制造难度,提升超大规模紧缩场静区的平面波质量和长期稳定性。所述的测量馈源和反射面相对位置的激光跟踪仪5,固定于暗室地面,激光跟踪仪实时监控反射面与馈源系统相对位置漂移变化,并通过馈源自适应定位装置实时调整馈源于反射面的焦点,提升紧缩场静区性能的稳定性。所述的微波暗室各墙面、地面、天花板的墙壁均铺设吸波材料,吸波材料经选型与布局的优化,以实现最佳的低背景电平。所述的紧缩场静区内待测设备7位于紧缩场系统的静区,该区域的电磁波具有平面波的特性,可用于天线/RCS测试。单反射面紧本文档来自技高网...
一种天馈式紧缩场装置

【技术保护点】
一种天馈式紧缩场装置,其特征在于:包括单反射面紧缩场的反射面(1)、天馈式紧缩场的馈源自适应定位装置(2)、紧缩场的馈源(3)、桁架式紧缩场背架结构(4)、测量馈源和反射面相对位置的激光跟踪仪(5)、微波暗室地面(6)、紧缩场静区内待测设备(7)、微波暗室后墙(8)、安装天馈式馈源的微波暗室天花板(9)和微波暗室前墙(10),其中,所述的单反射面的紧缩场的反射面(1)通过桁架式紧缩场背架结构(4)固定于微波暗室前墙(10)不远处,用以校正激励源波前转换为所期望的平面波波前,反射面采用后躺式固定,其焦点位于安装天馈式馈源的微波暗室天花板(9),所述的紧缩场的馈源(3),安装于暗室天花板(9)的反射面焦点处,用于装置最终在等效静区内形成平面波时提供初始波源;所述的测量馈源和反射面相对位置的激光跟踪仪(5),固定于暗室地面,激光跟踪仪用于实时监控反射面与馈源系统相对位置漂移变化,并通过馈源自适应定位装置实时调整馈源于反射面的焦点,提升紧缩场静区性能的稳定性;所述的紧缩场静区内待测设备(7)位于紧缩场系统的静区,该区域的电磁波具有平面波的特性,可用于天线/RCS测试。

【技术特征摘要】
1.一种天馈式紧缩场装置,其特征在于:包括单反射面紧缩场的反射面(1)、天馈式紧缩场的馈源自适应定位装置(2)、紧缩场的馈源(3)、桁架式紧缩场背架结构(4)、测量馈源和反射面相对位置的激光跟踪仪(5)、微波暗室地面(6)、紧缩场静区内待测设备(7)、微波暗室后墙(8)、安装天馈式馈源的微波暗室天花板(9)和微波暗室前墙(10),其中,所述的单反射面的紧缩场的反射面(1)通过桁架式紧缩场背架结构(4)固定于微波暗室前墙(10)不远处,用以校正激励源波前转换为所期望的平面波波前,反射面采用后躺式固定,其焦点位于安装天馈式馈源的微波暗室天花板(9),所述的紧缩场的馈源(3),安装于暗室天花板(9)的反射面焦点处,用于装置最终在等效静区内形成平面波时提供初始波源;所述的测量馈源和反射面相对位置的激光跟踪仪(5),固定于暗室地面,激光跟踪仪用于实时监控反射面与馈源系统相对位置漂移变化,并通过馈源自适应定位装置实时调整馈源于反射面的焦点,提升紧缩场静区性能的稳定性;所述的紧缩场静区内待测设备(7)位于紧缩场系统的静区,该区域的电...

【专利技术属性】
技术研发人员:李志平霍鹏武建华王正鹏
申请(专利权)人:北京航空航天大学
类型:新型
国别省市:北京,11

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