利用微波等离子体在热塑容器上沉积内阻挡涂层的装置制造方法及图纸

一种利用微波等离子体在热塑容器上沉积阻挡涂层的装置，其包括处理台（１），每个处理台具有一个腔室（２）和一个外壳（３），所述外壳包括一个真空泵室，其与在一个可分离单元（７）中集中的且被所述的可分离单元的一个耦合面（８）带有的各个套所保护功能组件相连接，所述可分离单元可以被附着到外壳上。所述外壳整合了功能通道（１６），所述功能通道是功能组件所需的和形成于该外壳的一个耦合面（９）上，这些耦合面以互补方式相配；和当使用其各自耦合面相互配合，将所述可分离单元固定到外壳上时，这些通道和这些套被分别连接。

【技术实现步骤摘要】
利用微波等离子体在热塑容器上沉积内阻挡涂层的装置
一般地，本专利技术涉及生产热塑容器领域，尤其是由PET制成的容器，所 述容器壁的内层具有一阻挡涂层，例如碳，硅或其它材料，该内层能够阻止或 者延迟通过壁的分子或离子交换。更具体而言，本专利技术涉及装置的改进，所述装置利用微波等离子体在热 塑材料制成的容器内表面上沉积一形成阻挡的涂层，所述热塑材料例如PET， 这一装置包括多个用于单独处理容器的台(station),每个处理台都有一个处 理腔室和一个形成外壳(cover)的上层单元，所述外壳包括一个真空泵室， 所述装置的功能组件与该真空泵室相通，当装置运行时，所述功能组件至少部 分tt^易于被组成所述涂层的粉状材料所覆盖。
技术介绍
特别地，在文献FR 2 776 540中，本申请人对用于所涉及类型的装置的 处理台结构的实例和装置操作过程进行了描述和说明。当处理该容器时，在处理腔室内部发出一微波场和该微波场通过一个套 管朝泵室展开。在套管内部和泵室内部传播的微波造成阻挡材料(碳，硅或者 其它材料)颗粒在其上沉积，其污染套管和泵室的内壁，或者甚至由于非吸附 颗茅立的夹带而到达电泵回路的内壁。结果是装置至少部分被粉状阻挡材料所覆盖，使得一些功能组件被污染。 例如，其可以发生在用于控制腔室内和容器内真空水平的压力感应器上，该感 应器的运行被干扰，或者当其感应表面被一种粉状材料沉积物导致不透明时， 甚至造成感应器失效。然而，这一夹带粉状材料的主要缺点在于一部分粉状材料被沉积在一些 特别灵敏的元件上，例如固定到一些组件的衬垫(seal)上，尤其是流体控制 电磁阀的衬垫(在腔室内以及待处理容器内选择性地控制真空状态的建立和气 压的重建)，其与处理台的操作相关并且位于真空泵室的过滤器件的下游。粉状材料在这些衬垫上的沉积使其弹性及其压碎变形的能力降低并导致这些衬 垫所具有的密封性能的降低，其直接后果是降低能够在腔室中产生的真空水平 和因此破坏用于产生等离子体的条件，这导致阻挡材料涂层在容器上的沉积性 能更差。在此，装置运行存在一个根本缺陷，和为了弥补这一缺陷，证明必须 定期清洁衬垫并且比通常所要求更为频繁地更换它们。目前，在现有的装置中，根据可用的空间，电磁阀被独立地固定到不同位置。因此，对电磁阀衬垫进行维护需要定期将装置的所有电磁阀都卸下然后重装，典型地，以每个处理台有3个电磁阀的比率，(即一个电磁阀用于使容 器的内体积处于真空状态，一个电磁阀用于使容器外的腔室体积处于真空状态 和一个电磁阀用于重建气压，其为容器内体积和容器外腔室的体积所通用的)。 在目前装有大约20个处理台的设备中，这代表大约60个电磁阀。这需要相当 大量的工作，其需要长时间地雇用有资格的劳动力，并且当然，其意味着所述 装置必须在这一维护操作的整个持续期内保持固定。这存在一个限制，即随着 当今趋势总是寻求提高生产速度，操作者将承担越来越多的困难，这首先意味 着将装置固定限制到最低限度，尤其是为了维护进行装置固定。另外，尤其是由于不可能将阻挡材料层的沉积过程的持续时间降到低于 一定阈值，寻求更快的生产速度导致在每个装置内处理台数量的增加。因此， 例如，当前本申请人设想制造能力更强的装置，其包括多个处理台，所述处理 台增加至大约48个，这代表着仅用于电磁阀就有192个衬垫需要被定期维护。 根据目前实践，将不再出现为了维护衬垫所需的非常长时间的固定装置的现 象。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种解决方案，其旨在满足、至少极大程度地满 足实际需求，并不企图处理在装置运行时的粉状产物的沉积和夹带问题，本发 明的目的在于提供一种用于所述装置的改进结构的装配，其使得可以简化并加 快装置的修复过程，以及显著降低装置被固定的时间。为此目的，在一种如前所述的装置中，本专利技术提供下述的装配 所述功能组件包括电磁阀，其用于选择性地控制腔室内和待处理容器内真空状态和气压的建立，并且功能组件被集中到一个可被附着到所述外壳上的 可分离单元中，和功能组件在所述可分离单元的耦合面所带有的各个套内被保 护；所述外壳整合了功能通道(connection),所述功能通道是所述功能组件各 自运行所需的，和开在所述外壳的耦合面上，所述可分离单元和外壳的耦合面 以互补方式相配，和当利用其各自的耦合面相互配合，将所述可分离单元固定到所述外壳上 时，所述通道和所述保护各自功能组件的套被分别连接。由于根据本专利技术的结构，所有感应功能组件都被集中到可分离单元中， 利用附件的简单快速工具，其可以容易地和快速地被互换。然后，足以用一个 状况良好的可分离单元替换一个有缺陷的或者预先考虑会有缺陷的可分离单 元，以便可以再次操作并且启动该装置。然后在稍远的地方对被拆卸单元的一 个或者多个污染的组件进行清洁，并且为此目的，在一个具有改进性能的车间 中进行清洗。就集中了多个处理台的装置而言，保持一整套备用的可分离单元 即足矣，以便能够对所有处理台进行更新。相比于对以前设计的装置进行修复 所需的时间，这种为全面维护操作而使装置保持固定的时间显著降低。本专利技术的装配尤其易于在下述情况下实现，其中处理台是偶数，每组处理台包括两个相邻台，和在一组台中所述两个相邻台的所述功能组件被聚集到所述公用可分离单 元中，该可分离单元可以被附着到各自两个台的外壳的耦合面上。 在一种如前所述的装置中，本专利技术提供下述的装配处理台是偶数，每组处理台包括两个相邻台；在每组处理台中所述两个相邻台的所述功能组件被聚集到一个公用可分 离单元中，该可分离单元可以被附着到各自两个台的外壳的耦合面上和在所述 可分离单元的耦合面所带有的各个套内被保护 ，所述外壳整合了功能通道，所述通道是所述功能组件各自运行所需的并 且形成于所述外壳的耦合面上，所述可分离单元和外壳的耦合面以互补方式相 配，和 当利用各自的耦合面相互配合，将所述可分离单元固定到所述外壳上时， 所述通道和所述保护各自功能组件的套分别被连接。本专利技术的这些装配在应用于下述情况下尤其有用，其中上述提及的功能 组件是电磁阀，该电磁阀用于选择性地控制在腔室内和待处理的容器中建立真 空状态和重建气压，由于装置的性能和阻挡涂层沉积的特性都尤其依赖于在容 器和腔室内用于形成等离子体所维持的真空水平，这一真空水平自身首先地(to the first degree)依赖于控制操作循环的电磁阀的衬垫所提供的密封 特性。然而，应该理解其它功能组件例如真空感应器或流量计也可以被整合到 可分离单元中。在具体实施方式中的一个具体实例中，可以使控制容器内真空状态的电 磁阀的套被定位到在耦合面上凸出的可分离单元部分，并且外壳的耦合面具有 凹槽，其具有能够容纳所述凸出部分的互补形状，此种设计使得可以简化与所 述电磁阀相关的入口和出口的定位。也可以使所述可分离单元的耦合面相对于 装配面凸出，所述装配面支撑和外壳的连接的机械装置，该设计还使得外壳具 有能够容纳所述凸出耦合面的凹槽，当可分离单元被固定到各自外壳上时，其 有助于可分离单元的导向和有助于在可分离单元和外壳的配合面(cooperating face)间衬垫的安装。根据本专利技术的装配在该装置的一种特别的结构情况下可以得到一种非常 有价值的应用，所述的装置由按组分配的处理台所组成，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种利用微波等离子体在热塑容器内表面上沉积阻挡涂层的装置，其包括多个用于处理容器的台（１），每个处理台具有一个处理腔室（２）和一个外壳（３），所述外壳包括一个真空泵室，其与所述装置的功能组件（１１，３６，３７）相通，当装置运行时，所述功能组件至少部分地易于被组成所述涂层的粉状材料所覆盖，其特征在于：所述功能组件（１１，３６，３７）包括电磁阀（１１），其用于选择性地控制在腔室（２）内和待处理容器内建立真空状态和气压，并且所述功能组件被集中到附着到所述外壳（３）上的可分离 单元（７）中，和在所述可分离单元（７）的耦合面（８）所带有的各个套（１０）中所述功能组件被保护；所述外壳（３）整合了功能通道（１６，２０），所述功能通道是所述功能组件（１１，３６，３７）各自运行所需的、并开在所述外壳（３）的耦合面（ ９）上，所述可分离单元（７）和外壳（３）的耦合面（８，９）以互补方式相配；和当利用其各自的耦合面（８，９）相互配合，将所述可分离单元（７）固定到所述外壳（３）上时，所述通道（１６，２０）和所述保护各自功能组件（１１，３６，３７）的所 述套（１０）分别被连接。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：伊维斯厄本杜克拉斯，
申请(专利权)人：西得乐公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]