The utility model relates to a polishing device, in particular to a polishing device for a microscope bracket. The technical scheme of the utility model is a polishing device for a microscope bracket, including a base with a support on the base, a polishing mechanism and a longitudinal adjusting mechanism on the support. The polishing mechanism includes a polishing head, the longitudinal adjusting mechanism includes a guide rail and a slide seat, the slide seat is arranged on the guide rail, and the sliding seat is connected with the polishing mechanism. The base is provided with a fixed seat on the base, the top of the fixed seat is provided with a fixed chuck, and the lower part of the fixing seat is connected with the motor shaft. The polishing head includes the grinding body and the back cashmere layer, the grinding body is a multi pore structure, the center of the grinding body is perforated, and the cashmere layer is set on the surface of the grinding body. And surrounded by the surrounding perforation. The utility model has the advantages of reasonable structure and good polishing effect, which can reduce the work intensity of the staff and improve the work efficiency.
【技术实现步骤摘要】
一种显微镜支架的抛光装置
本技术涉及一种抛光装置,尤其涉及一种显微镜支架的抛光装置。
技术介绍
显微镜是由一个透镜或几个透镜的组合构成的一种光学仪器,是人类进入原子时代的标志。显微镜主要用于放大微小物体成为人的肉眼所能看到的仪器,在使用显微镜时需要用到显微镜支架。显微镜支架制作完成后,表面难免会存在毛刺,因此,需要对其表面进行抛光处理。现有的用于对显微镜支架表面进行处理的装置,结构简单,功能也相对比较单一,不仅抛光效果不好,而且工作人员的工作量大,工作效率低,不能满足使用需求。因此,应该提供一种新的技术方案解决上述问题。
技术实现思路
本技术提供一种结构合理,使用效果好的显微镜支架的抛光装置。为达到上述目的,本技术采用的技术方案是:一种显微镜支架的抛光装置,包括底座,所述底座上设有支架,所述支架上设有抛光机构和纵向调节机构,所述抛光机构包括抛光头,抛光头与转轴的一端连接,转轴的另一端与电动机连接,所述纵向调节机构包括导轨、滑座,所述导轨沿竖直方向设置在支架的一侧,所述滑座设置于导轨上,所述滑座与抛光机构连接,所述底座上设有用于固定显微镜支架的固定机构,所述固定机构包括固定座,所述固定座的顶端设有固定卡盘,所述固定座的下方与设置在底座下侧的电机的电机轴连接,所述抛光头包括研磨本体和背绒层,所述研磨本体为多孔隙状结构,所述研磨本体的中心具有穿孔,所述背绒层设置在研磨本体的表面,并环绕于所述穿孔的周围。进一步的技术方案:纵向调节机构还包括驱动气缸,所述驱动气缸的下端与滑座连接。所述固定卡盘为三爪卡盘。所述背绒层为绒布材料或化纤材料。背绒层的外缘朝所述研磨本体的外缘延伸形 ...
【技术保护点】
一种显微镜支架的抛光装置,其特征在于:包括底座(1),所述底座(1)上设有支架(2),所述支架(2)上设有抛光机构和纵向调节机构,所述抛光机构包括抛光头(3),抛光头(3)与转轴(4)的一端连接,转轴(4)的另一端与电动机(5)连接,所述纵向调节机构包括导轨(6)、滑座(7),所述导轨(6)沿竖直方向设置在支架(2)的一侧,所述滑座(7)设置于导轨(6)上,所述滑座(7)与抛光机构连接,所述底座(1)上设有用于固定显微镜支架的固定机构,所述固定机构包括固定座(8),所述固定座(8)的顶端设有固定卡盘(9),所述固定座(8)的下方与设置在底座(1)下侧的电机(10)的电机轴连接,所述抛光头(3)包括研磨本体(3‑1)和背绒层(3‑2),所述研磨本体(3‑1)为多孔隙状结构,所述研磨本体(3‑1)的中心具有穿孔(3‑3),所述背绒层(3‑2)设置在研磨本体(3‑1)的表面,并环绕于所述穿孔(3‑3)的周围。
【技术特征摘要】
1.一种显微镜支架的抛光装置,其特征在于:包括底座(1),所述底座(1)上设有支架(2),所述支架(2)上设有抛光机构和纵向调节机构,所述抛光机构包括抛光头(3),抛光头(3)与转轴(4)的一端连接,转轴(4)的另一端与电动机(5)连接,所述纵向调节机构包括导轨(6)、滑座(7),所述导轨(6)沿竖直方向设置在支架(2)的一侧,所述滑座(7)设置于导轨(6)上,所述滑座(7)与抛光机构连接,所述底座(1)上设有用于固定显微镜支架的固定机构,所述固定机构包括固定座(8),所述固定座(8)的顶端设有固定卡盘(9),所述固定座(8)的下方与设置在底座(1)下侧的电机(10)的电机轴连接,所述抛光头(3)包括研磨本体(3-1)和背绒层(3-2),...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵韬,刘宜庆,徐志敏,方成红,洪文弟,
申请(专利权)人:泰州市显达精密机械有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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