离子除臭装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及臭气处理设备，公开了一种离子除臭装置，机箱内依次设置有水膜除尘装置、除雾装置、离子除臭装置、复数块导流板、活性炭层，水膜除尘装置包括设置在机箱下部的溢水槽和与溢水槽连通的环形水管，溢水槽的纵截面呈梯形结构，溢水槽上设有进水口和出水口；离子除臭装置包括箱体、抽屉、发射设备室、离子发生器、光触媒网、UV灯管；导流板平行等距交错设置在机箱内。本实用新型专利技术可对臭气中的颗粒进行净化，溢水槽的设置使得形成的水膜更为的均匀，可提高净化效果；除雾装置用于去除臭气中的水汽，避免对后续造成影响；离子除臭装置用于去除臭气中的有害物质；导流板用于增加臭气与离子的反应时间。

Ion deodorizing device

The utility model relates to a stink treatment equipment, and discloses an ion deodorizing device. A water film dedusting device, a deodorizing device, an ion deodorizing device, a complex number block guide plate and a activated carbon layer are arranged in the case. The water film dust removal device includes a overflow tank set in the lower part of the chassis and a annular pipe connected with the overflow tank, and the overflow water is filled. The longitudinal section of the slot is a trapezoid structure, a water inlet and a water outlet are arranged on the overflow tank, and the ion deodorizing device includes a box, a drawer, a launching equipment room, an ion generator, a photocatalyst network and a UV lamp, and the parallel equidistance of the diversion plate is interlaced in the chassis. The utility model can purify the particles in the odor, make the water film more uniform and improve the purification effect; the mist removal device is used to remove the water vapor in the stink and avoid the effect on the follow-up; the ion deodorizing device is used to remove the harmful substances in the odor; the diversion plate is used to increase the odor and the odor. The reaction time of the ion.

【技术实现步骤摘要】
离子除臭装置
本技术涉及臭气处理设备，尤其涉及了一种离子除臭装置。
技术介绍
目前，臭气被归类为有毒污染物，对人体健康和生态环境均会造成严重的危害。现有的离子除臭装置离子和臭气不能充分反映，除臭效果较差。另外颗粒易堵住系统中的管道，且污水不能循环使用，浪费资源。
技术实现思路
本技术针对现有技术中除臭效果差的缺点，提供了一种除臭效果较佳的离子除臭装置。为了解决上述技术问题，本技术通过下述技术方案得以解决：离子除臭装置，包括机箱，机箱下部设有供臭气进入的进风口，机箱顶端设有出风口，机箱内自进风口到出风口依次设置有水膜除尘装置、除雾装置、离子除臭装置、复数块导流板、活性炭层，水膜除尘装置包括设置在机箱下部的溢水槽和与溢水槽连通的环形水管，溢水槽的纵截面呈梯形结构，溢水槽的顶部设有与环形水管连通的进水口，溢水槽上位于机箱内部的侧壁上部设有出水口；离子除臭装置包括箱体、设置在箱体上的复数个并排的抽屉、设置在抽屉内的发射设备室、设置在发射设备室内的离子发生器、设置在抽屉内的光触媒网、设置在抽屉内的复数个并排的UV灯管；导流板平行等距交错设置在机箱内。作为优选，机箱底部设有集水罩，集水罩底部设有用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
离子除臭装置，包括机箱（1），机箱（1）下部设有供臭气进入的进风口，机箱（1）顶端设有出风口，机箱（1）内自进风口到出风口依次设置有水膜除尘装置、除雾装置（7）、离子除臭装置、复数块导流板（8）、活性炭层（9），水膜除尘装置包括设置在机箱（1）下部的溢水槽（34）和与溢水槽（34）连通的环形水管（35），溢水槽（34）的纵截面呈梯形结构，溢水槽（34）的顶部设有与环形水管（35）连通的进水口（37），溢水槽（34）上位于机箱（1）内部的侧壁上部设有出水口（36）；离子除臭装置包括箱体（22）、设置在箱体（22）上的复数个并排的抽屉（23）、设置在抽屉（23）内的发射设备室（24）、设置在发射设...

【技术特征摘要】
1.离子除臭装置，包括机箱（1），机箱（1）下部设有供臭气进入的进风口，机箱（1）顶端设有出风口，机箱（1）内自进风口到出风口依次设置有水膜除尘装置、除雾装置（7）、离子除臭装置、复数块导流板（8）、活性炭层（9），水膜除尘装置包括设置在机箱（1）下部的溢水槽（34）和与溢水槽（34）连通的环形水管（35），溢水槽（34）的纵截面呈梯形结构，溢水槽（34）的顶部设有与环形水管（35）连通的进水口（37），溢水槽（34）上位于机箱（1）内部的侧壁上部设有出水口（36）；离子除臭装置包括箱体（22）、设置在箱体（22）上的复数个并排的抽屉（23）、设置在抽屉（23）内的发射设备室（24）、设置在发射设备室（24）内的离子发生器（25）、设置在抽屉（23）内的光触媒网（26）、设置在抽屉（23）内的复数个并排的UV灯管（27）；导流板（8）平行等距交错设置在机箱（1）内。2.根据权利要求1所述的离子除臭装置，其特征在于：机箱（1）底部设有集水罩（28），集水罩（28）底部设有用于清理废渣的清理口（30），集...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁世灿，王阳城，
申请(专利权)人：厦门世纪兴源环境工程有限公司，
类型：新型
国别省市：福建,35