一种化学试剂装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种化学试剂装置，包括固定安装在基体上的容池、用于冲刷所述容池内部的冲刷结构以及设置在地面中的引导结构，所述容池中设置有位于上端且开端朝右的上容槽以及位于下端的下容槽，所述上容槽和下容槽之间设置有隔挡板，所述隔挡板中设置有互通所述上容槽和下容槽的第一通透槽，所述下容槽底壁上设置有第二通透槽，所述下容槽中固定安装有安放块，所述安放块中可上下平滑地安装有导滑杆，所述导滑杆下端固定设置有磁铁，所述磁铁底部设置有与所述第二通透槽相配合的闭紧圈，所述下容槽底壁中安装有与所述磁铁相配合的磁力装置。

A chemical reagent device

The present invention discloses a chemical reagent device, including a capacitive tank fixed on a substrate, a scour structure used to scour the tank and a guiding structure in the ground. The tank is provided with an upper end and a right at the upper end and a lower tank at the lower end, and the upper and lower tank. A separate baffle is arranged between the baffles and the first permeable grooves of the up and down grooves and the down grooves. The bottom wall of the lower tank is provided with second permeable grooves, and the placement block is fixed and installed in the lower tank, and the slide bar can be smoothly mounted up and down in the placement block, and the lower end of the guide rod is fixed to be fixed and provided. A magnet is arranged at the bottom of the magnet, which is fitted with the second permeable slot, and the bottom wall of the lower capacity slot is equipped with a magnetic force device which is matched with the magnet.

【技术实现步骤摘要】
一种化学试剂装置
本专利技术涉及化工领域，具体地说是一种化学试剂装置。
技术介绍
在化工领域中往往要将多种化学试剂融合反应后使用，现有中的化学试剂装置一般增设有冲洗结构，以便对使用后的化学容池进行冲洗，但是由于这种冲洗结构设置相对简单，极易将冲洗化学容池的水与化学试剂混合，使得化学试剂掺杂有水分后浓度降低，严重影响使用效果，因此，急需一种能够将化学试剂分离存储的设备来满足现有需求。
技术实现思路
针对上述技术的不足，本专利技术提出了一种化学试剂装置。本专利技术的一种化学试剂装置，包括固定安装在基体上的容池、用于冲刷所述容池内部的冲刷结构以及设置在地面中的引导结构，所述容池中设置有位于上端且开端朝右的上容槽以及位于下端的下容槽，所述上容槽和下容槽之间设置有隔挡板，所述隔挡板中设置有互通所述上容槽和下容槽的第一通透槽，所述下容槽底壁上设置有第二通透槽，所述下容槽中固定安装有安放块，所述安放块中可上下平滑地安装有导滑杆，所述导滑杆下端固定设置有磁铁，所述磁铁底部设置有与所述第二通透槽相配合的闭紧圈，所述下容槽底壁中安装有与所述磁铁相配合的磁力装置，所述容池上还设有置放结构，所述置放结构包括置放板以及置物槽，所述置放板固定设置于所述容池右侧顶部且前后伸展设置，所述置放板顶部端面内前后伸展设置有所述置物槽，所述置物槽中通过栅栏板分割成多个置放空间，所述引导结构包括设置在地面中的安放腔，所述安放腔顶壁中安装有与所述第二通透槽连接的管道，所述安放腔前后端壁中设置有左右伸展的第一滑槽，所述第一滑槽中可左右平滑地安装有滑块，所述滑块中安装有导放管，所述导放管下端向下伸展，且所述导放管上端固定连接有软细管，所述软细管上端与所述管道固定连接，所述安放腔底壁中固定安装有位于左端的试剂管以及位于右端的第一排放管，所述试剂管和第一排放管分别与试剂反应箱和排污系统互通，所述所述试剂管和第一排放管上端分别固定安装有左立斗和右立斗，地面中还安装有驱滑结构，所述驱滑结构包括滑条、螺杆、马达以及用以开启所述马达的控管结构，所述安放腔右端壁中设置有开端朝向所述安放腔的第二滑槽，所述马达固定安装在所述第二滑槽右端壁中，所述滑条平滑安装在所述第二滑槽中，所述滑条左端与所述滑块固定连接，且所述滑条中设置有螺丝孔，所述螺杆配合连接在所述螺丝孔中，所述螺杆右端与所述马达连接。有益地或示例性地，其中，所述控管结构包括固定安装在地面中的固定架，所述固定架中设置有开端朝上的第三滑槽，所述第三滑槽中可上下平滑地安装有承压块，所述第三滑槽底壁上安装有用以驱动所述马达正转的第一按钮和与所述磁力装置连接的第一控管器，所述第三滑槽左右侧壁中还设置有导滑槽，所述导滑槽中还平滑安装有与所述承压块固定连接的导滑块，所述导滑槽中还安装有用以驱动所述马达反转的第二按钮。有益地或示例性地，其中，所述冲刷结构包括与容池互通的冲刷管、安装在所述冲刷管上的阀门以及用以控制所述阀门打开的推动件，所述推动件包括固定安装在基体上的突板，所述突板中设置有左右伸展的第四滑槽，所述第四滑槽中可左右平滑地安装有推动块，所述推动块右端面固定设置有推动杆，所述推动杆右端穿透所述突板并向外伸展，所述第四滑槽左端面上固定安装有用以控制所述阀门打开的第三按钮以及与所述磁力装置连接的第二控管器。有益地或示例性地，其中，所述安放块与所述磁铁之间安装有第一弹片。有益地或示例性地，其中，所述第三滑槽底壁上固定安装有第二弹片，所述第二弹片上端与所述承压块固定连接。有益地或示例性地，其中，所述第四滑槽左端壁固定安装有与所述推动块相抵的第三弹片。有益地或示例性地，其中，所述安放腔底面设置有斜滑面，所述斜滑面底部安装有与排污系统互通且与所述安放腔互通的第二排放管。有益地或示例性地，其中，所述第一控管器、第二控管器和所述磁力装置依次连接。本专利技术的有益效果是：由于本专利技术装置在使用时，操作人员站立在所述承压块上并将多种化学试剂倒入所述容池中，与此同时，在重力作用下所述承压块会向下滑动，所述承压块向下滑动后会开启所述第一按钮和第一控管器，所述第一按钮可控制所述马达正转，所述马达可驱动所述滑条向左滑动，所述滑条可驱动所述滑块向左滑动，当所述滑块左端面与所述安放腔左端壁贴合时，所述导放管与所述左立斗对准，由此，当人将化学试剂倒入所述上容槽中后，化学试剂会依次流经所述下容槽管道、软细管和导放管而流入到所述试剂管中，由此可将化学试剂流入到试剂反应箱中；本专利技术装置在使用结束后并按下所述推动杆，所述推动杆可驱动所述推动块向左滑动，所述推动块向左滑动后会开启所述第三按钮和第二控管器，所述第二控管器被开启后，所述磁力装置通电，从而所述磁力装置可将所述磁铁向下移动而使所述闭紧圈将所述第二通透槽堵住，而所述第三按钮可控制所述阀门打开，由此，可对容池内部进行冲洗，而冲洗后的水会先滞留在所述下容槽中；当人离开所述承压块后，在所述第二弹片的作用下，所述承压块被向上顶压，所述导滑块会与所述第二按钮接触，所述第二按钮会控制所述马达反向运转，所述马达可驱动所述滑条向右滑动，所述滑条可带动所述滑块向右滑动，当所述滑块右端面与所述安放腔右端壁贴合时，所述马达停止运转，而此时，所述导放管与所述右立斗对准，而承压块在上升时，所述第一控管器断电，由此，所述磁力装置会下电，由此，在所述第一弹片的作用下，所述磁铁会向上滑动而使所述闭紧圈脱离所述第二通透槽，由此，冲洗后的水会依次流经所述管道、软细管和导放管而流入到所述排放管中；本专利技术装置可实现对化学试剂的分离存储，同时也能对容池进行冲洗，而在人未离开承压块时，冲洗后的水会滞留在下容槽中而不会流入到试剂反应箱中，故可保持化学试剂的原有浓度，故不会使用效果，本专利技术装置结构简单，使用方便。附图说明为了更清楚地说明专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术的一种化学试剂装置的结构示意图；图2为本专利技术的一种化学试剂装置使用时的结构示意图；图3为本专利技术中容池的俯视图。具体实施方式本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。本说明书（包括任何附加权利要求、摘要和附图）中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。如图1-3所示，本专利技术装置的一种化学试剂装置，包括固定安装在基体上的容池10、用于冲刷所述容池10内部的冲刷结构以及设置在地面中的引导结构，所述容池10中设置有位于上端且开端朝右的上容槽11以及位于下端的下容槽43，所述上容槽11和下容槽43之间设置有隔挡板12，所述隔挡板12中设置有互通所述上容槽11和下容槽43的第一通透槽39，所述下容槽43底壁上设置有第二通透槽39，所述下容槽43中固定安装有安放块15，所述安放块15中可上下平滑地安装有导滑杆14，所述导滑杆14下端固定设置有磁铁41，所述磁铁41底部设置有与所述第二通透槽39相配合的闭紧圈16，所述下容槽本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种化学试剂装置，包括固定安装在基体上的容池、用于冲刷所述容池内部的冲刷结构以及设置在地面中的引导结构，其特征在于：所述容池中设置有位于上端且开端朝右的上容槽以及位于下端的下容槽，所述上容槽和下容槽之间设置有隔挡板，所述隔挡板中设置有互通所述上容槽和下容槽的第一通透槽，所述下容槽底壁上设置有第二通透槽，所述下容槽中固定安装有安放块，所述安放块中可上下平滑地安装有导滑杆， 所述导滑杆下端固定设置有磁铁，所述磁铁底部设置有与所述第二通透槽相配合的闭紧圈，所述下容槽底壁中安装有与所述磁铁相配合的磁力装置，所述容池上还设有置放结构，所述置放结构包括置放板以及置物槽，所述置放板固定设置于所述容池右侧顶部且前后伸展设置，所述置放板顶部端面内前后伸展设置有所述置物槽，所述置物槽中通过栅栏板分割成多个置放空间，所述引导结构包括设置在地面中的安放腔，所述安放腔顶壁中安装有与所述第二通透槽连接的管道，所述安放腔前后端壁中设置有左右伸展的第一滑槽，所述第一滑槽中可左右平滑地安装有滑块，所述滑块中安装有导放管，所述导放管下端向下伸展，且所述导放管上端固定连接有软细管，所述软细管上端与所述管道固定连接，所述安放腔底壁中固定安装有位于左端的试剂管以及位于右端的第一排放管，所述试剂管和第一排放管分别与试剂反应箱和排污系统互通，所述所述试剂管和第一排放管上端分别固定安装有左立斗和右立斗，地面中还安装有驱滑结构，所述驱滑结构包括滑条、螺杆、马达以及用以开启所述马达的控管结构，所述安放腔右端壁中设置有开端朝向所述安放腔的第二滑槽，所述马达固定安装在所述第二滑槽右端壁中，所述滑条平滑安装在所述第二滑槽中，所述滑条左端与所述滑块固定连接，且所述滑条中设置有螺丝孔，所述螺杆配合连接在所述螺丝孔中，所述螺杆右端与所述马达连接。...

【技术特征摘要】
1.一种化学试剂装置，包括固定安装在基体上的容池、用于冲刷所述容池内部的冲刷结构以及设置在地面中的引导结构，其特征在于：所述容池中设置有位于上端且开端朝右的上容槽以及位于下端的下容槽，所述上容槽和下容槽之间设置有隔挡板，所述隔挡板中设置有互通所述上容槽和下容槽的第一通透槽，所述下容槽底壁上设置有第二通透槽，所述下容槽中固定安装有安放块，所述安放块中可上下平滑地安装有导滑杆，所述导滑杆下端固定设置有磁铁，所述磁铁底部设置有与所述第二通透槽相配合的闭紧圈，所述下容槽底壁中安装有与所述磁铁相配合的磁力装置，所述容池上还设有置放结构，所述置放结构包括置放板以及置物槽，所述置放板固定设置于所述容池右侧顶部且前后伸展设置，所述置放板顶部端面内前后伸展设置有所述置物槽，所述置物槽中通过栅栏板分割成多个置放空间，所述引导结构包括设置在地面中的安放腔，所述安放腔顶壁中安装有与所述第二通透槽连接的管道，所述安放腔前后端壁中设置有左右伸展的第一滑槽，所述第一滑槽中可左右平滑地安装有滑块，所述滑块中安装有导放管，所述导放管下端向下伸展，且所述导放管上端固定连接有软细管，所述软细管上端与所述管道固定连接，所述安放腔底壁中固定安装有位于左端的试剂管以及位于右端的第一排放管，所述试剂管和第一排放管分别与试剂反应箱和排污系统互通，所述所述试剂管和第一排放管上端分别固定安装有左立斗和右立斗，地面中还安装有驱滑结构，所述驱滑结构包括滑条、螺杆、马达以及用以开启所述马达的控管结构，所述安放腔右端壁中设置有开端朝向所述安放腔的第二滑槽，所述马达固定安装在所述第二滑槽右端壁中，所述滑条平滑安装在所述第二滑槽中，所述滑条左端与所述滑块...

【专利技术属性】
技术研发人员：俞巍，
申请(专利权)人：俞巍，
类型：发明
国别省市：湖北,42