一种气体处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于处理至少含有一氧化二氮(N2O)的气体处理装置包含:第一腔室，包含第一进气口、第一出气口以及第一能量供应系统，气体自第一进气口进入第一腔室内；第二腔室，包含第二进气口、第二出气口以及第二能量供应系统，第一出气口与第二出气口分别与第三腔室之第三进气口相连通；第三腔室透过第三出气口与第四腔室的第四进气口相连通；第四腔室包含洗涤系统，洗涤系统具有包含水分子(H2O)之溶剂。藉由本实用新型专利技术公开的气体处理装置，能将气体与臭氧分别独立进行处理裂解后再混合反应，以净化气体。

A gas treatment device

The utility model discloses a gas treatment device for dealing with at least two nitrogen (N2O), including a first chamber, a first air intake, a first gas outlet, and a first energy supply system, the gas from the first air inlet into the first chamber, and the second chamber, including the second air intake, the second gas outlet and the first chamber. Second energy supply system, the first gas outlet and the second outlet are connected to the third air inlet of the third chamber, respectively; the third chamber is connected to the fourth inlet of the fourth chamber through the third outlet; the fourth chamber contains the washing system, and the washing system has a solvent containing water molecules (H2O). By means of the gas treatment device disclosed by the utility model, the gas and ozone can be separately processed, cracked and mixed again to purify the gas.

【技术实现步骤摘要】
一种气体处理装置
一种气体处理装置，尤其涉及一种将气体与臭氧分别独立进行处理裂解后再混合反应的气体净化装置。
技术介绍
近年来，空气污染的议题备受重视，由于其对人类和生态环境有极大的负面影响。而造成空气污染的物质可以是固态颗粒、液态液滴、或是气体，有天然造成的如火山喷发的烟灰，也有藉由人类活动而产生的污染物，如汽机车排放废气中的一氧化碳或硫氧化物，或工厂燃烧排放的气体等等。藉由人类活动产生的主要污染物包括有：一、硫氧化物(SO×)：通常是二氧化硫，化学公式为S02。SO2由火山和其它工业过程产生。煤和石油常常含有硫，它们在燃烧时会产SO2，SO2通常在受到NO2等的催化进一步氧化，形成H2SO4，即酸雨。二、氢氧化物(NO×)：氮氧化物，特别是高温燃烧所产生的二氧化氮，也可以通过闪电产生。它们会形成棕色烟雾或污染物，笼罩城市，二氧化氮是一种化学物质，公式为NO2，为最著名的空气污染物，这种棕红色的气体具有十分剌鼻的苦涩气味。三、一氧化碳(CO)：CO是一种无色、无味、无刺激的有毒气体。是由不完全燃烧所产生的，如天然气、煤或木头等，汽车或机车排放的尾气是一氧化碳的主要来源。四、挥发性有本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体处理装置，用于处理至少含有一氧化二氮(N2O)的气体，所述气体处理装置，其特征在于包含：第一腔室，包含第一进气口、第一出气口以及第一能量供应系统，所述气体自所述第一进气口进入所述第一腔室内；第二腔室，包含第二出气口以及第二能量供应系统，所述第一出气口与所述第二出气口分别与第三腔室的第三进气口相连通；所述第三腔室透过第三出气口与第四腔室的第四进气口相连通；所述第四腔室包含洗涤系统，所述洗涤系统具有包含水分子(H2O)的溶剂。

【技术特征摘要】
2016.05.13 TW 1051148151.一种气体处理装置，用于处理至少含有一氧化二氮(N2O)的气体，所述气体处理装置，其特征在于包含：第一腔室，包含第一进气口、第一出气口以及第一能量供应系统，所述气体自所述第一进气口进入所述第一腔室内；第二腔室，包含第二出气口以及第二能量供应系统，所述第一出气口与所述第二出气口分别与第三腔室的第三进气口相连通；所述第三腔室透过第三出气口与第四腔室的第四进气口相连通；所述第四腔室包含洗涤系统，所述洗涤系统具有包含水分子(H2O)的溶剂。2.如权利要求1所述的气体处理装置，其特征在于，所述第一能量供应系统与所述第二能量供应系统来自热能或光能的其中之一、或两者的组合。3.如权利要求2所述的气体处理装置，其特征在于，所述第一能量供应系统包含具有波长介于160-210nm的间的第一紫外线光源；所述第二能量供应系统包含具有波长介于230-280nm的间的第二紫外线光源。4.如权利要求2所述的气体处理装置，其特征在于，所述第二能量供应系统包含介于200-300℃的间的发热装置。5.如权利要求1所述的气体处理装置，其特征在于，所述第一腔室、所述第二腔室或所述第三腔室，进一步设置扰流系统，且所述扰流系统具有可产生雷诺数大...

【专利技术属性】
技术研发人员：李大青，陈翠敏，
申请(专利权)人：青净光能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71