流化床反应器中的流体分布制造技术

一种用于流化床反应器的流体分布罩(301)，包括：隧道形结构，所述隧道形结构具有用于附接到流体分布板(103)的两个相对壁；以及至少一个开口，所述开口在所述隧道形结构的末端。所述隧道形结构具有内表面(302)和外表面(303)，其中，所述内表面(302)具有弯曲截面，并且其中，所述外表面(303)具有基本上V形的截面。一种用于流化床反应器的流体分布板(103)，包括：具有多个流体排放孔(113)的板；多个流体分布罩(301)，其中，针对每个流体排放孔(113)，流体分布罩(301)安装在所述孔(113)之上。至少两个相互邻近的流体分布罩(301)被定位成使得所述两个邻近的流体分布罩中的第一流体分布罩的开口面向所述两个邻近的流体分布罩中的第二流体分布罩的侧面。一种具有流体分布板(103)和流体分布罩(301)的流化床反应器。

Fluid distribution in a fluidized bed reactor

A fluid distributing hood (301) for a fluidized bed reactor comprises a tunnel structure, the tunnel structure has two relative walls for attaching the fluid distribution plate (103), and at least one opening, and the opening is at the end of the tunnel structure. The tunnel structure has an inner surface (302) and an outer surface (303), wherein the inner surface (302) has a curved cross section, and the outer surface (303) has a substantially V shaped cross section. A fluid distribution plate (103) for a fluidized bed reactor includes: a plate having multiple fluid discharge holes (113), and a plurality of fluid distributing covers (301), wherein, for each fluid drain hole (113), the fluid distributing hood (301) is mounted on the hole (113). At least two adjacent fluid distributing covers (301) are positioned to make the opening of the first fluid distributing cover of the two adjacent fluid distributing covers face the sides of the second fluid distributing covers of the two adjacent fluid distributing covers. A fluidized bed reactor with a fluid distribution plate (103) and a fluid distribution cover (301).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】流化床反应器中的流体分布
本专利技术涉及用于流化床反应器的流体分布罩和流体分布板、以及包括所述流体分布罩和所述流体分布板的流化床反应器。
技术介绍
流化床反应器用于涉及液相、气相和固相的反应物和/或催化剂的聚合过程。通过从固体颗粒下方将流体或气体反应物吹到所述颗粒中，形成对抗重力而浮在向上流动的流体上的流化床。当流体流动停止时，固体颗粒将在流化反应器容器的底部停下来。为了避免反应器容器的入口塞住或堵塞，引入流体分布板，所述流体分布板允许流体朝向反应器容器的上部分散并穿过以形成流化床，但当反应器关闭，流化床下沉时利用流体分布罩来捕获固体颗粒并且防止它们污染和堵塞反应器入口。流体分布板具有流体排放孔以允许流体穿过而到达反应器容器的上部并且将流体均匀地分布在流化床上。流体排放孔被流体分布罩覆盖以容纳流体分布板上方的固体颗粒，从而避免将需要关机来除去堵塞的反应器入口塞住。流体排放孔和流体分布罩在流体分布板上引起压降，所述压降优选在维持板上和上方的均匀分布的同时尽可能低。反应器并且因此流体分布板应被设计成准许在不必关机进行清洁的情况下长时间运行。已知的流化床反应器中可能出现的问题是与流体分布罩本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于流化床反应器或聚合过程中使用的流化床反应器的流体分布罩，包括：‑隧道形结构，所述隧道形结构具有用于附接到流体分布板的两个侧壁；以及‑至少一个开口，所述开口在所述隧道形结构的末端，其中，所述隧道形结构在所述结构的相对端具有两个开口；‑所述隧道形结构具有内表面和外表面，其中，所述内表面具有弯曲截面，并且其中，所述外表面具有基本上V形的截面。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.06 EP 15175376.1;2015.07.22 US 62/195,3741.一种用于流化床反应器或聚合过程中使用的流化床反应器的流体分布罩，包括：-隧道形结构，所述隧道形结构具有用于附接到流体分布板的两个侧壁；以及-至少一个开口，所述开口在所述隧道形结构的末端，其中，所述隧道形结构在所述结构的相对端具有两个开口；-所述隧道形结构具有内表面和外表面，其中，所述内表面具有弯曲截面，并且其中，所述外表面具有基本上V形的截面。2.根据权利要求1所述的流体分布罩，其中，所述内表面具有基本上半圆形的截面。3.根据前述权利要求中任一项所述的流体分布罩，其中，所述隧道形结构是一件式物件。4.根据权利要求1至3中任一项所述的流体分布罩，其中，所述结构包括形成所述V形外表面的角轮廓和形成所述弯...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·阿尔图凯尔，
申请(专利权)人：SABIC环球技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL