一种控制方法和头戴式设备技术

本发明专利技术公开了一种控制方法，应用于头戴式设备，所述方法包括：检测获取的光线的光照强度是否符合预设值；若所述光线的光照强度不符合预设值，则调整控制所述头戴式设备的第一光学组件的透过率；根据所述第一光学组件的透过率，控制所述光线的光照强度符合预设值。本发明专利技术还公开了一种头戴式设备。

A control method and a headwear device

The invention discloses a control method used in head mounted device, the method includes: obtaining the detection light light intensity is consistent with the preset value; if the light intensity of the light does not accord with the preset value is adjusted, the first optical component to control the head mounted device through rate; according to the transmittance of the first optical component, the control of the light intensity of light with preset value. The invention also discloses a kind of head wearing device.

【技术实现步骤摘要】
一种控制方法和头戴式设备
本专利技术涉及虚拟现实技术，尤其涉及一种控制方法和头戴式设备。
技术介绍
现在的头戴式设备，如虚拟现实眼镜、虚拟现实头盔等已成为人们生活娱乐中的一种不可或缺的工具。一般情况下，用户在佩戴头戴式设备之后，用户的眼睛需处于封闭的暗室中，若外界环境的光强度与头戴式设备的显示屏亮度差异过大，容易给用户的眼睛带来刺激感，使用户感觉到不适头戴式设备。目前，大多数厂家控制头戴式设备亮度的方法是通过控制液晶显示器(LCD，LiquidCrystalDisplay)的显示亮度，即设置一个固定值实现亮度控制。但是，在眼镜硬件光学指标测试的过程中发现被测设备的LCD亮度调整不适合；或者说如果将LCD亮度设置固定值，当用户使用过程中出现不同的界面/场景时人眼得到亮度是不一致的，用户在沉浸模式下观看时，若LCD亮度过高时，导致人眼伤害比较大，LCD亮度过低时，导致观看效果不佳，都无法获得符合实际观看需求的显示亮度，如何根据接收的光源控制头戴式设备的显示亮度是现在需要解决的问题。
技术实现思路
为解决现有存在的技术问题，本专利技术实施例提供一种控制方法和头戴式设备，能够根据所处环境的实时亮度调整用户观看的亮度值，使据该亮度值得到的显示亮度符合用户实际的观看需求。为达到上述目的，本专利技术的技术方案是这样实现的：本专利技术实施例提供了一种控制方法，应用于头戴式设备，所述方法包括：检测获取的光线的光照强度是否符合预设值；若所述光线的光照强度不符合预设值，则调整控制所述头戴式设备的第一光学组件的透过率；根据所述第一光学组件的透过率，控制所述光线的光照强度符合预设值。上述方案中，所述检测获取的光线的光照强度是否符合预设值之前，所述方法还包括：通过光线传感器检测所述头戴式设备的第二光学组件反射的所述光线的光照强度；所述第二光学组件为分光镜。上述方案中，所述第一光学组件为覆盖有液晶分子层的光学组件；所述光线的光照强度不符合预设值，调整控制所述头戴式设备的第一光学组件的透过率，包括：所述光线的光照强度小于所述预设值，则通过改变每个液晶分子的翻转扭曲度使得光线透过液晶分子的光通量变大，以增加所述第一光学组件的透过率；所述光线的光照强度大于所述预设值，则通过改变每个液晶分子的翻转扭曲度使得光线透过液晶分子的光通量变小，以减小所述第一光学组件的透过率。上述方案中，所述光线的光照强度不符合预设值，调整控制所述头戴式设备的第一光学组件的透过率，还包括：改变所述第一光学组件部分区域的液晶分子的翻转扭曲度使得光线透过液晶分子的光通量改变，以调节所述光线传感器对应第一光学组件的部分区域的透过率。上述方案中，所述第一光学组件为可寻址液晶面板；所述增加或减小所述第一光学组件的透过率，包括：根据所述第一光学组件的每个单位像素的液晶分子两端的电压值与所述第一光学组件的透过率的关系曲线，调节第一光学组件的每个单位像素的液晶分子两端的电压值；根据调节的所述第一光学组件的每个单位像素的液晶分子两端的电压值，增加或减小所述第一光学组件的透过率。上述方案中，所述调整控制所述头戴式设备的第一光学组件的透过率之前，所述方法还包括：确定标准光源亮度，测量所述液晶分子两端的电压取不同的电压值时所述第一光学组件的亮度值；根据所述标准光源亮度和所述第一光学组件的亮度值，计算不同的液晶分子两端的电压值对应的第一光学组件的透过率；确定所述液晶分子两端的电压值与所述第一光学组件的透过率的关系曲线。本专利技术实施例还提供了一种头戴式设备，所述头戴式设备包括：第一光学组件、控制系统；其中，所述控制系统，用于检测获取的光线的光照强度是否符合预设值；若所述光线的光照强度不符合预设值，则调整控制所述第一光学组件的透过率；根据所述第一光学组件的透过率，控制所述光线的光照强度符合预设值。上述方案中，所述头戴式设备，还包括：测光系统；所述测光系统，用于通过光线传感器检测所述头戴式设备的第二光学组件反射的所述光线的光照强度；所述第二光学组件为分光镜。上述方案中，所述第一光学组件为覆盖有液晶分子层的光学组件；所述控制系统，具体用于：在所述光线的光照强度小于所述预设值时，通过改变每个液晶分子的翻转扭曲度使得光线透过液晶分子的光通量变大，以增加所述第一光学组件的透过率；在所述光线的光照强度大于所述光照强度预设值时，通过改变每个液晶分子的翻转扭曲度使得光线透过液晶分子的光通量变小，以减小所述第一光学组件的透过率。上述方案中，所述控制系统，还用于，改变所述第一光学组件部分区域的液晶分子的翻转扭曲度使得光线透过液晶分子的光通量改变，以调节所述光线传感器对应第一光学组件的部分区域的透过率。上述方案中，所述第一光学组件为可寻址液晶面板；所述控制系统，用于根据所述第一光学组件的每个单位像素的液晶分子两端的电压值与所述第一光学组件的透过率的关系曲线，调节第一光学组件的每个单位像素的液晶分子两端的电压值；根据调节的所述第一光学组件的每个单位像素的液晶分子两端的电压值，增加或减小所述第一光学组件的透过率。上述方案中，所述控制系统，还用于确定标准光源亮度，测量所述液晶分子两端的电压取不同的电压值时所述第一光学组件的亮度值；根据所述标准光源亮度和所述第一光学组件的亮度值，计算不同的液晶分子两端的电压值对应的第一光学组件的透过率；确定所述液晶分子两端的电压值与所述第一光学组件的透过率的关系曲线。本专利技术实施例再提供了一种头戴式设备，所述头戴式设备包括：控制器、第一光学组件、第二光学组件和阵列式光线传感器组；其中，所述第一光学组件位于所述第二光学组件的外侧，所述阵列式光线传感器组垂直接收所述第二光学组件反射的光线，以获取所述光线的光线强度；所述第一光学组件和所述阵列式光线传感器组分别与所述控制器电性连接，通过所述控制器检测所述第二光学组件反射的光线的光照强度是否符合预设值；若所述光线的光照强度不符合预设值，则调整控制所述第一光学组件的透过率；根据所述第一光学组件的透过率，控制所述光线的光照强度符合预设值。上述方案中，所述第一光学组件为可寻址液晶面板，所述第二光学组件为分光镜；所述可寻址液晶面板，从上至下依次包括：上层玻璃基板、上层偏光片、配向膜、液晶分子、共通电极、下层偏光片和下层玻璃基板。上述方案中，所述上层玻璃基板和所述下层玻璃基板内包括TFT晶体管。上述方案中，所述控制器包括：电性连接的驱动芯片和对比模块；其中，通过所述对比模块检测所述第二光学组件反射的光线的光照强度是否符合预设值；若所述光线的光照强度不符合预设值，则将对比结果发送给所述驱动芯片，在所述驱动芯片接收到所述对比结果后，根据所述对比结果对所述第一光学组件的液晶分子进行寻址，确定每个液晶分子两端的TFT晶体管的寻址结果；通过控制所述液晶分子两端的TFT晶体管的电压压差调节每个液晶分子两端的电压，以调整所述第一光学组件的透过率。上述方案中，所述控制器还包括：电性连接的扫描驱动器和数据驱动器；其中，在所述扫描驱动器和所述数据驱动器接收所述驱动芯片输出的调整所述第一光学组件的透过率的指令后，通过所述扫描驱动器向所述第一光学组件输出控制信号，使所述第一光学组件根据所述控制信号控制每行液晶分子的TFT晶体管两端的接通或断开，以控制是否接收数据；在所述数据驱动器向所述第一光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种控制方法，应用于头戴式设备，其特征在于，所述方法包括：检测获取的光线的光照强度是否符合预设值；若所述光线的光照强度不符合预设值，则调整控制所述头戴式设备的第一光学组件的透过率；根据所述第一光学组件的透过率，控制所述光线的光照强度符合预设值。

【技术特征摘要】
1.一种控制方法，应用于头戴式设备，其特征在于，所述方法包括：检测获取的光线的光照强度是否符合预设值；若所述光线的光照强度不符合预设值，则调整控制所述头戴式设备的第一光学组件的透过率；根据所述第一光学组件的透过率，控制所述光线的光照强度符合预设值。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述检测获取的光线的光照强度是否符合预设值之前，所述方法还包括：通过光线传感器检测所述头戴式设备的第二光学组件反射的所述光线的光照强度；所述第二光学组件为分光镜。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一光学组件为覆盖有液晶分子层的光学组件；所述光线的光照强度不符合预设值，调整控制所述头戴式设备的第一光学组件的透过率，包括：所述光线的光照强度小于所述预设值，则通过改变每个液晶分子的翻转扭曲度使得光线透过液晶分子的光通量变大，以增加所述第一光学组件的透过率；所述光线的光照强度大于所述预设值，则通过改变每个液晶分子的翻转扭曲度使得光线透过液晶分子的光通量变小，以减小所述第一光学组件的透过率。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述光线的光照强度不符合预设值，调整控制所述头戴式设备的第一光学组件的透过率，还包括：改变所述第一光学组件部分区域的液晶分子的翻转扭曲度使得光线透过液晶分子的光通量改变，以调节所述光线传感器对应第一光学组件的部分区域的透过率。5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一光学组件为可寻址液晶面板；所述增加或减小所述第一光学组件的透过率，包括：根据所述第一光学组件的每个单位像素的液晶分子两端的电压值与所述第一光学组件的透过率的关系曲线，调节第一光学组件的每个单位像素的液晶分子两端的电压值；根据调节的所述第一光学组件的每个单位像素的液晶分子两端的电压值，增加或减小所述第一光学组件的透过率。6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述调整控制所述头戴式设备的第一光学组件的透过率之前，所述方法还包括：确定标准光源亮度，测量所述液晶分子两端的电压取不同的电压值时所述第一光学组件的亮度值；根据所述标准光源亮度和所述第一光学组件的亮度值，计算不同的液晶分子两端的电压值对应的第一光学组件的透过率；确定所述液晶分子两端的电压值与所述第一光学组件的透过率的关系曲线。7.一种头戴式设备，其特征在于，所述头戴式设备，包括：第一光学组件、控制系统；其中，所述控制系统，用于检测获取的光线的光照强度是否符合预设值；若所述光线的光照强度不符合预设值，则调整控制所述第一光学组件的透过率；根据所述第一光学组件的透过率，控制所述光线的光照强度符合预设值。8.根据权利要求7所述的头戴式设备，其特征在于，所述头戴式设备，还包括：测光系统；所述测光系统，用于通过光线传感器检测所述头戴式设备的第二光学组件反射的所述光线的光照强度；所述第二光学组件为分光镜。9.根据权利要求7所述的头戴式设备，其特征在于，所述第一光学组件为覆盖有液晶分子层的光学组件；所述控制系统，具体用于：在所述光线的光照强度小于所述预设值时，通过改变每个液晶分子的翻转扭曲度使得光线透过液晶分子的光通量变大，以增加所述第一光学组件的透过率；在所述光线的光照强度大于所述光照强度预设值时，通过改变每个液晶分子的翻转扭曲度使得光线透过液晶分子的光通量变小，以减小所述第一光学组件的透过率。10.根据权利要求9所述的头戴式设备，其特征在于，所述控制系统，还用于，改变所述第一光学组件部分区域的液晶分子的翻转扭曲度使得光线透...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴永辉，
申请(专利权)人：中兴通讯股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44