基于发光功能型薄膜的超分辨成像方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种基于发光功能型薄膜的超分辨成像方法，包括：1)在衬底上镀制多边形的发光薄膜，并在发光薄膜镀制镀制折射率高于1.4的表层薄膜；2)将微纳样品放置在表层薄膜上或在发光薄膜上制备微纳结构；3)通过外部激发发光薄膜不同边的波导，不同波矢方向的光场将被耦合进所述表层薄膜内并进行传输，传输光场的倏逝场与微纳样品或微纳结构相互作用，获取微纳样品或微纳结构的远场光学成像，并对像进行频谱拼接重构，得到对应的超分辨成像信息。本发明专利技术还公开一种基于发光功能型薄膜的超分辨成像装置。本发明专利技术可以实现对来自发光薄膜波导光场的高效耦合，提供大波矢照明倏逝场，能够抑制背景噪声，改善成像质量。

【技术实现步骤摘要】
基于发光功能型薄膜的超分辨成像方法和装置
本专利技术涉及功能型发光薄膜和超分辨显微领域，尤其涉及基于发光功能型薄膜的超分辨成像方法和装置。
技术介绍
材料、生物、医学等领域的发展，要求有关设备能够实现更小尺寸的分辨能力，以便能够实现对更小尺寸样品的观察。但是，传统的光学显微系统受限于阿贝衍射极限理论，在可见光波段，无法实现优于200纳米左右的分辨率。目前国际上的远场超分辨信息获取方法主要可以分为荧光标记类和非标记的远场超分辨显微成像：1、荧光标记类样品：主要是受激发射损耗荧光显微术(STED)，光激活定位显微术和随机光学重建显微术。前两项技术是2014年获得诺贝尔化学奖的两种超分辨荧光显微成像技术，他们的共同特点是都需要对被观测样品进行荧光标记。这就面临着以下问题：样品适用范围窄；标记荧光分子对生物样品具有光毒性等。2、非标记的远场超分辨显微成像：主要包括结构光照明(SIM/SSIM)、微球接触技术、等离子激元表面波、超透镜技术等。结构光照明在非标记条件下分辨率理论极限为衍射极限的一半，可见区可可将横向分辨率提高至约100nm。微球接触技术面临视场范围小，分辨率受限于微球折射率等问题本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于发光功能型薄膜的超分辨成像方法，其特征在于，包括：1)在衬底上镀制多边形的发光薄膜，并在发光薄膜镀制镀制折射率高于1.4的表层薄膜；2)将微纳样品放置在表层薄膜上或在发光薄膜上制备微纳结构；3)通过外部激发发光薄膜不同边的波导，不同波矢方向的光场将被耦合进所述表层薄膜内并进行传输，传输光场的倏逝场与微纳样品或微纳结构相互作用，获取微纳样品或微纳结构的远场光学成像，并对像进行频谱拼接重构，得到对应的超分辨成像信息。

【技术特征摘要】
1.一种基于发光功能型薄膜的超分辨成像方法，其特征在于，包括：1)在衬底上镀制多边形的发光薄膜，并在发光薄膜镀制镀制折射率高于1.4的表层薄膜；2)将微纳样品放置在表层薄膜上或在发光薄膜上制备微纳结构；3)通过外部激发发光薄膜不同边的波导，不同波矢方向的光场将被耦合进所述表层薄膜内并进行传输，传输光场的倏逝场与微纳样品或微纳结构相互作用，获取微纳样品或微纳结构的远场光学成像，并对像进行频谱拼接重构，得到对应的超分辨成像信息。2.如权利要求1所述的超分辨成像方法，其特征在于，所述的衬底为盖玻片或具有氧化硅层的硅片。3.如权利要求1所述的超分辨成像方法，其特征在于，所述发光薄膜的材料为掺杂硫化锌、硫化锌镉、硫化锶、硫化钡、硫化钙、氧化锌、磷化镓、磷砷镓化合物、铝砷镓和氮化镓中的一种。4.如权利要求1所述的超分辨成像方法，其特征在于，所述发光薄膜的材料为有机-无机杂化钙钛矿量子点、全无机钙钛矿量子点、有机-无机杂化钙钛矿、稀土掺杂钒酸盐和稀土掺杂氟化钙中的一种。5.如权利要求1所述的超分辨成像方法，其特征在于，所述发光薄膜的材料为聚合物发光薄膜材料。6.如权利要求5所述的超...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨青，庞陈雷，刘小威，刘旭，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：浙江,33