研磨抛光托架和扫光机制造技术

本实用新型专利技术公开一种研磨抛光托架和扫光机，所述研磨抛光托架包括中心盘、幅板和多个行星支撑盘；所述中心盘用于与扫光机转动连接；所述幅板与所述中心盘连接并且位于所述中心盘的周侧，所述幅板沿着所述中心盘的径向向外延伸；所述行星支撑盘设置于所述辐板上。本实用新型专利技术具有增加旋转稳定性的效果。

Grinding and polishing bracket and scavenger

The utility model discloses a polishing carrier and sweep machine, the grinding and polishing disc, a bracket includes a center plate and a plurality of planetary support plate; the central disc for sweeping the machine rotating connection; board and the center plate connected and located in the center of the peripheral side of the disc. A plate along the radial direction wherein the center plate extends outward; the planetary support plate is arranged on the web. The utility model has the effect of increasing the rotation stability.

【技术实现步骤摘要】
研磨抛光托架和扫光机
本技术涉及机床
，特别涉及一种研磨抛光托架和扫光机。
技术介绍
随着工艺品质要求的越来越高，对产品进行扫光研磨的要求越来越多。通常研磨抛光是机械加工的最后一道工序，研磨抛光的好坏在很大程度上决定了产品的质量。在抛光研磨实际加工时电机带动圆盘转动，圆盘转速不能太高，保证研磨抛光的平稳进行。但是，现有圆盘结构的难以适应高速旋转，则导致扫光研磨时圆盘转速低，从而加工效率很低。
技术实现思路
本技术的主要目的是提供一种研磨抛光托架和扫光机，旨在增加旋转稳定性。为实现上述目的，本技术提出的一种研磨抛光托架，用于扫光机，其特征在于，所述研磨抛光托架包括中心盘、幅板和多个行星支撑盘；所述中心盘用于与扫光机转动连接；所述幅板与所述中心盘连接并且位于所述中心盘的周侧，所述幅板沿着所述中心盘的径向向外延伸；所述行星支撑盘设置于所述幅板上。可选的，所述幅板上还设有加强筋，所述加强筋沿着所述中心盘的径向延伸。可选的，所述幅板上还开设有镂空孔。可选的，所述研磨抛光托架的上侧用于朝向扫光盘；所述幅板的上表面为光面，所述加强筋连接于所述幅板的下表面。可选的，所述幅板呈圆盘状设置；多个所述行星支本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种研磨抛光托架，用于扫光机，其特征在于，所述研磨抛光托架包括中心盘、幅板和多个行星支撑盘；所述中心盘用于与扫光机转动连接；所述幅板与所述中心盘连接并且位于所述中心盘的周侧，所述幅板沿着所述中心盘的径向向外延伸；所述行星支撑盘设置于所述幅板上。

【技术特征摘要】
1.一种研磨抛光托架，用于扫光机，其特征在于，所述研磨抛光托架包括中心盘、幅板和多个行星支撑盘；所述中心盘用于与扫光机转动连接；所述幅板与所述中心盘连接并且位于所述中心盘的周侧，所述幅板沿着所述中心盘的径向向外延伸；所述行星支撑盘设置于所述幅板上。2.如权利要求1所述的研磨抛光托架，其特征在于，所述幅板上还设有加强筋，所述加强筋沿着所述中心盘的径向延伸。3.如权利要求2所述的研磨抛光托架，其特征在于，所述幅板上还开设有镂空孔。4.如权利要求3所述的研磨抛光托架，其特征在于，所述研磨抛光托架的上侧用于朝向扫光盘；所述幅板的上表面为光面，所述加强筋连接于所述幅板的下表面。5.如权利要求4所述的研磨抛光托架，其特征在于，所述幅板呈圆盘状设置；多个所述行星支撑盘沿着所述幅板的外侧边缘均匀设置；所述幅板沿着其周向设置有循环状排布的多个加强区和镂空区；所述加强区位于所述行星支撑盘和所述中心盘之间，所述镂空区位于两个所述加强区之间；所述加强...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏军，曲俊廷，
申请(专利权)人：深圳市创智自动化有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44