一种减反射膜及镜片制造技术

本实用新型专利技术涉及光学部件技术领域，尤其涉及一种减反射膜及镜片。该减反射膜包括镀设于基底表面的至少一层膜，每层膜均由五氧化三钛层和镀设于该五氧化三钛层表面的二氧化硅层组成，每层膜五氧化三钛层的厚度均为10nm‑20nm。本实用新型专利技术由于五氧化三钛层的厚度仅仅为10nm‑20nm,使得五氧化三钛层镀制时间极短，大大降低了镀制膜层时基底表面温度，避免了基底受温变形与熔融的影响，不会使得基底由于温度过高而损坏有机高分子基底。

【技术实现步骤摘要】
一种减反射膜及镜片
本技术涉及光学部件
，尤其涉及一种减反射膜及镜片。
技术介绍
与玻璃相比，光学有机高分子材料具有一些独特的优势。例如光学玻璃由于工艺的限制导致可用的形状有限，需要一系列的后期研磨和抛光工序，难于采用自动化量产技术，生产成本相对较高。而光学有机高分子材料是由模具挤出成型，可以同时压出光学面和定位面，并能够按照技术要求制备出多种复杂外形的有机高分子材料光学元件。正是由于有机高分子材料镜片可以做出多样化的外型这一特性，一片单一的塑料元件甚至可以取代整个玻璃元件系统，并且有机高分子材料镜片的密度本身就小于玻璃元件，因此可以减少系统整体的重量，从而使整个光学系统设计上也能加以简化，符合光学系统往“轻薄短小”方向发展的趋势；虽然模具的成本较高，但塑料元件的工艺一旦调整完毕，就能进行大批量生产，降低制造成本，并且产品的重复性好，质量稳定。但所有光学系统元器件都需要镀膜，镀膜过程中产生的热量会对元器件本身起到一定的加热的作用，有机高分子材料不能耐受高温，给生产带来了极大的不便。在光学有机高分子材料衬底上进行减反射光学薄膜蒸镀的过程中，有一个重要的技术难点：光学有机高分子材料本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种减反射膜，用于有机高分子基底表面，包括镀设于有机高分子基底表面的五层膜，其特征在于，每层膜均由五氧化三钛层和镀设于该五氧化三钛层表面的二氧化硅层组成，每层膜五氧化三钛层的厚度均为10nm‑20nm；所述五层膜分别为从有机高分子基底表面依次镀设的第一层膜、第二层膜、第三层膜、第四层膜和第五层膜，其中，第一层膜的二氧化硅层的厚度为：27.5nm‑53.1nm；第二层膜的二氧化硅层的厚度为：2.0nm‑5.0nm；第三层膜的二氧化硅层的厚度为：12.5nm‑45.6nm；第四层膜的二氧化硅层的厚度为：5.0nm‑11.3nm；第五层膜的二氧化硅层的厚度为：89.8nm‑105.0nm。

【技术特征摘要】
1.一种减反射膜，用于有机高分子基底表面，包括镀设于有机高分子基底表面的五层膜，其特征在于，每层膜均由五氧化三钛层和镀设于该五氧化三钛层表面的二氧化硅层组成，每层膜五氧化三钛层的厚度均为10nm-20nm；所述五层膜分别为从有机高分子基底表面依次镀设的第一层膜、第二层膜、第三层膜、第四层膜和第五层膜，其中，第一层膜的二氧化硅层的厚度为：27.5nm-53.1nm；第二层膜的二氧化硅层的厚度为：2.0nm-5.0nm；第三层膜的二氧化硅层的厚度为：12.5nm-45.6nm；第四层膜的二氧化硅层的厚度为：5.0nm-11.3nm；第五层膜的二氧化硅层的厚度为：89.8nm-105.0nm。2.如权利要求1所述的减反射膜，其特征在于，五层膜的总厚度为243.1nm-260.7nm；各层膜的五氧化三钛层的厚度均相同；所述有机高分子基底所用的材料为透明材料。3.如权利要求1所述的减反射膜，其特征在于，每层膜的五氧化三钛层的厚度均为10nm；所述有机高分子基底所用的材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯或聚碳酸酯；所述基底为基板。4.如权利要求1所述的减反射膜，其特征在于，每...

【专利技术属性】
技术研发人员：李唯宏，
申请(专利权)人：鹤山市嘉米基光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44