一种静电水消除及表面除尘结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种静电水消除及表面除尘结构，包括壳体、压力腔、离子发生器和真空腔，所述壳体底部开口下方有基板横向移动，所述壳体的底部有开口，所述壳体内有真空腔，所述壳体内通过隔板间隔成两个压力腔，两个压力腔分别在对应真空腔下方两侧，所述压力腔内有离子发生器，所述离子发生器底部有喷口。本实用新型专利技术提供一种静电水消除及表面除尘结构，能够同进对产品进行消除静电及对产品表面进行除尘，从而能够间接提高产品质量。

A structure of electrostatic water removal and surface dust removal

【技术实现步骤摘要】
一种静电水消除及表面除尘结构
本技术涉及电容式触摸屏相关结构领域，特别是涉及一种静电水消除及表面除尘结构。
技术介绍
触摸屏对生产的环境主是管控难点在产品的洁净度及静电，洁净度直接影响产品良率，静电则可避免IC被打坏，及静电吸附落尘引起的不良，因此控制好产能的洁净度及消除静电可以有效解决上述问题。而目前在生产过程中，静电消除和表面清洁都是分开行，且基本都是人要处理，存在工艺繁琐，效果不理想的问题。
技术实现思路
为了解决上述存在的问题，本技术提供一种静电水消除及表面除尘结构，能够同进对产品进行消除静电及对产品表面进行除尘，从而能够间接提高产品质量，为达此目的，本技术提供一种静电水消除及表面除尘结构，包括壳体、压力腔、离子发生器和真空腔，所述壳体底部开口下方有基板横向移动，所述壳体的底部有开口，所述壳体内有真空腔，所述壳体内通过隔板间隔成两个压力腔，两个压力腔分别在对应真空腔下方两侧，所述压力腔内有离子发生器，所述离子发生器底部有喷口。本技术的进一步改进，所述壳体为矩形，本技术壳体采用矩形这样受压方向朝下除尘效果较佳。本技术的进一步改进，所述离子发生器底部喷口朝壳体中心倾斜，当压力腔产生产气流经过离子发生器产生了离子风经压力腔的斜口吹到工件表面后，工件表面静电被中和而消除了静电，同时工件表面的落尘在静电清除后，附着力下降的同时，再加上压力腔出的气流的吹洗力，很容易就将表面落尘带起，因此离子发生器底部喷口最好倾斜设计。本技术提供一种静电水消除及表面除尘结构，包括真空腔、压力腔、离子发生器，其中离子发生器后在左右两个腔体为压力腔，为正压，真空腔为负压，当压力腔产生产气流经过离子发生器产生了离子风经压力腔的斜口吹到工件表面后，工件表面静电被中和而消除了静电，同时工件表面的落尘在静电清除后，附着力下降的同时，再加上压力腔出的气流的吹洗力，很容易就将表面落尘带起，同时真空腔因负压，两侧压力腔的气流及时从真空腔排走，达到气流平衡，减少二次落尘和因紊流造成的二次污染，达到表面静电消除和工件表除尘的效果。附图说明图1为本技术示意图；图示说明:1、壳体；2、压力腔；3、离子发生器；4、真空腔；5、基板。具体实施方式下面结合附图与具体实施方式对本技术作进一步详细描述：本技术提供一种静电水消除及表面除尘结构，能够同进对产品进行消除静电及对产品表面进行除尘，从而能够间接提高产品质量。作为本技术一种实施例，本技术提供一种静电水消除及表面除尘结构，包括壳体1、压力腔2、离子发生器3和真空腔4，所述壳体1底部开口下方有基板5横向移动，所述壳体1的底部有开口，所述壳体1内有真空腔4，所述壳体1内通过隔板间隔成两个压力腔2，两个压力腔2分别在对应真空腔4下方两侧，所述压力腔2内有离子发生器3，所述离子发生器3底部有喷口。作为本技术一种具体实施例，本技术提供如图1所示的一种静电水消除及表面除尘结构，包括壳体1、压力腔2、离子发生器3和真空腔4，所述壳体为矩形，本技术壳体采用矩形这样受压方向朝下除尘效果较佳，所述壳体1底部开口下方有基板5横向移动，所述壳体1的底部有开口，所述壳体1内有真空腔4，所述壳体1内通过隔板间隔成两个压力腔2，两个压力腔2分别在对应真空腔4下方两侧，所述压力腔2内有离子发生器3，所述离子发生器3底部有喷口，所述离子发生器底部喷口朝壳体中心倾斜，当压力腔产生产气流经过离子发生器产生了离子风经压力腔的斜口吹到工件表面后，工件表面静电被中和而消除了静电，同时工件表面的落尘在静电清除后，附着力下降的同时，再加上压力腔出的气流的吹洗力，很容易就将表面落尘带起，因此离子发生器底部喷口最好倾斜设计。本技术工作原理如下：当压力腔产生产气流经过离子发生器产生了离子风经压力腔的斜口吹到工件表面后，工件表面静电被中和而消除了静电，同时工件表面的落尘在静电清除后，附着力下降的同时，再加上压力腔出的气流的吹洗力，很容易就将表面落尘带起，同时真空腔因负压，两侧压力腔的气流及时从真空腔排走，达到气流平衡，减少二次落尘和因紊流造成的二次污染，达到表面静电消除和工件表除尘的效果。以上所述，仅是本技术的较佳实施例而已，并非是对本技术作任何其他形式的限制，而依据本技术的技术实质所作的任何修改或等同变化，仍属于本技术所要求保护的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种静电水消除及表面除尘结构，包括壳体（1）、压力腔（2）、离子发生器（3）和真空腔（4），所述壳体（1）底部开口下方有基板（5）横向移动，其特征在于：所述壳体（1）的底部有开口，所述壳体（1）内有真空腔（4），所述壳体（1）内通过隔板间隔成两个压力腔（2），两个压力腔（2）分别在对应真空腔（4）下方两侧，所述压力腔（2）内有离子发生器（3），所述离子发生器（3）底部有喷口。

【技术特征摘要】
1.一种静电水消除及表面除尘结构，包括壳体（1）、压力腔（2）、离子发生器（3）和真空腔（4），所述壳体（1）底部开口下方有基板（5）横向移动，其特征在于：所述壳体（1）的底部有开口，所述壳体（1）内有真空腔（4），所述壳体（1）内通过隔板间隔成两个压力腔（2），两个压力腔（2）分别在对应真...

【专利技术属性】
技术研发人员：李菁，吴祖胜，兰定杨，刘宏团，张文涛，
申请(专利权)人：江苏盛锐光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32