The invention discloses a non thermal sterilization method combined with ultrasonic treatment of low temperature plasma, comprising the following steps: Staphylococcus aureus after plasma treatment of low temperature dielectric barrier discharge, and then ultrasonic treatment; low temperature plasma treatment conditions for dielectric barrier: the frequency of 10 ~ 12kHz, with the air gap spacing is 5 to 6mm, the power was 40 ~ 45W, processing time is 5 ~ 6min, processing at room temperature; ultrasonic treatment conditions: the treatment frequency is 20 ~ 22kHz, 200 ~ 220W processing power, processing time is 10 ~ 20min, at room temperature. The method of the invention greatly improves the killing effect of Staphylococcus aureus and effectively inhibits the production of sublethal Staphylococcus aureus, so as to provide certain theoretical basis for the combination of plasma and ultrasonic two in food preservation and sterilization.
【技术实现步骤摘要】
一种低温等离子体联合超声处理的非热杀菌方法
本专利技术属于生物
,具体涉及一种低温等离子体联合超声处理的非热杀菌方法,有效抑制亚致死金黄色葡萄球菌产生。
技术介绍
金黄色葡萄球菌为革兰氏阳性致病菌,直径为0.8-1.0μm,无芽孢,无荚膜,呈现球状,通常多个细菌细胞排列成单、双、短链葡萄状串。金黄色葡萄球菌广泛地存在于多种食品中,如奶和奶制品、肉和肉制品、蛋和蛋制品、沙拉以及鱼等,能够产生多种不同的肠毒素而引起金黄色葡萄球菌感染。金黄色葡萄球菌肠毒素一般会导致恶心、呕吐,部分还会造成腹泻和腹部绞痛。近年来,金黄色葡萄球菌引起的食物中毒事件已经引起了民众和政府组织的密切关注,成为了全球性的公共卫生问题。至今为止,至少有30个国家报道过金黄色葡萄球菌中毒事件。在中国,根据2015年国家卫生和计划生育委员会发布的《国家卫生计生委办公厅关于2015年全国食物中毒事件情况的通报》中表明在57起微生物性食物中毒事件中,因金黄色葡萄球菌引起的中毒事件占第四位。
技术实现思路
本专利技术提供一种低温等离子体联合超声处理的非热杀菌方法,用于处理金黄色葡萄球菌,能有效抑制亚致死金黄色葡萄球菌产生。一种低温等离子体联合超声处理的非热杀菌方法,包括如下步骤:将金黄色葡萄球菌先经介质阻挡放电低温等离子体处理,然后再进行超声处理;介质阻挡放电低温等离子体处理条件为:处理频率为10~12kHz,处理气隙间距为5~6mm,处理功率为40~45W,处理时间为5~6min,处理温度为室温;超声处理条件为:处理频率为20~22kHz,处理功率为200~220W,处理时间为10~20min,处 ...
【技术保护点】
一种低温等离子体联合超声处理的非热杀菌方法,其特征在于,包括如下步骤:将金黄色葡萄球菌先经介质阻挡放电低温等离子体处理,然后再进行超声处理;介质阻挡放电低温等离子体处理条件为:处理频率为10~12kHz,处理气隙间距为5~6mm,处理功率为40~45W,处理时间为5~6min,处理温度为室温;超声处理条件为:处理频率为20~22kHz,处理功率为200~220W,处理时间为10~20min,处理温度为室温。
【技术特征摘要】
1.一种低温等离子体联合超声处理的非热杀菌方法,其特征在于,包括如下步骤:将金黄色葡萄球菌先经介质阻挡放电低温等离子体处理,然后再进行超声处理;介质阻挡放电低温等离子体处理条件为:处理频率为10~12kHz,处理气隙间距为5~6mm,处理功率为40~45W,处理时间为5~6min,处理温度为室温;超声处理条件为:处理频率为20~22kHz,处理功率为200~220W,处理时间为10~20min,处理温度为室温。2.根据权利要求1所述非热杀菌方法,其特征在于,介质阻挡放电低温等离子体处理条件为:处理频率为10kHz,处理气隙间距为5mm,处理功率为40W,处理时间为5min,处理温度为25℃。3.根据权利要求1所述非热杀菌...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘东红,丁甜,李娇,廖新浴,叶兴乾,陈健初,胡亚芹,陈士国,
申请(专利权)人:浙江大学,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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