用于制造光学反射器和有机存储器的包含硼(III)部分的溶液可处理给体‑受体化合物及其制备制造技术

本发明专利技术公开用于制造光学反射器和有机存储器的溶液可处理材料，该材料具有包括硼(III)部分作为电子受体单元的给体‑受体系统。更具体地讲，本文描述利用具有由以下通式(I)表示的化学结构的包含硼(III)的给体‑受体化合物作为活性材料制造光学反射器和有机存储器，其中B为硼原子；各硼原子可任选结合X1、X2、X3和X4中的一个或两个和Y1、Y2、Y3和Y4中的两个；X1、X2、X3和X4独立为杂原子或碳原子，其中杂原子或基团可以为F、Cl、Br、I或OR，R为特定杂原子或碳原子上可选自烷基或芳族基团的取代基；Y1、Y2、Y3和Y4独立为杂原子，其中杂原子或基团可以为O、S、Se、Ge、Te、PR或NR，R为特定杂原子或碳原子上可选自烷基或芳族基团的取代基；Z1、Z2、Z3和Z4为环状结构衍生物；D1、D2和D3任选为烷基取代的芳族基团；并且n和m可任选为任何整数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造光学反射器和有机存储器的包含硼(III)部分的溶液可处理给体-受体化合物及其制备相关申请交叉引用本申请要求2015年5月21日提交的美国临时申请62/164,742的优先权，所述申请通过引用结合到本文中。
本文描述用包含硼(III)部分作为电子受体单元的溶液可处理给体-受体化合物制造光学反射器和/或有机存储器。专利技术背景由于其引人关注的光物理、光敏和非线性光学性质，推-拉发色团在科学界引起了巨大关注[Kanisetal.,Chem.Rev.1994,94,195;Longetal.,Angew.Chem.,Int.Ed.Engl.1995,34,21]。近几十年来，由于其作为光敏剂和光电子材料的能力，且容易改变HOMO和LUMO能级和可调自组装形态，这类化合物在材料学引起了很多关注。典型的有机推-拉发色团由π-共轭间隔基连接的电子给体和电子受体组成[Grimsdaleetal.,Chem.Rev.2009,109,897;Liangetal.,Chem.Soc.Rev.2013,42,3453]。HOMO主要位于电子给体部分上，而电子受体部分对LUMO有贡献。通过审慎设本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学反射器，所述光学反射器依次包括活性层和平基片，其中活性层通过旋涂包含硼(III)的给体‑受体化合物形成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.05.21 US 62/1647421.一种光学反射器，所述光学反射器依次包括活性层和平基片，其中活性层通过旋涂包含硼(III)的给体-受体化合物形成。2.权利要求1的光学反射器，所述包含硼(III)的给体-受体化合物由以下结构表示：其中a)B为硼原子；b)X1、X2、X3和X4独立为杂原子、碳原子、OR、烷基或芳基，其中杂原子为F、Cl、Br或I，并且R选自烷基或芳族基团；d)Y1、Y2、Y3和Y4独立为O、S、Se、Ge、Te、PR或NR，且R选自烷基或芳族基团；e)Z1、Z2、Z3和Z4为环状结构；f)D1、D2和D3独立为烷基或芳族基团；并且g)n和m可为任何整数，例如0、1或2，优选1。3.权利要求2的光学反射器，其中b)X1、X2、X3和X4独立为F、Cl、Br或芳基；d)Y1、Y2、Y3和Y4独立为O或S；e)Z1、Z2、Z3和Z4独立为噻吩、低聚噻吩、稠合噻吩、二苯并噻吩或苯并二噻吩；f)D1和D3独立为烷基、噻吩、低聚噻吩、稠合噻吩、二苯并噻吩或苯并二噻吩；并且g)D2为噻吩、低聚噻吩、稠合噻吩、芴、二苯并噻吩、二苯并呋喃、二苯并磷杂环戊二烯、二噻吩并磷杂环戊二烯、二苯并硅杂环戊二烯、二噻吩并硅杂环戊二烯、二苯并吡咯、二噻吩并吡咯、二噻吩并呋喃、二苯并呋喃、苯并噻二唑、噻唑并噻唑、苯并二噻吩或咔唑；并且h)n和m为1。4.权利要求2的光学反射器，其中各硼原子可结合X1、X2、X3和X4中的一个或两个和Y1、Y2、Y3和Y4中的两个；或者其中包含硼(III)的给体-受体化合物的X1和X2为杂原子；或者其中所述包含硼(III)的给体-受体化合物的X1和X2或X3和X4包括碳原子；或者其中包含硼(III)的给体-受体化合物的Y1和Y2或Y3和Y4包括碳原子；...

【专利技术属性】
技术研发人员：任咏华，潘俊廷，吴翟，
申请(专利权)人：香港大学，
类型：发明
国别省市：中国香港,81