The utility model discloses a preparation of ceramic polishing equipment, including polishing work table frame and arranged in the frame, the polishing table end is provided with a groove, the groove is provided with a through hole through the bottom of the polishing table below, polishing table is provided with a partition board, the bottom of the frame is fixed with a vertical hydraulic jack push rod hydraulic jack the baffle is fixedly connected with the lower end of the center, on the face plate is provided with a plurality of vertical column, the top of the column through hole extends to the groove, the top of the column is fixed with the anti-skid device, rack fixed above the horizontal axis, the horizontal axis is arranged on the sliding sleeve, the sliding sleeve fixed on the bottom of the cylinder, the cylinder push rod is fixed at the tail end of the motor. The output shaft end of the motor is fixed on the polishing disc. Compared with the existing technology, the utility model not only ensures the smoothness of the polishing, but also improves the polishing efficiency, saves time and labor, and has good polishing effect. Moreover, the whole device is small in volume and easy to move, so it is easy to popularize and use.
【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷制备用抛光设备
本技术涉及陶瓷加工设备
,特别是一种陶瓷制备用抛光设备。
技术介绍
随着人们的生活水平的提高,人们对生活必需品以外的物品需求量越来愈大,例如陶瓷砖就是一种,而生产出来的陶瓷砖需要进行抛光,原始的抛光工序采用人工方式用砂纸打磨,此方法不仅缓慢,对抛光者的技术要求也比较高,有时会产生打磨不均匀,费时费力,不能保证打磨质量,而现有的抛光机械需要人工搬运和控制,相对前者比较快速,但是在此过程中产品的非自然损坏比较严重,同时效率还是不太理想,因此,需要提供一种新的技术方案来解决上述问题。
技术实现思路
本技术的目的是要解决现有技术问题的不足,提供一种陶瓷制备用抛光设备。为达到上述目的,本技术是按照以下技术方案实施的:一种陶瓷制备用抛光设备,包括机架和设置在在机架内的抛光工作台,所述抛光工作台上端面设有用于放置待抛光陶瓷的凹槽,所述凹槽内设有贯穿抛光工作台底部的通孔,所述抛光工作台下方设有隔板,所述机架底部纵向固定有液压千斤顶,液压千斤顶的顶杆与隔板下端面中心固定连接,所述隔板上端面垂直设有若干立柱,立柱顶端贯穿通孔延伸至凹槽内,立柱顶端固定有防滑装 ...
【技术保护点】
一种陶瓷制备用抛光设备,包括机架和设置在机架内的抛光工作台,其特征在于:所述抛光工作台上端面设有用于放置待抛光陶瓷的凹槽,所述凹槽内设有贯穿抛光工作台底部的通孔,所述抛光工作台下方设有隔板,所述机架底部纵向固定有液压千斤顶,液压千斤顶的顶杆与隔板下端面中心固定连接,所述隔板上端面垂直设有若干立柱,立柱顶端贯穿通孔延伸至凹槽内,立柱顶端固定有防滑装置,所述防滑装置与立柱的高度之和大于抛光工作台的厚度,所述机架上方固定一与抛光工作台平行的横轴,所述横轴上套设有滑套,所述滑套底部固定有气缸,所述气缸的顶杆的末端固定竖直固定有电机,电机的输出轴末端固定有抛光盘,所述抛光盘的下端面与 ...
【技术特征摘要】
1.一种陶瓷制备用抛光设备,包括机架和设置在机架内的抛光工作台,其特征在于:所述抛光工作台上端面设有用于放置待抛光陶瓷的凹槽,所述凹槽内设有贯穿抛光工作台底部的通孔,所述抛光工作台下方设有隔板,所述机架底部纵向固定有液压千斤顶,液压千斤顶的顶杆与隔板下端面中心固定连接,所述隔板上端面垂直设有若干立柱,立柱顶端贯穿通孔延伸至凹槽内,立柱顶端固定有防滑装置,所述防滑装置与立柱的高度之和大于抛光工作台的厚度,所述机架上方固定一与抛光工作台平行的横轴,所述横轴上套设有滑套,所述滑套底部固定有气缸,所述气缸的顶杆的末端固定竖直固定有电机,电机的输出轴末端固定有抛光盘,所述抛光盘的下端面与抛光工作台上端面平行。2.根据权利要求1所述的陶瓷制备用抛光设备,其特征在于:所述凹...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵伟,
申请(专利权)人:赣州艺佳兴陶瓷有限公司,
类型:新型
国别省市:江西,36
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