成膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种成膜装置，包括：容器，其内部能够容置基板；储藏机构，其储藏含有成膜材料的溶液；喷嘴，其与所述储藏机构连通；所述喷嘴能将所述溶液排出至所述基板上；除残机构，其能将所述喷嘴内残留的所述溶液排出所述喷嘴。

Film forming device

The utility model discloses a film forming device includes: a container capable of accommodating the substrate; storage mechanism, the storage solution containing film-forming material; the nozzle is communicated with the storage mechanism; the nozzle to the solution is discharged to the substrate; residual removing mechanism, which can the residual solution the nozzle from the nozzle.

【技术实现步骤摘要】
成膜装置
本技术涉及薄膜形成领域，尤其涉及一种成膜装置。
技术介绍
已知使用涂布法，浸渍法等湿式法作为在基板的表面上形成薄膜、例如有机膜、无机膜的成膜方法。例如，专利文献1中提出了一种成膜方法，其中，在大气中，在玻璃、塑料等基板的表面上，刻出深10～400nm的刻痕(划痕)，使其具有规定方向的条纹状的精细凹凸面，之后通过涂布按规定组成制作的涂布液(稀释溶液)并使其干燥，从而在所述精细凹凸面上形成规定组成的防污膜(有机膜)。此外，专利文献2中提出了一种成膜方法，其中，将氧化钛粒子混合于水中形成悬浊液，进一步调整为特定的pH后，将该悬浊液涂布在支撑体上并使其干燥，由此形成无机氧化钛膜(无机膜)。湿式法中所用的涂布液、悬浊液使用的是溶质浓度低的稀溶液。因此，加热干燥后得到的膜的密度低，随之存在形成的膜的功能容易消失的问题。例如，在用湿式法涂布的防污膜中，最表面上形成的膜容易由于擦拭而被刮掉，其防油性有时消失。与此相对，也考虑使用真空蒸镀法(干式法)在基板上形成薄膜的成膜方法，使用该方法的情况下，成膜时需要形成高真空条件，需要高价的真空排气系统。其结果是难以实现低成本下的成膜。现有技术文献专本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成膜装置，其特征在于，包括：容器，其内部能够容置基板；储藏机构，其储藏含有成膜材料的溶液；喷嘴，其与所述储藏机构连通；所述喷嘴能将所述溶液排出至所述基板上；除残机构，其能将所述喷嘴内残留所述溶液排出所述喷嘴。

【技术特征摘要】
1.一种成膜装置，其特征在于，包括：容器，其内部能够容置基板；储藏机构，其储藏含有成膜材料的溶液；喷嘴，其与所述储藏机构连通；所述喷嘴能将所述溶液排出至所述基板上；除残机构，其能将所述喷嘴内残留所述溶液排出所述喷嘴。2.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于：所述除残机构包括气源；所述气源在除去所述喷嘴残留的所述溶液时与所述喷嘴相连通。3.如权利要求2所述的成膜装置，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：青山贵昭，远藤光人，
申请(专利权)人：株式会社新柯隆，
类型：新型
国别省市：日本,JP