The invention relates to a NO2 sensor based on the in-situ growth of NiO nano film on the electrode surface and a preparation method thereof, which belongs to the technology field of one-dimensional metal oxide semiconductor gas sensor. A kind of NiO nano films grown in situ surface electrode based on NO2 sensor, the sensor is composed of electrode elements and uniform in-situ composition in NiO thin film electrode surface, the NiO thin film by NiO crystal particles, the NiO crystal particles for face centered cubic crystal structure, the diameter is 20 ~ 30nm. The maximum sensitivity of NO2 gas sensor in the working temperature is 150 degrees centigrade, short response time and recovery time, high selectivity, good long-term stability, effectively solve the traditional metal oxide semiconductor gas sensor fabrication process is complex, selectivity and long-term stability is weak, is NO2 gas sensor with good development prospect.
【技术实现步骤摘要】
一种基于电极表面原位生长NiO纳米薄膜的NO2传感器
本专利技术涉及一种基于电极表面原位生长NiO纳米薄膜的NO2传感器及其制备方法,属于一维金属氧化物半导体材料的气体传感器
技术介绍
随着社会的发展和科学技术的进步,人们的生活质量发生了革命性的变化,但与此同时带来的各种负面问题也不断凸显。近年来,雾霾、温室效应、酸雨等威胁人们身体健康的现象不断加剧,煤气泄漏、瓦斯爆炸、气体中毒等威胁人们生命安全的事故频频发生,使得人们对于污染、危险、有害气体的检测与报警的需求不断提升,从而对高性能气体传感器的研制提出了更加迫切与苛刻的要求。目前气体传感器的种类很多,根据气敏材料与作用效应可分为半导体式气体传感器、电化学式气体传感器、固体电解质式气体传感器、接触燃烧式气体传感器、光学式气体传感器,高分子式气体传感器等。其中,金属氧化物半导体式气体传感器由于具有响应速度快、灵敏度高、检测气体浓度下限低、全固态、体积小等优点,是目前应用最为广泛的一类气体传感器。气体传感器的工作环境复杂,通常含有多种有毒有害气体,对于金属氧化物半导体气体传感器而言,其气体选择性较差一直是制约其进一步发展的重要因素。NiO是一种p型宽禁带金属氧化物半导体材料,其禁带宽度在3.6~4.0eV左右。NiO材料具有非常优异的电子传输性能和化学稳定性,在电致变色、催化、磁材、电池、气体传感器等领域都展现出了良好的应用前景。由于其具有较高的气体灵敏度、低成本、与各种微纳米技术较好的兼容性等优点,一度被认为是气敏材料的最佳候选者之一。目前气敏元件的制备方法基本都是将事先制备而成的气敏材料人工涂抹于 ...
【技术保护点】
一种基于电极表面原位生长NiO纳米薄膜的NO2传感器,其特征在于:所述传感器由电极元件及均匀原位生长在电极元件表面的NiO薄膜组成,其中,所述NiO薄膜由NiO晶体颗粒构成,所述NiO晶体颗粒为面心立方相晶体结构,直径为20~30nm。
【技术特征摘要】
1.一种基于电极表面原位生长NiO纳米薄膜的NO2传感器,其特征在于:所述传感器由电极元件及均匀原位生长在电极元件表面的NiO薄膜组成,其中,所述NiO薄膜由NiO晶体颗粒构成,所述NiO晶体颗粒为面心立方相晶体结构,直径为20~30nm。2.根据权利要求1所述的传感器,其特征在于:所述电极元件的材质为Al2O3陶瓷材料或金。3.根据权利要求1所述的传感器,其特征在于:所述电极元件的形状为管状或平面。4.根据权利要求1所述的传感器,其特征在于:所述传感器是通过在电极元件表面原位生长NiO纳米薄膜所得。5.根据权利要求4所述的传感器,其特征在于:所述原位生长NiO纳米薄膜的方法为:采用提拉涂膜法在电极元件表面涂覆NiO溶胶,干燥;将表面涂覆有NiO溶胶的电极元件进行热处理,条件为:以...
【专利技术属性】
技术研发人员:沈岩柏,赵思凯,李婷婷,李国栋,魏德洲,高淑玲,韩聪,
申请(专利权)人:东北大学,
类型:发明
国别省市:辽宁,21
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