一种反应釜真空保护器制造技术

本发明专利技术提出了一种反应釜真空保护器，包括传感器支架、滑芯、伸缩部件、固定座、感应开关，其中，传感器支架包括支撑板、支撑底座和支撑梁，感应开关安装在传感器支架的支撑板上，传感器支架通过支撑底座安装在固定座上，滑芯安装在沿轴线方向并贯穿整个支撑底座与固定座开设的孔道中，固定卡板与伸缩部件均安装在滑芯上，固定卡板位于固定座内部设定的真空腔内，伸缩部件两端分别固定在固定卡板和固定座底端。获得的反应釜真空保护器内的伸缩部件根据反应釜内外压差的变化，带动滑芯在孔道内滑动来控制感应开关，从而能够有效根据对反应釜内部真空状态的监测实现对相关装置的控制，进而使得真空反应釜的操作更加安全可靠。

A vacuum protector for reaction kettle

The invention provides a vacuum reactor protection device includes a sensor holder, a sliding core, telescopic parts, fixed seat, induction switch, wherein the sensor bracket comprises a supporting plate, a supporting base and a supporting beam, the inductive switch is installed on the supporting plate of the sensor bracket, a sensor bracket installed on the fixed seat through a support base and sliding core are arranged in the direction along the axis and through the support base and the fixed base opened in the channels of the fixed clamp and the telescopic parts are installed on the sliding core, fixed in the fixed seat board internal set of vacuum chamber, telescopic member ends are respectively fixed on the fixed plate and a fixed seat bottom. The telescopic part reactor vacuum protector obtained within the reactor according to the change of pressure difference, drives the slide core sliding in the channel to control the induction switch, which can effectively control the related equipment according to the monitoring of the internal vacuum reactor, which makes vacuum reactor operation more safe and reliable.

【技术实现步骤摘要】
一种反应釜真空保护器
本专利技术涉及机械装置真空保护领域，尤其是涉及一种反应釜真空保护器。
技术介绍
真空负压反应釜广泛应用于化工生产领域，是乳化、蒸发、合成、聚合、皂化、磺化、氯化、硝化等工艺过程的常见压力容器。为了维修及清理方便，釜体与釜盖常采用可拆分设计，而在工业生产中的反应釜设备较重，因此反应釜普遍配备釜盖自动升降装置，以方便对反应釜设备进行维修及清理操作。然而，在真空负压反应釜开釜操作过程中，经常会出现工人在反应釜内为真空状态下启动釜盖升降开关的误操作事件，从而导致釜盖升降机损坏或失灵，给操作带来不便影响生产。为了解决上述问题，本专利技术提出一种可以有效监测反应釜内的真空情况进而控制外部开关的真空保护器装置，从而使得真空反应装置在开釜维修或清理时更加安全。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种反应釜真空保护器，能够有效监测真空反应釜内部的真空状态，并根据釜内真空状态控制或指导相关设备的运行，从而使得真空反应釜的操作更加安全。为实现上述目的，本专利技术提出了一种反应釜真空保护器，包括传感器支架、滑芯、伸缩部件、固定座、感应开关，其中，所述传感器支架包括支撑板、支撑底座和支撑梁，所述支撑板与所述支撑底座通过所述支撑梁连接，所述感应开关安装在所述支撑板上，所述传感器支架通过所述支撑底座安装在所述固定座上，所述支撑底座与所述固定座共轴线并沿轴线方向设有一贯穿所述支撑底座与所述固定座的孔道，所述滑芯安装在所述孔道中，所述固定座内部设有真空腔，所述滑芯上设有一固定卡板，所述固定卡板位于所述真空腔内，所述伸缩部件套在滑芯上，且所述伸缩部件一端固定在固定卡板上，一端固定在所述固定座上。进一步的，在所述反应釜真空保护器中，所述感应开关为光电开关，所述光电开关通过螺栓固定在所述支撑板上，且与所述滑芯位于同一轴线上。进一步的，在所述反应釜真空保护器中，所述支撑底座设有一凸台，所述凸台背向所述支撑板且位于所述传感器支架的轴线方向。进一步的，在所述反应釜真空保护器中，所述传感器支架通过所述凸台以嵌合方式与所述固定座连接，所述凸台的底端设有一密封凹槽，且所述凸台的顶端与所述滑芯接触位置装有一密封圈。进一步的，在所述反应釜真空保护器中，所述固定卡板与所述伸缩部件连接处装有一密封垫。进一步的，在所述反应釜真空保护器中，所述孔道包括第一孔道和第二孔道，其中，所述第一孔道沿轴线方向贯穿整个支撑底座，且所述第一孔道内径与所述滑芯外径相同；所述第二孔道沿轴线方向贯穿整个固定座，所述第二孔道顶端孔径与所述凸台外径相同，且所述凸台以嵌合方式安装在所述第二孔道的顶端，所述第二孔道底端孔径与所述滑芯的外径相同。进一步的，在所述反应釜真空保护器中，所述固定座通过卡箍安装在反应釜体上，所述固定座与所述反应釜体连接处设有密封圈。与现有技术相比，本专利技术的有益效果主要体现在：反应釜真空保护器内的伸缩部件根据反应釜内外压差的变化，带动滑芯在孔道内滑动来控制感应开关，从而能够根据对反应釜内部真空状态的监测实现对相关装置的控制，可以有效避免如在釜内真空状态下启动釜盖升降装置等误操作行为，进而使得真空反应釜的操作更加安全可靠。附图说明图1为本专利技术一实施例中反应釜真空保护器示意图；图2为本专利技术一实施例中传感器支架示意图。具体实施方式下面将结合示意图对本专利技术的一种反应釜真空保护器进行更详细的描述，其中表示了本专利技术的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本专利技术，而仍然实现本专利技术的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本专利技术的限制。如图1所示，在本实施例中提出了一种反应釜真空保护器，包括传感器支架1、滑芯2、伸缩部件6、固定座7以及感应开关10。其中，如图2所示，所述传感器支架1包括支撑板1a、支撑底座1b和支撑梁1c，所述支撑板1a与所述支撑底座1b通过所述支撑梁1c连接，所述连接可采用焊接一体化方式或螺栓固定方式，其中焊接一体化方式为较优选择；所述支撑底座1b设有一凸台1d，所述凸台1d背向所述支撑板1a且位于所述传感器支架1的轴线方向，所述凸台1d的内部沿轴线方向设有一贯穿整个支撑底座1b的第一孔道100，且所述第一孔道100内径与所述滑芯2外径相同。在本实施例中，如图1所示，所述固定座7内部沿轴线方向设有一贯穿整个固定座7的第二孔道200，所述第二孔道200的顶端孔径与所述凸台1d的外径相同，从而利于所述传感器支架1以嵌合方式通过所述凸台1d与所述第二孔道200的顶端相连接。所述滑芯2安装在所述第一孔道100和第二孔道200中，所述第二孔道的底端孔径与所述滑芯2的外径相同，从而使所述滑芯2在所述第二孔道200内的不易偏移，起到位置固定的作用。所述滑芯2设有一固定卡板2a，所述固定卡板2a位于所述凸台1d与所述第二孔道200形成的真空腔内，所述伸缩部件6套在所述滑芯2上，所述伸缩部件6一端固定在固定卡板2a上，一端固定在所述固定座7底端处，所述感应开关10通过螺栓固定在所述支撑板1a上，在本实施例中，所述感应开关为光电开关，所述固定座7通过卡箍8固定在反应釜体(图未示出)上。所述凸台1d的底端设有一密封凹槽3，且所述凸台1d的顶端与所述滑芯接触位置装有一密封圈4，所述固定卡板2a与所述伸缩部件6连接处装有一密封垫5，所述固定座7与所述反应釜体连接处设有密封圈9，从而使安装有本实施例提出的反应釜真空保护器装置仍具有良好的密封效果。当反应釜内为真空状态时，在压差作用下，所述固定卡板2a向固定座7底端移动，使真空腔缩小，反之，固定卡板2a向固定座7顶端移动，使真空腔扩大，同时带动所述滑芯2在所述第一孔道100和第二孔道200中沿轴线方向滑动，从而能够对所述感应开关10进行控制。综上，在本专利技术实施例提供的反应釜真空保护器中，反应釜真空保护器内的伸缩部件根据反应釜内外压差的变化，带动滑芯在孔道内滑动来控制感应开关，从而使得反应釜保护器能够根据对反应釜内部真空状态的监测实现对相关装置的控制，可以有效避免如在釜内真空状态下启动釜盖升降装置等误操作行为，进而使得真空反应釜的操作更加安全可靠。上述仅为本专利技术的优选实施例而已，并不对本专利技术起到任何限制作用。任何所属
的技术人员，在不脱离本专利技术的技术方案的范围内，对本专利技术揭露的技术方案和
技术实现思路
做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本专利技术的技术方案的内容，仍属于本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反应釜真空保护器，其特征在于，包括传感器支架、滑芯、伸缩部件、固定座、感应开关，其中，所述传感器支架包括支撑板、支撑底座和支撑梁，所述支撑板与所述支撑底座通过所述支撑梁连接，所述感应开关安装在所述支撑板上，所述传感器支架通过所述支撑底座安装在所述固定座上，所述支撑底座与所述固定座共轴线并沿轴线方向设有一贯穿所述支撑底座与所述固定座的孔道，所述滑芯安装在所述孔道中，所述固定座内部设有真空腔，所述滑芯上设有一固定卡板，所述固定卡板位于所述真空腔内，所述伸缩部件套在滑芯上，且所述伸缩部件一端固定在固定卡板上，一端固定在所述固定座上。

【技术特征摘要】
1.一种反应釜真空保护器，其特征在于，包括传感器支架、滑芯、伸缩部件、固定座、感应开关，其中，所述传感器支架包括支撑板、支撑底座和支撑梁，所述支撑板与所述支撑底座通过所述支撑梁连接，所述感应开关安装在所述支撑板上，所述传感器支架通过所述支撑底座安装在所述固定座上，所述支撑底座与所述固定座共轴线并沿轴线方向设有一贯穿所述支撑底座与所述固定座的孔道，所述滑芯安装在所述孔道中，所述固定座内部设有真空腔，所述滑芯上设有一固定卡板，所述固定卡板位于所述真空腔内，所述伸缩部件套在滑芯上，且所述伸缩部件一端固定在固定卡板上，一端固定在所述固定座上。2.根据权利要求1所述的反应釜真空保护器，其特征在于，所述感应开关为光电开关，所述光电开关通过螺栓固定在所述支撑板上，且与所述滑芯位于同一轴线上。3.根据权利要求1所述的反应釜真空保护器，其特征在于，所述支撑底座设有一凸台，所述凸台背向所述支撑板...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖洪，李清华，
申请(专利权)人：上海雄昱机械设备有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31