一种无介质灌液装置制造方法及图纸

技术编号:17433354 阅读:59 留言:0更新日期:2018-03-10 04:18
本实用新型专利技术公开了一种无介质灌液装置,包括灌晶机和灌晶槽,所述灌晶槽设置在灌晶机内,且灌晶槽的表面喷镀有颗粒砂。本实用新型专利技术结构简单,在对LCD空盒进行灌晶时,利用灌晶槽表面喷镀的颗粒砂增大液晶表面的张力,使LCD空盒和液晶直接接触进行灌晶,避免了灌晶槽内海绵条的使用;从而不仅避免了海绵条本身带来的污染,还避免了LCD空盒和海绵条之间因直接接触产生粉屑污染而造成液晶灌注不良。

A non medium irrigation device

The utility model discloses a device without media for filling liquid, which comprises a crystallizer and a crystallizing groove. The pouring groove is arranged in the crystallizer, and the surface of the crystal casting groove is coated with granular sand. The utility model has the advantages of simple structure, in the empty box with LCD crystal, the crystal sand particles filling groove surface plating increases the surface tension of liquid crystal, the LCD empty boxes and direct contact with liquid crystal, avoid the use of irrigation sponge crystal groove; thereby not only avoid the sponge a the pollution is avoided between LCD empty boxes and sponge for direct contact powder generation pollution caused by liquid crystal perfusion.

【技术实现步骤摘要】
一种无介质灌液装置
本技术涉及一种灌液装置,尤其涉及一种无介质灌液装置。
技术介绍
如图2所示,现有的液晶灌注技术采用海绵条(4)吸附液晶灌注法,即在灌晶槽(2)内加入海绵条(4),然后在海绵条(4)上加注液晶,利用真空原理将液晶吸入LCD空盒(5)内。如图3所示,这种液晶灌注方法使LCD空盒(5)和海绵条(4)直接接触,在进行液晶灌注期间,由于LCD空盒(5)和海绵条(4)相互接触摩擦使海绵条(4)产生粉屑,造成粉屑污染;同时使得海绵条(4)清洗不干净,使海绵条(4)本身产生污染,最终造成液晶灌注不良。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本技术提出一种无介质灌液装置,本装置结构简单,避免了使用海绵条吸附液晶灌注法造成的LCD空盒内污染。为了达到上述目的,本技术的技术方案如下:一种无介质灌液装置,包括灌晶机和灌晶槽,所述灌晶槽设置在灌晶机内,且灌晶槽的表面喷镀有颗粒砂。作为优选,所述灌晶槽表面喷镀的颗粒砂直径为0.1mm。通过喷镀的颗粒砂增加液晶和灌晶槽的接触点,从而增加液晶表面的张力。作为优选,所述灌晶机内设置有制冷系统。作为优选,所述灌晶机内的温度为15~20℃。温度越高,液晶6表面张力本文档来自技高网...
一种无介质灌液装置

【技术保护点】
一种无介质灌液装置,其特征在于,包括灌晶机(1)和灌晶槽(2),所述灌晶槽(2)设置在灌晶机(1)内,且灌晶槽(2)的表面喷镀有颗粒砂(3)。

【技术特征摘要】
1.一种无介质灌液装置,其特征在于,包括灌晶机(1)和灌晶槽(2),所述灌晶槽(2)设置在灌晶机(1)内,且灌晶槽(2)的表面喷镀有颗粒砂(3)。2.根据权利要求1所述的无介质灌液装置,其特征在于,所述灌晶槽(2)表...

【专利技术属性】
技术研发人员:薛念红徐斌周娟刘琨
申请(专利权)人:江西省轩利丰科技有限公司
类型:新型
国别省市:江西,36

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