The present invention relates to a PECVD boat with at least one boat plate for holding a wafer, which is used for entering and leaving the vacuum coating chamber. A problem solved by the invention is used for a low quality of the wafer and the wafer to accommodate and out of the vacuum chamber of the PECVD boat, through the wafer capacity, more shorten the process cycle and heating and homogenization stage to achieve energy saving vacuum coating chamber production enhancement. The problem is solved in that boat plate (21) to establish the vertical, and has a plurality of plates in a boat (21) for the vertical upward opening to accommodate the wafer (22) U (23), accommodation slot by which is inserted into the accommodating slot (23) wafer (22) and boat in (21) the board line flush.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】PECVD舟
本专利技术涉及具有至少一个用于容纳晶圆的舟板的PECVD舟,用于进入和离开真空镀膜室。
技术介绍
PECVD舟用于例如等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。PECVD是一种将薄膜从气相沉积在基板(例如晶圆)上的固态层的方法。PECVD过程是在抽真空的真空室内进行,在这个PECVD过程中,将尽可能多的晶圆置于所谓的等离子体舟或由单个舟板组成的PECVD舟上,在真空室内被同时引入,并且在PECVD过程中,所有的晶圆均停留在这些等离子体舟上。为了能够执行PECVD过程,将用PECVD舟引入的晶圆以及PECVD舟自身加热到预定的过程温度是必要的。通常使用的PECVD舟或舟板,目前由电学上导电的材料制成,例如石墨或钛。图1(现有技术)的俯视图显示了根据现有技术以平放排列的方式用于容纳多个矩形或正方形晶圆11的PECVD舟的舟板10。为了将晶圆11牢固地固定于每个开槽12内,在开槽12的周围,舟板10的边框13上提供三根固定销14,以确保置于舟板10上的晶圆11在运送过程中不会滑动。为了实现尽可能大的晶圆容量,通常会使用合适的间隔件将多个这样的舟板10上下堆叠在一起,以形成具有更大晶圆容量的PECVD舟。PECVD舟一方面要满足在运送及沉积过程中将晶圆11牢固固定住的要求,另一方面经由PECVD舟或舟板将沉积过程所需的电位施加到晶圆是必要的。晶圆11放置或悬挂在舟板10上,其中在舟板10上,例如由石墨制成,的固定销14也建立必要的电接触。为了降低热质量,舟板10具有小于晶圆11的开槽12或开口,以确保每个晶圆11顶住舟板的环绕每个开口的框形区。因此,晶 ...
【技术保护点】
一种PECVD舟,其具有至少一个用于容纳晶圆的舟板,用于进入和离开真空镀膜室,其特征在于,所述舟板(21)为垂直树立,具有多个在所述舟板(21)的纵向上向上打开的用于容纳晶圆(22)的U形容纳狭槽(23),使得插入所述容纳狭槽(23)的晶圆(22)与所述舟板(21)的板线平齐。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.13 DE 102015105599.61.一种PECVD舟,其具有至少一个用于容纳晶圆的舟板,用于进入和离开真空镀膜室,其特征在于,所述舟板(21)为垂直树立,具有多个在所述舟板(21)的纵向上向上打开的用于容纳晶圆(22)的U形容纳狭槽(23),使得插入所述容纳狭槽(23)的晶圆(22)与所述舟板(21)的板线平齐。2.根据权利要求1所述的PECVD舟,其特征在于,每个容纳狭槽(23)由所述舟板(21)的侧向固定臂(24)和下部框架元件(25)所限定,使得插入所述容纳狭槽(23)的晶圆(22)被所述侧向固定臂(24)部分环绕。3.根据权利要求2所述的PECVD舟,其特征在于,设置三个容纳元件(26),所述侧向固定臂(24)和所述下部框架元件(25)分别具有一个容纳元件(26),所述容纳元件向...
【专利技术属性】
技术研发人员:T·科恩迈尔,HP·弗尔克,
申请(专利权)人:科恩迈尔特种石墨集团有限责任公司,
类型:发明
国别省市:德国,DE
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