玻璃熔体搅拌装置和玻璃基板生产系统制造方法及图纸
Glass melt agitator and glass substrate production system
The utility model relates to a liquid crystal display production field, discloses a device and a glass substrate production system of glass melt stirring, the glass melt stirring device comprises a glass melt stirring tank (1), (10) for insertion into the glass melt stirring rod (20), the glass melt stirring device also includes: the installation department (31), the installation of the Department to set the top in the stirred tank; and the glass liquid saturated gas to maintain, the glass liquid saturated gas to maintain the Department by the installation part is arranged in the mixing tank, the mixing tank to form a relatively closed glass liquid saturated gas space and the glass liquid saturated gas holding portion includes a heating element (34) and the test piece (35), the detecting element and the heating element is electrically connected to the gas liquid glass saturated gas storage space maintained at a predetermined temperature range, which can It is effective to avoid the escaping gas in the mixing tank to precipitate the crystal, and to improve the good quality and grade of the glass substrate.
【技术实现步骤摘要】
玻璃熔体搅拌装置和玻璃基板生产系统
本技术涉及液晶显示器生产领域，具体地涉及玻璃熔体搅拌装置和玻璃基板生产系统。
技术介绍
TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示屏)因其具有比TN-LCD(扭曲向列液晶显示屏)更高的对比度和更丰富的色彩，而逐渐成为液晶屏幕的主流，应用在电视、笔记本电脑、手机等各种电子设备上。在TFT-LCD显示器面板中，通常具有两层玻璃基板，分别是底层玻璃基板和彩色滤光片板。而TFT-LCD玻璃基板作为TFT陈列的载体，其良品率和品位直接影响着液晶屏的质量。现在用于生产TFT-LCD玻璃基板的方法主要有浮法、溢流熔融法、狭缝下拉法和溢流下拉法。无论是哪一种生产方法，为了避免玻璃熔体和其他材料接触带入氧化物等杂质，通常将在池窑中经预熔后形成的玻璃熔体直接通入到高熔点金属合金等制成的通道中进行玻璃熔体的澄清、均匀、冷却而输送到成型工序中进行成型。但是当玻璃熔体在搅拌装置被搅拌时，鉑金、氧化物澄清剂等容易挥发而逸出气体，这些气体在容易搅拌装置中遇冷、积聚而掉落到玻璃熔体中形成欠点，影响玻璃基板的产品产量。本
技术实现思路
本技术的目的是为了克服现有技术存在的逸出气...
【技术保护点】
一种玻璃熔体搅拌装置，包括用于容纳玻璃熔体(1)的搅拌槽(10)、用于插入到所述玻璃熔体(1)的搅拌棒(20)，其特征在于，所述玻璃熔体搅拌装置还包括：安装部(31)，该安装部(31)设置在所述搅拌槽(10)的顶部；和玻璃液饱和气维持部，该玻璃液饱和气维持部通过所述安装部(31)设置在所述搅拌槽(10)上，以在所述搅拌槽(10)中形成相对封闭的玻璃液饱和气容纳空间，所述玻璃液饱和气维持部包括加热件(34)和检测件(35)，所述检测件(35)与所述加热件(34)电连接以将所述玻璃液饱和气容纳空间中的气体维持在预定温度区间。
【技术特征摘要】
1.一种玻璃熔体搅拌装置，包括用于容纳玻璃熔体(1)的搅拌槽(10)、用于插入到所述玻璃熔体(1)的搅拌棒(20)，其特征在于，所述玻璃熔体搅拌装置还包括：安装部(31)，该安装部(31)设置在所述搅拌槽(10)的顶部；和玻璃液饱和气维持部，该玻璃液饱和气维持部通过所述安装部(31)设置在所述搅拌槽(10)上，以在所述搅拌槽(10)中形成相对封闭的玻璃液饱和气容纳空间，所述玻璃液饱和气维持部包括加热件(34)和检测件(35)，所述检测件(35)与所述加热件(34)电连接以将所述玻璃液饱和气容纳空间中的气体维持在预定温度区间。2.根据权利要求1所述的玻璃熔体搅拌装置，其特征在于，所述预定温度区间为1375-1460℃。3.根据权利要求1所述的玻璃熔体搅拌装置，其特征在于，所述安装部(31)为搅拌槽盖板，该搅拌槽盖板的形状与所述搅拌槽(10)的顶部开口形状相应，且大于所述顶部开口以与所述搅拌槽(10)的顶面贴合。4.根据权利要求3所述的玻璃熔体搅拌装置，其特征在于，所述搅拌槽盖板上设置有搅拌棒容纳孔，该搅拌棒容纳孔和贯穿该搅拌棒容纳孔的所述搅拌棒(20)之间具有间隙。5.根据权利要求1-4中任意一项所述的玻璃熔体搅拌装置，其特征在于，所述玻璃液饱和气维...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘纪军，李发强，冉彦军，
申请(专利权)人：东旭科技集团有限公司，东旭集团有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11
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