包含链上取代的花青染料的全息介质制造技术

本发明专利技术涉及包含可光聚合的组分和光引发剂体系的光聚合物组合物，该光引发剂体系含有链上取代的花青染料。本发明专利技术进一步提供包含本发明专利技术的光聚合物组合物的光聚合物、包含本发明专利技术的光聚合物的全息介质、本发明专利技术的全息介质的用途以及使用本发明专利技术的光聚合物制造全息介质的方法以及借助脉冲激光辐射曝光相应的全息介质。

The holographic medium containing chain substitution of cyanine dyes

The invention relates to a photopolymerizable composition and light induced light polymer composition agent system, the photoinitiator system comprising a cyanine dye chain substituted. Method of use of the invention further provides a holographic medium light polymer composition of the invention comprising the light, medium, light holographic polymer containing polymers of the invention of the invention and the invention of manufacturing photopolymer holographic medium and using pulsed laser radiation exposure holographic medium corresponding.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包含链上取代的花青染料的全息介质本专利技术涉及包含可光聚合的组分和光引发剂体系的光聚合物组合物，该光引发剂体系含有链上取代的花青染料。本专利技术进一步提供包含本专利技术的光聚合物组合物的光聚合物、包含本专利技术的光聚合物的全息介质、本专利技术的全息介质的用途以及使用本专利技术的光聚合物制造全息介质的方法以及借助脉冲激光辐射曝光相应的全息介质。一开始提到的类型的光聚合物组合物是现有技术中已知的。WO2008/125229A1例如描述了包含聚氨酯基质聚合物、基于丙烯酸酯的书写单体以及含共引发剂和染料的光引发剂的光聚合物组合物和可由其获得的光聚合物。在使用光聚合物时，由全息曝光产生的折射率调制Δn起到决定性的作用。在全息曝光时，通过书写单体，例如高折射率丙烯酸酯在干扰场中的高强度位置处的局部光聚合将信号光束和参考光束（在最简单的情况下为两个平面波）的干扰场绘制成折射率光栅。光聚合物中的折射率光栅（全息图）含有信号光束的所有信息。通过仅用参考光束照射全息图，随后可以再次重构信号。由此重构的信号的强度相对于入射参考光的强度被称作衍射效率，下文称作DE（如DiffractionEfficiency本文档来自技高网...

【技术保护点】
包含可光聚合的组分和光引发剂体系的光聚合物组合物，其特征在于该光引发剂体系含有式(I)的链上取代的花青染料

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.23 EP 15173234.41.包含可光聚合的组分和光引发剂体系的光聚合物组合物，其特征在于该光引发剂体系含有式(I)的链上取代的花青染料其中K是式(II)、(III)或(IV)的基团环A与N和X1和连接它们的原子一起，且环B与N和X2和连接它们的原子一起各自独立地为五元或六元芳族或似芳族或部分氢化的杂环的环，其可含有1至4个杂原子和/或可以苯并或萘并稠合和/或可以被C1-至C8-烷基、C3-至C6-烯基、C4-至C7-环烷基或C7-至C10-芳烷基、芳基、氟、氯、溴、甲氧基、乙氧基取代，其中式(I)的不饱和单元（*(C=K)-Q1）在相对于X1或X2的位置2或4处连接到环A或B上，X1是O、S、N-R7、CR9或CR11R12，X2是O、S、N-R8、CR10或CR13R14，Q1是氢、氰基或甲基，Q2是氢或氰基，Q3是氢或式(V)的基团其中Q1、Q2和Q3基团的至少一个不是氢，X3是O或S，X4是N或C-R6，X5是N、O或CR20R20，R1、R2、R7、R8、R15和R19各自独立地为C1-至C8-烷基、C3-至C6-烯基、C4-至C7-环烷基或C7-至C10-芳烷基，且R15可以另外是氢，R9和R10各自独立地为氢或C1-至C2-烷基，R11、R12、R13、R14和R20各自独立地为C1-至C4-烷基、C3-至C6-烯基、C4-至C7-环烷基或C7-至C10-芳烷基，或R11和R12一起和/或R13和R14一起形成–CH2-CH2-CH2-CH2-或–CH2-CH2-CH2-CH2-CH2-桥，并且另外R7、R9或R12可以与Q1一起形成–CH2-CH2-或–CH2-CH2-CH2-桥，R3和R4各自独立地为C1-至C8-烷基、C3-至C6-烯基、C4-至C7-环烷基、C7-至C10-芳烷基或C6-至C10-芳基，或R3、R4形成–CH2-CH2-CH2-CH2-、–CH2-CH2-CH2-CH2-CH2-、–CH2-CH2-O-CH2-CH2-、–CH2-CH2-NH-CH2-CH2-或–CH2-CH2-N(烷基)-CH2-CH2-桥，R5和R16各自独立地为氢、C1-至C8-烷基、C4-至C7-环烷基或C6-至C10-芳基，R6是氢、烷基或氰基，R17和R18各自独立地为氢、氯、甲基、乙基、甲氧基或乙氧基，n和m各自独立地为0或1，其中只有当n也是1时，m才是1，且An-代表一个阴离子的当量。2.根据权利要求1的光聚合物组合物，其特征在于Q1是氰基或与R12一起形成–CH2-CH2-CH2-桥，Q2是氢或氰基，优选氢，Q3是氢，环A与R1、N和X1和连接它们的原子一起是下式的基团R1是C1-至C8-烷基、C3-至C6-烯基、C4-至C7-环烷基或C7-至C10-芳烷基，R11和R12各自独立地为C1-至C4-烷基、C3-至C6-烯基、C4-至C7-环烷基或C7-至C10-芳烷基，或一起形成–CH2-CH2-CH2-CH2-或–CH2-CH2-CH2-CH2-CH2-桥，R21和R22各自独立地为氢、氯、硝基、氰基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、甲基、乙基、甲氧基或乙氧基，其中优选这两者仅一个不是氢，R23和R24各自独立地为氢、氯、氰基、甲基、乙基、甲氧基或乙氧基，其中优选这两者仅一个不是氢，环B与R2、N和X2和连接它们的原子一起是下式的基团R2是C1-至C8-烷基、C3-至C6-烯基、C4-至C7-环烷基或C7-至C10-芳烷基，R13和R14各自独立地为C1-至C4-烷基、C3-至C6-烯基、C4-至C7-环烷基或C7-至C10-芳烷基，或一起形成–CH2-CH2-CH2-CH2-或–CH2-CH2-CH2-CH2-CH2-桥，R25和R26各自独立地为氢、氯、硝基、氰基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、甲基、乙基、甲氧基或乙氧基，其中优选这两者仅一个不是氢，R27和R28各自独立地为氢、氯、氰基、甲基、乙基、甲氧基或乙氧基，其中优选这两者仅一个不是氢，X3是S，X4是N或C-R6，优选N，R3和R4各自独立地为C1-至C8-烷基、C3-至C6-烯基、C4-至C7-环烷基、C7-至C10-芳烷基或C6-至C10-芳基，或R3；R4形成–CH2-CH2-CH2-CH2-、–CH2-CH2-CH2-CH2-CH2-或–CH2-CH2-O-CH2-CH2-桥，R5是C1-至C8-烷基或C6-至C10-芳基，R6是氢或氰基，R15是氢、C1-至C8-烷基、C3-至C6-烯基、C4-至C7-环烷基或C7-至C10-芳烷基，R16是氢、C1-至C4-烷基、C5-至C6-环烷基或C6-芳基，R17和R18各自独立地为氢、氯、甲基或甲氧基，其中优选这两者仅一个不是氢，n和m各自独立地为0或1，其中只有当n也是1时，m才是1，且An-代表一个阴离子的当量。3.根据权利要求1和2的至少一项的光聚合物组合物，其特征在于Q1和Q2是氢，Q3是式(V)的基团，环A与R1、N和X1和连接它们的原子一起是下...

【专利技术属性】
技术研发人员：H贝尔内特，T费克，T罗勒，S科施特罗米内，FK布鲁德，D赫内尔，
申请(专利权)人：科思创德国股份有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE