用于镜片覆层的装置、方法和用途制造方法及图纸

提出了用于对镜片进行覆层的一种装置、一种方法以及一种用途，待覆层的镜片成对地布置在平行的管状靶材上方，这样它们分别地覆盖靶材的均质沉积区域和不均质沉积区域，并且镜片旋转，所以实现了特别均匀的覆层。

Devices, methods and uses for lens cladding

The invention relates to an apparatus for the cladding of a lens and a method of use, to be coated lenses are arranged in pairs above the tubular target parallel, homogeneous deposition area so that they respectively cover target and heterogeneous deposition area, and lens rotation, so to achieve a special uniform coating.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于镜片覆层的装置、方法和用途本专利技术涉及根据权利要求1的前序部分的一种用于对镜片进行覆层(coating，镀层，涂覆)的装置，根据权利要求16的前序部分的一种用于对镜片进行覆层的方法，以及根据权利要求18或20的前序部分的管状靶材用于对镜片进行覆层的用途。本专利技术一般涉及通过溅射进行的镜片覆层，而溅射也被称为阴极溅射。在此过程中，原子通过高能离子冲击而与固体(即所谓的靶材)分离，并且进入气相。特别地，本专利技术涉及所谓的磁控溅射，其中除了所施加的电场之外，在阴极和/或靶材之后还存在磁场。实际上，即使现有技术公开了许多不同的用于溅射的装置和方法，但仍难以实现待覆层的镜片的均匀覆层。DE4010495C2公开了一种用于通过溅射用材料给基板覆层的装置，该基板能够围绕固定轴线旋转，并且保持倾斜于基板表面的两个靶材被分配给基板。在此，无法实现或者至多只能费很大努力才能实现均匀的覆层。DE29505497U1公开了一种用于通过溅射对镜片进行覆层的覆层站，镜片以行星式布置在平面溅射源上方移动。在此，构建的努力是相当大的，并且以待覆层的镜片进行的对覆层站的进料是复杂的。此外，无法实现或者只能费很大努力才能实现最佳的均匀覆层。WO03/023813A1公开了一种用于通过脉冲磁控溅射对镜片进行覆层的设备，镜片沿着平行伸长的两个管状靶材的纵向延伸线性地移动，并且在此过程中还旋转。在此，无法实现或者至多只能费很大努力才能实现镜片的均匀覆层。本专利技术的目的是提供用于对镜片进行覆层的一种装置、一种方法和一种用途，能够以简单的结构和/或以简单的进料来实现镜片的特别是曲面的非常均匀的覆层。上述目的通过权利要求1所要求保护的装置、根据权利要求16所要求保护的方法或根据权利要求18或20所要求保护的用途来实现。有利的改进方案是从属权利要求的主题。根据本专利技术的一个方面，装置优选地具有细长的或管状的靶材，并且待覆层的镜片可以围绕相对于靶材固定的轴线旋转。特别地，在此过程中，镜片不能线性地移动，但是优选的是固定的布置，靶材和镜片优选地各自围绕固定的轴线旋转。因此，在低构建努力下可以实现尤其均匀的镜片覆层。根据本专利技术的另一方面，待覆层的镜片优选地在靶材的移除速率曲线的至少基本上均质的第一区域以及非均质的第二区域中都被保持在靶材上方，并且在此过程中旋转。因此，特别是曲镜片表面的尤其均匀的覆层成为可能。特别地，待覆层的镜片在端部区域或其附近被保持在优选细长的或管状的靶材上方。因此，可以尤其好地利用刚好朝向靶材的端部增加的输送速率，并因此提高雾化的靶材料的利用可以发生。根据本专利技术的另一方面，优选地使用两个细长的和/或管状的，特别是平行的靶材来对镜片的曲面进行覆层，镜片成对地布置在靶材上方，并且优选地围绕一个固定的轴线旋转。这使得简单且紧凑的结构成为可能，可以获得非常均匀的镜片覆层。根据本专利技术的另一方面，装置优选地包括一个支架(承载件，carrier)，该支架可与至少两个镜片一起可拆卸。这使得非常简单且快速的装置进料成为可能。根据本专利技术的同样可独立实施的另一方面，优选地，具有在其轴向延伸或纵向延伸上变化的外直径的一个靶材被用于对镜片进行覆层。因此，特别地可以影响速率曲线，特别地使其均匀化，和/或可以实现或促进在镜片上特别地非常均匀或者更均匀的覆层，或者镜片上的一些其他覆层特性。本专利技术的上述方面以及从进一步的描述中得出的特征和方面可以彼此独立地实施，但也可以以任何组合来实施。从权利要求书和以下使用附图对一种优选的示例性实施方案的描述中，本专利技术的其他方面、优点和特征将变得显而易见。图1示出了根据用于对镜片进行覆层的提案的装置的示意性截面；图2示出了装置的示意性俯视图；图3示出了具有示意性指示的速率曲线的装置的示意性侧视图；并且图4示出了根据图2但具有交替布置的镜片的装置的示意性俯视图。图1以非常示意性的截面示出了根据提案的用于对镜片2进行覆层的装置1，镜片优选地是光学或眼科镜片和/或眼镜镜片，特别是由塑料制成的镜片。装置1特别地设计用于通过溅射，也称为阴极溅射，对镜片2进行覆层。尤其优选地，发生所谓的磁控溅射。除了电力地施加的场之外，在此过程中还使用和/或施加了磁场；这将在下面详述。尤其优选地，根据本专利技术对镜片2的曲面，特别是凹面进行覆层。对于在右侧示出的镜片2，图1中示意性地指示了一个这样的曲面。然而，原则上也可以相应地对镜片2的凸面或其他表面进行覆层。装置1具有至少一个溅射源3，此处优选为两个溅射源3。装置1或相应的溅射源3具有一个靶材4，该靶材的材料在覆层和/或溅射期间中被移除，并且特别地与气氛的其他成分一起，在相应的镜片2或其待覆层的表面上形成所期望的覆层。图2以示意性俯视图示出了装置1或溅射源3。在所例示的实例中，将溅射源3和/或靶材4优选地制造成至少基本上细长的和/或管状的或圆柱形的。将靶材4特别地制造成中空的圆柱形的和/或管状的。溅射源3和/或靶材4优选地布置为彼此平行。优选地，靶材4可以围绕旋转轴线D转动或旋转。如图1和图2所指示的，旋转轴线D优选地在一个共同的平面中和/或特别地彼此平行地伸长，但是替代地，也可以彼此倾斜。旋转轴线D优选地对应于溅射源3的纵向轴线。尤其优选地，溅射源3和/或靶材4在结构上是相同的和/或相同地被构建，使得下面将主要仅详述一个溅射源3和/或一个靶材4的结构。然而，原则上也可以不同地制造溅射源3和靶材4。溅射源3优选地具有磁体布置5，其被分配给相应的靶材4，用于生成已经提到的磁场并因此产生定向的溅射云S，如图1中示意性地所指示的。特别地，磁体布置5位于相应的靶材4之下和/或之中。如图1所指示的，装置1具有电压源6，以便使溅射源3和/或靶材4特别是交替地作为阴极操作和/或以便能够特别地以脉冲的形式，将所需的电压施加到用于溅射的溅射源3和/或靶材4。尤其优选地，溅射源3和/或靶材4交替地以直流电(脉冲)被操作和/或被暴露。这也被称为“双极DC”。然后一个溅射源3和/或靶材4交替地用作阴极，而另一溅射源3和/或另一靶材4用作阳极。替代地，用交流电或其他模式操作是有可能的。替代地或额外地，可以使用一个或多个额外的或独立的阳极，即使这不是优选的。装置1优选地具有一个覆层室7，在其中进行覆层和/或溅射源3位于其中。溅射源3和/或靶材4优选地交替地作为阴极和阳极操作，导致壳体侧或确定的反电极不是必需的。特别地，覆层室7不被用作反电极。以这种方式，可以最小化反电极上的靶材料的不希望的脏污和/或沉积，和/或不管覆层室7的脏污，也可以实现尤其稳定的方法或覆层。因此，以这种方式可以减少所需的清洁和维护。此外，可以非常轻松地更换靶材4。这也有利于服务。能够以所期望的方式排空覆层室7，特别地借助于在此仅示意性指示的设备8(例如连接器、真空泵等)。装置1和/或覆层室7优选地具有示意性指示的气体供给装置9，特别是以延伸到覆层空间中的气体喷枪的形式。如图1所指示的，装置1优选地具有用于保持镜片2的一个支架10。为了说明的目的，支架10在图2和其他附图中未示出。待覆层的镜片2可以优选地各自围绕轴线A转动或旋转。装置1和/或支架10被设计用于镜片2的相应的旋转保持，并且特别地用于镜片的相应的驱动。特别地，装置1具有在图1中仅示意性地指示的相应本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于通过溅射，特别是磁控溅射，对镜片(2)进行覆层的装置(1)，具有至少一个靶材(4)，并且具有用于保持至少一个覆层的镜片(2)的支架(10)，所述靶材(4)设计为细长的或管状的，并且所述镜片(2)能够围绕中心的和/或与所述镜片(2)相交的轴线(A)旋转，其特征在于，所述轴线(A)相对于所述靶材(4)固定，和/或所述镜片(2)在相关的所述靶材(4)处布置于在覆层期间出现的移除速率曲线(P)的在所述靶材(4)的纵向延伸(L)中至少基本上均质、即变化小于5％的区域(B1)中，以及在所述靶材(4)的纵向延伸(L)中不均质的区域(B2)中，并且所述镜片能够相对于所述靶材(4)围绕固定的轴线(A)旋转，和/或所述支架(10)能够与能旋转地保持的至少两个镜片(2)一起更换，和/或所述靶材(4)的外直径在所述靶材(4)的纵向延伸(L)上变化，并且特别地朝向细长的所述靶材(4)的端部减小。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.16 EP 15001772.1;2015.06.17 EP 15001787.9;1.一种用于通过溅射，特别是磁控溅射，对镜片(2)进行覆层的装置(1)，具有至少一个靶材(4)，并且具有用于保持至少一个覆层的镜片(2)的支架(10)，所述靶材(4)设计为细长的或管状的，并且所述镜片(2)能够围绕中心的和/或与所述镜片(2)相交的轴线(A)旋转，其特征在于，所述轴线(A)相对于所述靶材(4)固定，和/或所述镜片(2)在相关的所述靶材(4)处布置于在覆层期间出现的移除速率曲线(P)的在所述靶材(4)的纵向延伸(L)中至少基本上均质、即变化小于5％的区域(B1)中，以及在所述靶材(4)的纵向延伸(L)中不均质的区域(B2)中，并且所述镜片能够相对于所述靶材(4)围绕固定的轴线(A)旋转，和/或所述支架(10)能够与能旋转地保持的至少两个镜片(2)一起更换，和/或所述靶材(4)的外直径在所述靶材(4)的纵向延伸(L)上变化，并且特别地朝向细长的所述靶材(4)的端部减小。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，在覆层期间所述镜片(2)既位于所述靶材(4)的移除速率曲线(P)的至少基本上均质的第一区域(B1)中，还位于不均质的第二区域(B2)中。3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述镜片(2)偏心地位于所述靶材(4)上方。4.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述支架(10)将所述镜片(2)保持在相对于所述靶材(4)固定的位置中。5.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，两个镜片(2)相对于所述靶材(4)的纵向延伸(L)对称地定位。6.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述支架(10)将两个镜片(2)保持在所述靶材(4)的相对端部区域上方。7.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述靶材(4)能够旋转。8.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置(1)具有两个细长的和/或管状的靶材(4)，所述靶材彼此平行地伸长和/或能够交替地作为阴极和阳极被操作。9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，四个镜片(2)位于或者被定位于所述靶材(4)上方，确切地说，在每种情况中两个镜片(2)在一个靶材(4)...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈特·施奈德，斯蒂芬·胡滕胡伊斯，马库斯·富尔，
申请(专利权)人：施耐德两合公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE