像素界定层及其制造方法、显示基板、显示面板技术

本发明专利技术公开了一种像素界定层及其制造方法、显示基板、显示面板，属于显示领域。包括：设置在衬底基板上的亲液材料层，所述亲液材料层包括多个亲液部，所述多个亲液部两两间隔设置，每个所述亲液部为环形结构，且每个所述亲液部用于限定一个像素区域；设置在所述亲液材料层远离所述衬底基板一侧的疏液材料层，所述疏液材料层填充在所述多个亲液部每两个相邻的亲液部之间，所述疏液材料层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离大于所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面到衬底基板的距离；其中，亲液材料层由亲液材料制成，疏液材料层由疏液材料制成。本发明专利技术提高了溶液在像素区域内的成膜均一性。本发明专利技术用于制造有机发光二极管的显示基板。

Pixel definition layer and its manufacturing method, display substrate, display panel

【技术实现步骤摘要】
像素界定层及其制造方法、显示基板、显示面板
本专利技术涉及显示领域，特别涉及一种像素界定层及其制造方法、显示基板、显示面板。
技术介绍
有机发光二极管(英文：OrganicLight-EmittingDiode；简称：OLED)显示面板包括阳极、空穴注入层、空穴传输层、有机材料膜层、电子传输层、电子注入层和阴极等。其中，有机材料膜层可以使用喷墨打印技术制造而成。在使用喷墨打印技术制造有机材料膜层时，需要先在玻璃基板上形成像素界定层，然后将溶解有机发光材料的溶液喷到形成有像素界定层的玻璃基板上，以形成有机材料膜层。相关技术中的像素界定层由树脂材料制成，且像素界定层在垂直于基板的表面的方向上的截面呈梯形。该像素界定层的材料与溶解有机发光材料的溶液的表面能具有较大的差异，喷墨打印时溶解有机发光材料的溶液在像素界定层的侧表面上会有一定程度的攀爬，从而影响该溶液在像素区域内的成膜均一性。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种像素界定层及其制造方法、显示基板、显示面板，可以解决相关技术中有机发光材料的溶液在像素界定层斜面上的攀爬影响溶液在像素区域内的成膜均一性的问题。所述技术方案如下：第一方面，提供了一种像素界定层，包括：设置在衬底基板上的亲液材料层，所述亲液材料层包括多个亲液部，所述多个亲液部两两间隔设置，每个所述亲液部为环形结构，且每个所述亲液部用于限定一个像素区域；设置在所述亲液材料层远离所述衬底基板一侧的疏液材料层，所述疏液材料层填充在所述多个亲液部每两个相邻的亲液部之间，所述疏液材料层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离大于所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离；其中，所述亲液材料层由亲液材料制成，所述疏液材料层由疏液材料制成。可选地，所述疏液材料层的第一表面在所述衬底基板上的正投影位于所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影内，所述第一表面为所述疏液材料层与所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面接触的表面。可选地，所述多个亲液部中的至少一个亲液部远离所述衬底基板的表面上设置有凹槽；所述凹槽在所述衬底基板上的正投影位于所述第一表面在所述衬底基板上的正投影内。可选地，所述亲液材料为导电材料。可选地，每个所述亲液部为方环形结构。第二方面，提供了一种像素界定层的制造方法，所述方法包括：采用亲液材料在衬底基板上形成亲液材料层，所述亲液材料层包括多个亲液部，所述多个亲液部两两间隔设置，每个所述亲液部为环形结构，且每个所述亲液部用于限定一个像素区域；采用疏液材料在所述亲液材料层远离所述衬底基板一侧形成疏液材料层，所述疏液材料层填充在所述多个亲液部每两个相邻的亲液部之间，所述疏液材料层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离大于所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离。可选地，所述疏液材料层的第一表面在所述衬底基板上的正投影位于所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影内，所述第一表面为所述疏液材料层与所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面接触的表面。可选地，在所述采用疏液材料在所述亲液材料层远离所述衬底基板一侧形成疏液材料层之前，所述方法还包括：在所述多个亲液部中至少一个亲液部远离所述衬底基板的表面上形成凹槽；所述凹槽在所述衬底基板上的正投影位于所述第一表面在所述衬底基板上的正投影内。可选地，所述在所述多个亲液部中至少一个亲液部远离所述衬底基板的表面上形成凹槽，包括：采用激光打孔或者图形化处理方法，在所述多个亲液部中至少一个亲液部远离所述衬底基板的表面上形成所述凹槽。可选地，所述衬底基板上形成有第一电极，所述采用亲液材料在衬底基板上形成亲液材料层，包括：在形成有所述第一电极的衬底基板上形成光刻胶图案，所述衬底基板上未被所述光刻胶图案覆盖的区域包括多个间隔形成的环形区域；采用亲液材料在形成有所述光刻胶图案的衬底基板上形成亲液材料膜层；去除所述亲液材料膜层中预设厚度的亲液材料，以使所述光刻胶图案暴露；剥离所述光刻胶图案。第三方面，提供了一种显示基板，所述显示基板包括：衬底基板、设置在所述衬底基板上的像素界定层、以及设置在所述衬底基板和所述像素界定层之间的第一电极，所述像素界定层为第一方面任一所述的像素界定层。可选地，所述第一电极与所述像素界定层中的亲液材料层由同种材料制成。可选地，所述第一电极与所述亲液材料层均由氧化铟锡ITO制成。可选地，所述显示基板还包括：设置在所述第一电极远离所述衬底基板一侧的有机发光层；设置在所述有机发光层远离所述衬底基板一侧的阻隔膜设置在所述阻隔膜远离所述衬底基板一侧的第二电极；其中，所述阻隔膜用于阻隔所述第一电极和所述第二电极。可选地，所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离小于所述有机发光层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离。可选地，制成所述阻隔膜的材料包括：氧化钼、氧化锌或氧化钛。第四方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括：第三方面任一所述的显示基板。本专利技术实施例提供的技术方案带来的有益效果是：本专利技术实施例提供的像素界定层及其制造方法、显示基板、显示面板，该像素界定层包括依次层叠设置在衬底基板上的亲液材料层和疏液材料层，疏液材料层远离衬底基板的表面到衬底基板的距离大于亲液材料层远离衬底基板的表面到衬底基板的距离，能够利用亲液材料层对溶液的吸引作用，保证溶液流入像素区域内，利用疏液材料层对溶液的排斥作用，抑制溶液在像素界定层上的攀爬，并且，疏液材料层填充在多个亲液部每两个相邻的亲液部之间，保证了像素界定层结构的稳定性，进而有效地提高了溶液在像素区域内的成膜均一性。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的一种像素界定层的结构示意图；图2是本专利技术实施例提供的一种亲液材料层中多个亲液部在衬底基板上的正投影的示意图；图3是本专利技术实施例提供的另一种像素界定层的结构示意图；图4是本专利技术实施例提供的一种像素界定层的制造方法的流程图；图5-1是本专利技术实施例提供的一种采用亲液材料在衬底基板上形成亲液材料层的方法流程图；图5-2-1是本专利技术实施例提供的一种在形成有阳极的衬底基板上形成光刻胶图案后的结构示意图；图5-2-2是本专利技术实施例提供的一种光刻胶图案在衬底基板上的俯视示意图；图5-3是本专利技术实施例提供的一种在形成有光刻胶图案的衬底基板上形成亲液材料膜层后的结构示意图；图5-4是本专利技术实施例提供的一种暴露出光刻胶图案，得到亲液材料层后的结构示意图；图5-5是本专利技术实施例提供的一种剥离光刻胶图案后的结构示意图；图5-6是本专利技术实施例提供的一种在多个亲液部中至少一个亲液部远离衬底基板的表面上形成凹槽后的结构示意图；图5-7是本专利技术实施例提供的一种在亲液材料层远离衬底基板一侧形成疏液材料层后的结构示意图；图6是本专利技术实施例提供的一种显示基板的结构示意图；图7是本专利技术实施例提供的一种显示基板的制造方法的流程图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种像素界定层，其特征在于，包括：设置在衬底基板上的亲液材料层，所述亲液材料层包括多个亲液部，所述多个亲液部两两间隔设置，每个所述亲液部为环形结构，且每个所述亲液部用于限定一个像素区域；设置在所述亲液材料层远离所述衬底基板一侧的疏液材料层，所述疏液材料层填充在所述多个亲液部每两个相邻的亲液部之间，所述疏液材料层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离大于所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离；其中，所述亲液材料层由亲液材料制成，所述疏液材料层由疏液材料制成。

【技术特征摘要】
1.一种像素界定层，其特征在于，包括：设置在衬底基板上的亲液材料层，所述亲液材料层包括多个亲液部，所述多个亲液部两两间隔设置，每个所述亲液部为环形结构，且每个所述亲液部用于限定一个像素区域；设置在所述亲液材料层远离所述衬底基板一侧的疏液材料层，所述疏液材料层填充在所述多个亲液部每两个相邻的亲液部之间，所述疏液材料层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离大于所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离；其中，所述亲液材料层由亲液材料制成，所述疏液材料层由疏液材料制成。2.根据权利要求1所述的像素界定层，其特征在于，所述疏液材料层的第一表面在所述衬底基板上的正投影位于所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影内，所述第一表面为所述疏液材料层与所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面接触的表面。3.根据权利要求2所述的像素界定层，其特征在于，所述多个亲液部中的至少一个亲液部远离所述衬底基板的表面上设置有凹槽；所述凹槽在所述衬底基板上的正投影位于所述第一表面在所述衬底基板上的正投影内。4.根据权利要求1至3任一所述的像素界定层，其特征在于，所述亲液材料为导电材料。5.根据权利要求1至3任一所述的像素界定层，每个所述亲液部为方环形结构。6.一种像素界定层的制造方法，其特征在于，所述方法包括：采用亲液材料在衬底基板上形成亲液材料层，所述亲液材料层包括多个亲液部，所述多个亲液部两两间隔设置，每个所述亲液部为环形结构，且每个所述亲液部用于限定一个像素区域；采用疏液材料在所述亲液材料层远离所述衬底基板一侧形成疏液材料层，所述疏液材料层填充在所述多个亲液部每两个相邻的亲液部之间，所述疏液材料层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离大于所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的距离。7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述疏液材料层的第一表面在所述衬底基板上的正投影位于所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影内，所述第一表面为所述疏液材料层与所述亲液材料层远离所述衬底基板的表面接触的表面。8.根据权利要求7所述的方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：王琳琳，罗程远，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11