用于光学处理系统的底盘及光学处理系统技术方案

本申请案针对于用于光学处理系统的底盘及光学处理系统。所述底盘包括：工作台，其经调适以用于在其上放置需要沉积的目标；及以下各项中的至少一者：装载站，其位于所述工作台的前部上以用于在其处装载供体元件，所述供体元件提供用于所述沉积的材料；多个可调整销，其沿着所述工作台的外围而定位且将所述目标围住；及处置箱，其经调适以用于在利用所述供体元件之后自动接纳所述供体元件。所述光学处理系统可提供比现有技术系统更准确、可靠、经济且容易的操作。

Chassis and optical processing system for optical processing system

This application is used for the chassis and optical processing system used in the optical processing system. The chassis includes a table, adapted to the need for placing on the deposition target; and at least one of the following: in the loading station, which is located in the front of the table for the loading of the donor element of the donor element is provided for the deposition of materials; a plurality of adjustable pin, the periphery along the table and the location and the target around; and the disposal box, after adjustment for automatic acceptance of the donor element after the donor element using the. The optical processing system can provide more accurate, reliable, economical and easy operation than the existing technical system.

【技术实现步骤摘要】
用于光学处理系统的底盘及光学处理系统
本技术一般来说涉及光学处理系统，且更明确地说，涉及光学沉积及/或烧蚀系统。
技术介绍
此项技术中已知各种类型的光学沉积及烧蚀系统。
技术实现思路
本文中以下所描述的本技术的实施例提供一种用于在特定沉积或烧蚀系统中进行光学处理的系统，所述系统提供比现有技术系统更准确、可靠、经济且容易的操作。因此，根据本技术的一实施例，提供一种用于光学处理系统的底盘，所述底盘包含经调适以用于在其上放置需要沉积的目标的工作台；及以下各项中的至少一者：(i)装载站，其位于所述工作台的前部上以用于在其处装载供体元件，所述供体元件提供用于所述沉积的材料；及(ii)多个可调整销，其沿着所述工作台的外围而定位且将所述目标围住；以及处置箱，其经调适以用于在利用所述供体元件之后自动接纳所述供体元件。在本技术的一实施例中，所述工作台包含具有第一延伸位置及第二缩回位置的真空工作台，所述真空工作台可在所述第一延伸位置与所述第二缩回位置之间滑动。在本技术的一实施例中，所述多个可调整销在所述真空工作台处于所述第一延伸位置时呈经升高配置，且在所述真空工作台沿着所述第一延伸位置与所述第二缩回位置之间的路本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光学处理系统的底盘，其特征在于，包括：工作台，其经调适以用于在其上放置需要沉积的目标；及以下各项中的至少一者：装载站，其位于所述工作台的前部上以用于在其处装载供体元件，所述供体元件提供用于所述沉积的材料，多个可调整销，其沿着所述工作台的外围而定位且将所述目标围住，及处置箱，其经调适以用于在利用所述供体元件之后自动接纳所述供体元件。

【技术特征摘要】
2016.03.09 US 62/305,557;2016.03.09 US 62/305,5381.一种用于光学处理系统的底盘，其特征在于，包括：工作台，其经调适以用于在其上放置需要沉积的目标；及以下各项中的至少一者：装载站，其位于所述工作台的前部上以用于在其处装载供体元件，所述供体元件提供用于所述沉积的材料，多个可调整销，其沿着所述工作台的外围而定位且将所述目标围住，及处置箱，其经调适以用于在利用所述供体元件之后自动接纳所述供体元件。2.根据权利要求1所述的底盘，其特征在于，所述工作台包括具有第一延伸位置及第二缩回位置的真空工作台，所述真空工作台可在所述第一延伸位置与所述第二缩回位置之间滑动。3.根据权利要求2所述的底盘，其特征在于，所述多个可调整销在所述真空工作台处于所述第一延伸位置时呈经升高配置且在所述真空工作台沿着所述第一延伸位置与所述第二缩回位置之间的路径时呈经降低配置。4.根据权利要求2或权利要求3所述的底盘，其特征在于，所述装载站位于所述真空工作台的前部部分上。5.根据权利要求4所述的底盘，其特征在于，所述装载站包括用于在其中插入所述供体元件的腔室以及用于将所述供体元件以磁性方式紧固在所述装载站中的一组磁体。6.根据权利要求5所述的底盘，其特征在于，所述装载站包括用于以光学方式检测所述供体元件的至少一个光学传感器。7.根据权利要求2或3所述的底盘，其特征在于，所述处置箱在所述真空工作台处于所述第一延伸位置时位于所述真空工作台后方且在所述真空工作台处于所述第二缩回位置时位于所述真空工作台下方。8.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的底盘，其特征在于，所述处置箱还包括用于感测所述处置箱的存在及定位的传感器。9.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的底盘，且其特征在于，还包括位于所述工作台上的大量校...

【专利技术属性】
技术研发人员：奥代德·莫，约哈·马纳什，达恩·阿隆，马克·罗宾·谢里登，
申请(专利权)人：奥宝科技有限公司，
类型：新型
国别省市：以色列,IL