一种反射率分布测量系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种反射率分布测量系统，属于光电子技术领域。该系统包括探测光产生装置、样品台、成像装置以及控制装置。样品台用于放置待测样品，成像装置位于样品台上放置的待测样品对于探测光产生装置发出的探测光束的反射光传播路径中，成像装置与控制装置耦合。当待测样品置于样品台上时，探测光产生装置发出的探测光束入射到待测样品表面的待测区域，由待测样品反射的探测光束入射到成像装置，在成像装置中所成的像被转换为电信号发送给控制装置。控制装置处理该电信号得到待测区域的反射图像，并根据该反射图像及基准图像得到该待测区域的反射率分布数据。这样能够有效地提高系统的采样率，减少检测时间，提高测量效率。

A measurement system for reflectance distribution

The utility model provides a reflectance distribution measurement system, which belongs to the field of optoelectronic technology. The system consists of a light detection device, a sample table, an imaging device, and a control device. The sample stage is used for placing the sample to be tested. The imaging device is placed on the sample stage to detect the sample to be detected, and the imaging device is coupled with the control device for detecting the reflected light propagation path of the detection beam emitted by the light generation device. When the sample is placed in the sample table, detecting light emitted by the probe beam incident to the test area on the surface of the sample to be measured, the beam incident to the imaging device is composed of a sample of reflection, in an imaging device and the image is converted into electrical signals sent to the control device. The control device processes the electrical signal to get the reflected image of the area to be measured, and obtains the reflectance distribution data of the detected area according to the reflected image and the reference image. This can effectively improve the sampling rate of the system, reduce the detection time and improve the measurement efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种反射率分布测量系统
本技术涉及光电子
，具体而言，涉及一种反射率分布测量系统。
技术介绍
对于高功率激光驱动系统的镀膜元件来说，要求膜层反射率不均匀性＜0.1％(峰谷值)。膜层反射率不均匀性会严重影响激光器出光光束质量，以及元件本身的使用寿命。现有的检测膜层反射率不均匀性的方法为逐点扫描法，这种方式分辨率(有效采样点数)低，耗费时间长，不能满足高功率激光驱动系统的大口径镀膜元件(通光口径大于400mm)的检测需求。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种反射率分布测量系统，能够有效地改善上述问题。为了实现上述目的，本技术采用的技术方案如下：第一方面，本技术实施例提供了一种反射率分布测量系统，包括探测光产生装置、样品台、成像装置以及控制装置。所述样品台用于放置待测样品，所述成像装置位于所述待测样品对所述探测光产生装置发出的探测光束的反射光传播路径中。所述成像装置与所述控制装置耦合。当待测样品置于所述样品台上时，所述探测光产生装置发出的探测光束入射到所述待测样品表面的待测区域，由所述待测样品反射的探测光束入射到所述成像装置，在所述成像装置中所成的像被转换为电信号发送给所述控制装置。所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反射率分布测量系统，其特征在于，包括探测光产生装置、样品台、成像装置以及控制装置，所述样品台用于放置待测样品，所述成像装置位于所述待测样品对所述探测光产生装置发出的探测光束的反射光传播路径中，所述成像装置与所述控制装置耦合；当待测样品置于所述样品台上时，所述探测光产生装置发出的探测光束入射到所述待测样品表面的待测区域，由所述待测样品反射的探测光束入射到所述成像装置，在所述成像装置中所成的像被转换为电信号发送给所述控制装置，以使所述控制装置根据所述电信号得到所述待测区域的反射图像，并根据所述反射图像及基准图像得到所述待测样品表面待测区域的反射率分布数据，其中，所述基准图像为所述成像装置采集的...

【技术特征摘要】
1.一种反射率分布测量系统，其特征在于，包括探测光产生装置、样品台、成像装置以及控制装置，所述样品台用于放置待测样品，所述成像装置位于所述待测样品对所述探测光产生装置发出的探测光束的反射光传播路径中，所述成像装置与所述控制装置耦合；当待测样品置于所述样品台上时，所述探测光产生装置发出的探测光束入射到所述待测样品表面的待测区域，由所述待测样品反射的探测光束入射到所述成像装置，在所述成像装置中所成的像被转换为电信号发送给所述控制装置，以使所述控制装置根据所述电信号得到所述待测区域的反射图像，并根据所述反射图像及基准图像得到所述待测样品表面待测区域的反射率分布数据，其中，所述基准图像为所述成像装置采集的所述探测光产生装置发出的探测光束的图像。2.根据权利要求1所述的反射率分布测量系统，其特征在于，所述探测光产生装置包括光源和光束调整模块，所述光源发出的初始光束经所述光束调整模块调整为满足预设条件的探测光束后入射到所述待测样品表面的待测区域。3.根据权利要求2所述的反射率分布测量系统，其特征在于，所述光束调整模块包括滤光片，所述光源发出的初始光束经过所述滤光片后形成的所述探测光束入射到所述待测样品表面的待测区域。4.根据权利要求2所述的反射率分布测量系统，其特征在于，所述光束调整模...

【专利技术属性】
技术研发人员：马骅，张霖，杨一，任寰，石振东，原泉，马玉荣，陈波，杨晓瑜，柴立群，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：新型
国别省市：四川,51