一种有机聚硅氧烷合成革及其制作方法技术

本申请公开了一种聚硅氧烷合成革及其制作方法，其包括从上至下依次叠加的聚硅氧烷表层、硅胶粘接层及基材层，聚硅氧烷表层由聚硅氧烷涂布液固化而成，硅胶粘接层硅胶涂布液固化而成，聚硅氧烷涂布液包含25～85份光敏性聚硅氧烷、0～20份光敏改性填料、0～20份填料、0～70份环保溶剂、0.7～5份光引发剂、0～20份光敏活性有机硅低聚物、0～1份色粉和0～0.1份铂催化剂；硅胶涂布液包含70～90份液体加成型硅橡胶、0～20份光敏改性填料及0～20份色膏。光敏性有机聚硅氧烷面层涂层赋予合成革爽滑性及防尘性，不影响革面离型纸造纹和摩擦色牢度，可方便地控制反应程度，保障了涂层间的粘接性，使合成革更加耐用，延长合成革的使用寿命。

An organic polysiloxane synthetic leather and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种有机聚硅氧烷合成革及其制作方法
本申请属于合成革
，具体地说，涉及一种聚硅氧烷合成革及其制作方法。
技术介绍
聚硅氧烷合成革的制作为近年来新开发的一种制革技术，相较于传统的PU和PVC革，聚硅氧烷能赋予合成革优异的环保性、抗过敏性、耐水解、耐污及耐高低温等性能。但硅胶材料摩擦系数较大，动摩擦系数一般大于2，爽滑性差，自粘接性差，限制了其应用，工业上常用的方法为硅胶表层喷涂一层哑光性手感油，增加其爽滑性，但哑光性手感油使用了大量溶剂，溶剂含量一般大于80％，喷涂施工污染浪费极大。目前市场上的硅胶类制品均采用该方式达到爽滑要求。本公司专利号3155409公开了一种硅胶面复合构造，详述了硅胶面复合材料的结构及制作方法，但专利中未公开硅胶材料具体配方及如何解决硅胶材料摩擦系数大，爽滑性差等问题。专利号201110032603.6公开了一种环保型有机硅合成革及制备方法，该方法采用固态硅橡胶压延技术进行合成革造纹，制备了环保型有机硅合成革，但由于受到固态硅橡胶的流变性及压延工艺所限，有机硅涂层不能做薄，产品僵硬，且无法满足合成革基本的爽滑度要求，实用性不佳。专利号201280003730.6公开了一种利用相互不同的液态硅橡胶涂布液制作合成皮革的方法，该方法在制成合成革后需对合成革进行再次喷涂哑光手感油达到爽滑效果，工艺繁锁，污染极大，且经再次涂饰处理后，皮革纹理会被涂饰层部分填埋，纹理立体效果差，纹面也只有哑光一种效果，无法做出亮面爽滑性纹路，专利号201410091143.8公开了一种三层结构的有机硅合成革及其制备方法，制作出柔软顺滑的有机硅合成革，但由于其面层使用的嵌段型有机硅树脂在固化成型后，脆性较大，且由于加成反应很难控制反应程度，其在固化后，表面几乎无专利中阐述的乙烯基存在，其与底层硅胶粘接性较差，所得合成革面层易开裂，脱落。同时前述已公开的有机硅合成革专利所述制作方法制作的合成革由于使用了色膏，存在摩擦色牢度不够的缺陷。
技术实现思路
针对现有技术中的问题，本专利技术的目的是进一步提供一种聚硅氧烷合成革及其制作方法。为了解决上述技术问题，本申请揭示了一种聚硅氧烷合成革，其包括从上至下依次叠加的聚硅氧烷表层、硅胶粘接层及基材层，聚硅氧烷表层由聚硅氧烷涂布液固化而成，硅胶粘接层硅胶涂布液固化而成，其中聚硅氧烷涂布液包含以下重量份的原料：光敏性聚硅氧烷25～85份光敏改性填料0～20份填料0～20份环保溶剂0～70份光引发剂0.7～5份光敏活性有机硅低聚物0～20份色粉0～1份铂催化剂0～0.1份；硅胶涂布液包含以下重量份的原料：液体加成型硅橡胶70～90份光敏改性填料0～20份色膏0～20份。根据本申请的一实施例，上述光敏性聚硅氧烷为含有光敏基团的线型或体型聚硅氧烷，其分子式如下：(R1R22SiO1/2)a(R23SiO1/2)b(R1R2SiO2/2)c(R2R2SiO2/2)d(R1SiO3/2)e(R2SiO3/2)f(SiO4/2)g其中，R1为光敏基团；R2为H-、CH3-、CH2＝CH-或苯基，a+c+e>2，2<a+b+c+d+e+f+g<500,光敏活性有机硅低聚物分子式如下：(R1R22SiO1/2)a(R23SiO1/2)b(R1R2SiO2/2)c(R22SiO2/2)d(R1SiO3/2)e(R2SiO3/2)f(SiO4/2)g，其中R1为光敏基团，R2为H-、CH3-、CH2＝CH-或苯基，a+c+e>1，3<a+b+c+d+e+f+g<10。根据本申请的一实施例，上述光敏改性填料为接有光敏基团的白炭黑、硅微粉、硅树脂及玻璃粉。根据本申请的一实施例，上述光敏基团为丙烯酸类基团、丙烯酸酯类基团、环氧类基团或乙烯基醚类基团。根据本申请的一实施例，上述液体加成型硅橡胶的黏度小于60万厘斯，固化物硬度不大于邵氏A70度。根据本申请的一实施例，上述环保溶剂为六甲基二硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、烷烃或烯烃的一种或多种的混合物。根据本申请的一实施例，上述光引发剂为苯乙酮衍生物和a-羟基酮衍生物的一种或两种的混合物。根据本申请的一实施例，上述聚硅氧烷表层的厚度不大于0.1mm，所述硅胶粘接层的厚度为0.2～1mm。本专利技术还公开了一种有机聚硅氧烷合成革的制作方法，其包括以下步骤：将聚硅氧烷涂布液涂覆于离型纸，于离型纸上固化，形成聚硅氧烷表层；将硅胶涂布液涂覆于所述聚硅氧烷表层上，涂覆完毕后贴覆基材层，再烘烤固化，形成硅胶粘接层和基材层；及剥离所述离型纸，制得聚硅氧烷合成革；根据本申请的一实施例，制得所述聚硅氧烷合成革后，将聚硅氧烷合成革用紫外光照射固化。与现有技术相比，本专利技术可以获得包括以下技术效果：本专利技术的聚硅氧烷合成革及其制作方法，通过紫外光固化形成聚硅氧烷表层，在与硅胶粘接层通过光敏基团进一步光固化粘接或者通过加成反应粘接而制得成品，透明或半透明的光敏性聚硅氧烷表层涂层赋予合成革爽滑性及防尘性等，同时不影响革面离型纸造纹和摩擦色牢度，另外可方便地控制反应程度，通过在涂层间预留反应基团，保障了涂层间的粘接性，使合成革更加耐用，延长合成革的使用寿命。具体实施方式以下将揭露本申请的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本申请。也就是说，在本申请的部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。实施例1合成光敏性聚硅氧烷，将0.065mol六甲基二硅氧烷、0.01mol四甲基二硅氧烷、0.65mol二甲基二乙氧基硅烷及0.21mol正硅酸乙酯加入三口烧瓶，再向三口烧瓶内滴加72克浓度为1％盐酸水溶液，于1小时滴完。再升温至回流温度并反应4小时，再静置分层。除去上层的醇水层后，再加入相当于溶液总重量的万分之五的三氟甲磺酸，再升温至80℃并维持真空，用分水器分离出产生的水。反应至无水产生后，降温至室温，加入1克碳酸氢钠中和产物。最后，向上述产物加入0.021mol三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和相当于总质量千分之五阻聚剂，12ppm氯铂酸，于80℃反应至透明后继续反应2小时，即制得光敏性聚硅氧烷。合成光敏活性有机硅低聚物，将0.6mol甲基乙烯基二甲氧基硅烷和0.3molγ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷加入三口烧瓶，滴加72克浓度为2％醋酸水溶液，升温至回流温度并反应4小时，再静置分层，除去醇水，即得到光敏活性有机硅低聚物。配置聚硅氧烷涂布液，将55份光敏性聚硅氧烷、20份疏水性白炭黑、20份光敏活性有机硅低聚物、5份光引发剂(由1173引发剂和184引发剂按1：1配合)、0.1份铂催化剂(以Pt计)及1份色粉充分混合，其中光敏性聚硅氧烷的分子式为：(R(CH3)2SiO1/2)2((CH3)3SiO1/2)13((CH3)2SiO2/2)65(SiO4/2)21,(R为：)，光敏活性有机硅低聚物的分子式为(CH2＝CH(CH3)SiO2/2)6(RSiO3/2)3,(R为)。配置硅胶涂布液，将80份双组份液体加成型硅橡胶和20份色膏充分混合，其中双组份液体加成型硅橡胶包含比例为1:1的液体加成型硅橡胶A和液体加成型硅橡胶B，其黏度为60本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚硅氧烷合成革，其特征在于，包括从上至下依次叠加的聚硅氧烷表层、硅胶粘接层及基材层，所述聚硅氧烷表层由聚硅氧烷涂布液固化而成，所述硅胶粘接层硅胶涂布液固化而成，其中所述聚硅氧烷涂布液包含以下重量份的原料：光敏性聚硅氧烷25～85份光敏改性填料0～20份填料0～20份环保溶剂0～70份光引发剂0.7～5份光敏活性有机硅低聚物0～20份色粉0～1份铂催化剂(以Pt计)0～0.1份；所述硅胶涂布液包含以下重量份的原料：液体加成型硅橡胶70～90份光敏改性填料0～20份色膏0～20份。

【技术特征摘要】
1.一种聚硅氧烷合成革，其特征在于，包括从上至下依次叠加的聚硅氧烷表层、硅胶粘接层及基材层，所述聚硅氧烷表层由聚硅氧烷涂布液固化而成，所述硅胶粘接层硅胶涂布液固化而成，其中所述聚硅氧烷涂布液包含以下重量份的原料：光敏性聚硅氧烷25～85份光敏改性填料0～20份填料0～20份环保溶剂0～70份光引发剂0.7～5份光敏活性有机硅低聚物0～20份色粉0～1份铂催化剂(以Pt计)0～0.1份；所述硅胶涂布液包含以下重量份的原料：液体加成型硅橡胶70～90份光敏改性填料0～20份色膏0～20份。2.根据权利要求1所述的聚硅氧烷合成革，其特征在于，所述光敏性聚硅氧烷为含有光敏基团的线型或体型聚硅氧烷，其分子式如下：(R1R22SiO1/2)a(R23SiO1/2)b(R1R2SiO2/2)c(R22SiO2/2)d(R1SiO3/2)e(R2SiO3/2)f(SiO4/2)g(请规范写出结构式,区分上下标)其中，R1为光敏基团，R2为H-、CH3-、CH2＝CH-或苯基，a+c+e>2，2<a+b+c+d+e+f+g<500；所述光敏活性有机硅低聚物分子式如下：(R1R22SiO1/2)a(R23SiO1/2)b(R1R2SiO2/2)c(R22SiO2/2)d(R1SiO3/2)e(R2SiO3/2)f(SiO4/2)g，其中，R1为光敏基团；R2为H-、CH3-、CH2＝CH-或苯基，a+c+e>1...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢朝辉，黄胜，杨家昌，吴长林，张再成，邓军，焦冬生，
申请(专利权)人：惠州赛力珑新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44