一种清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种清洗装置，涉及清洗设备技术领域，包括输送机构、清洗机构和集液装置，清洗机构包括镜像分布的左清洗机构和右清洗机构，且左清洗机构和右清洗机构分别由驱动电机、转动托辊和输送带组成，清洗机构包括支撑架、穿过支撑架内的水管一以及安装在支撑架上的高压喷头，集液装置包括集液槽和供液箱，供液箱位于左清洗机构的正下方，本发明专利技术通过流水线式的对液晶显示屏面板进行清洗，提高了清洗效率和清洗质量，清洗的液体可循环利用，不会造成清洗液的浪费，节约了资源，降低了清洗成本。

A cleaning device

The invention discloses a cleaning device, relates to the technical field of cleaning equipment, including a conveying mechanism, a cleaning mechanism and a liquid collecting device, a cleaning mechanism includes a mirror cleaning mechanism and the distribution of the left and right cleaning mechanism, a cleaning mechanism and a cleaning mechanism of left right respectively by the drive motor, the rotating roller and the conveyor belt, cleaning mechanism includes a supporting frame, a supporting frame through a pipe and mounted on the support of high pressure nozzle, a liquid collecting device comprises a collecting tank and a liquid supply box, just below the supply tank is located on the left of the cleaning mechanism, the cleaning of line type liquid crystal display panel, improves the cleaning efficiency and quality. The cleaning liquid can be recycled, will not cause the cleaning liquid waste, saving resources, reducing the cost of cleaning.

【技术实现步骤摘要】
一种清洗装置
本专利技术属于清洗设备
，具体地说，本专利技术涉及一种清洗装置。
技术介绍
在液晶显示面板制造行业，TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)基板上的金属图案通常采用湿法蚀刻形成。采用湿法蚀刻之后，需要喷嘴喷淋水，从而将所述TFT基板之上残留的刻蚀液洗净。但是现有的清洗设备较为简陋，自动化程度较低，清洗效率较低，而且在清洗过程中，清洗液在使用过程中造成大量的浪费。
技术实现思路
本专利技术提供一种清洗装置，通过箱体的滑动结构可以箱体内部空间的大小根据需要进行改变。为了实现上述目的，本专利技术采取的技术方案为：一种清洗装置，包括输送机构、清洗机构和集液装置，所述清洗机构包括镜像分布的左清洗机构和右清洗机构，且左清洗机构和右清洗机构分别由驱动电机、转动托辊和输送带组成，转动托辊的两端分别由竖立在水平面的支架支撑，且转动托辊倾斜设置，输送带安装在转动托辊上，且输送带上安装有板件固定装置，驱动电机安装在设于水平面的一上端面为斜面的支撑座上，且通过皮带与转动托辊连接，所述清洗机构包括支撑架、穿过支撑架内的水管一以及安装在支撑架上的高压喷头，所述支撑架为T型结构且本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洗装置，包括输送机构、清洗机构和集液装置，其特征在于：所述清洗机构包括镜像分布的左清洗机构和右清洗机构，且左清洗机构和右清洗机构分别由驱动电机(2)、转动托辊(5)和输送带(29)组成，转动托辊(5)的两端分别由竖立在水平面的支架支撑，且转动托辊(5)倾斜设置，输送带(29)安装在转动托辊(5)上，且输送带(29)上安装有板件固定装置，驱动电机(2)安装在设于水平面的一上端面为斜面的支撑座(1)上，且通过皮带(3)与转动托辊(5)连接，所述清洗机构包括支撑架(10)、穿过支撑架(10)内的水管一(27)以及安装在支撑架(10)上的高压喷头(7)，所述支撑架(10)为T型结构且上端对称分布...

【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，包括输送机构、清洗机构和集液装置，其特征在于：所述清洗机构包括镜像分布的左清洗机构和右清洗机构，且左清洗机构和右清洗机构分别由驱动电机(2)、转动托辊(5)和输送带(29)组成，转动托辊(5)的两端分别由竖立在水平面的支架支撑，且转动托辊(5)倾斜设置，输送带(29)安装在转动托辊(5)上，且输送带(29)上安装有板件固定装置，驱动电机(2)安装在设于水平面的一上端面为斜面的支撑座(1)上，且通过皮带(3)与转动托辊(5)连接，所述清洗机构包括支撑架(10)、穿过支撑架(10)内的水管一(27)以及安装在支撑架(10)上的高压喷头(7)，所述支撑架(10)为T型结构且上端对称分布在左清洗机构和右清洗机构中的输送带(29)的上方，所述高压喷头(7)的进水端与水管一(27)连通，所述集液装置包括集液槽(22)和供液箱(16)，集液槽(22)镜像分布在左清洗机构和右清洗机构中的输送带(29)的一侧，集液槽(22)的靠近输送带(29)的侧壁上设有倾斜的导流板，且导流板位于输送带(29)的下方，所述供液箱（16）位于左清洗机构的正下方，所述供液箱（16）通过隔板将供液箱（16）的内部分为上腔（15）、左下腔（14）和右下腔（17），所述左下腔（14）分别与上腔（15）和右下腔（17）连通，上腔（15）内设有压力泵一（19），所述右下腔（17）内设有压力泵二（18），两个集液槽（22）均通过水管二（25）与压力泵一（19）连通，所述压力泵二（18）与水管一（27）连通，所述供液箱（16）的上端设有清洗液箱（12）且清洗液箱（12）通过进液管与上腔（15）连通，左下腔（14）内设有一转...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱玉珠，陈丹丹，范意珍，
申请(专利权)人：深圳爱易瑞科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44